Chemically amplified molecular resist based on fullerene derivative for nanolithography

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering

Volumn 6923, Issue , 2008, Pages

  Yamamoto, Hiroki ^a   Kozawa, Takahiro ^a   Tagawa, Seiichi ^a   Ando, Tomoyuki ^b   Ohmori, Katsumi ^b   Sato, Mitsuru ^b   Onodera, Junichi ^b  

^a OSAKA UNIVERSITY   (Japan)

^b TOKYO OHKA KOGYO CO LTD   (Japan)

Author keywords

Chemically amplified resist; Electron beam; Fullerene derivative; Molecular resist

Indexed keywords

ACIDS; ELECTRON BEAMS; ELECTRON GUNS; FULLERENES; NANOLITHOGRAPHY; PARTICLE BEAMS; PHOTORESISTORS; PHOTORESISTS;

ACID GENERATORS; CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST; EB RESISTS; ETCHING RATES; EXPOSURE TOOLS; FULLERENE DERIVATIVE; FULLERENE DERIVATIVES; HIGH RESOLUTIONS; HIGH SENSITIVITIES; MOLECULAR RESIST; MOLECULAR RESISTS; PROCESS CONDITIONS;

DERIVATIVES;

EID: 57349173018     PISSN: 0277786X     EISSN: None     Source Type: Conference Proceeding    
DOI: 10.1117/12.771835     Document Type: Conference Paper

References (26)

1. Y. Shirota, J. Mater. Chem. 10 1 (2000)
2. J. Dai, S. W. Chang, A. Hamad, D. Yang, N. Felix, C. K. Ober, Chem. Mater. 18 3404 (2006)
3. D. Btatton, D. Yang, J. DFai, C. K. Ober, Polymers for Advanced Technology 17 94 (2006)
4. F. Diederich, C. Thilgen, Science 271 317 (1996)
5. M. Yoshiiwa, H. Kageyama, Y. Shirota, F. Wakaya, K. Gamo, M. Takai, Appl. Phys. Lett. 69, 2605 (1996).
6. J. Fujita, Y. Ohnishi, Y. Ochiai, S. Matsui, Appl. Phys. Lett. 68, 1297 (1996).
7. J. Fujita, H. Watanabe, Y. Ochiai, S. Manako, J. S. Tsai, S. Matsui, Appl. Phys. Lett. 66, 3064 (1995).
8. H. W. Kroto, J. R. Heath, S. C. O'Brien, R. F. Curl and R. E. Smalley, Nature 318, 162 (1985).
9. A. M. Rao, Ping Zhou, Kai-An Wang, G. T. Hager, J. M. Holden, Ying Wang, W.-T. Lee, Xiang-Xin Bi, P. C. Eklund, D. S. Cornett, M. A. Duncan, I. J. Amster Science 259, 955 (1993).
10. B.Eklund. A. M. Rao, P. Zhou, K. A. Wang, G. T. Hager, J. M. Holden, Y. Wang, W. T. Lee, X. L. Bi, P. C. Eklund, D. S. Cornett, M. A. Duncan, and I. J. Amster, Science 259, 955 (1993).
11. G. P. Lopinski, J. R. Fox, J. S. Lannin, Chem. Phys. Lett. 239 107 (1995).
12. A. Ito, T. Morikawa, T. Takahashi, Chem. Phys. Lett. 211 333 (1993).
13. C.B. Eom, A. F. Hebard, L. E. Trimble, G. K. Celler, R. C. Haddon, Science 259 1887 (1993).
14. T. Ishii, H. Nozawa, T. Tamamura, Microelectron. Eng. 35 113 (1997).
15. A. F. Hebard, C. B. Eom, R. M. Fleming, Y. J. Chabal, A. J. Muller, C. B. Glarum, G. J. Pietsch, R. C. Haddon, A. M. Mujsce, M. A. Paczkowski, P. Kochanski, Appl. Phys. 37 4211 (1998).
16. T. Tada and T. Kanayama, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 35, L63 (1996).
17. T. Tada and T. Kanayama, J. Photopolym. Sci. Technol, 10 647 (1997).
18. R. E. Haufler, J. Conceicao, L. P. F. Chibante, Y. Chai, N. E. Byrne, S. Flanagan, M. M. Haley, S. C. O'Brien, C. Pan, Z. Xiao, W. E. Billups, M. A. Ciufolini, R. H. Hauge, J. L. Margrave, L. J. Wilson, R. F. Curl, R. E. Smalley, J. Phys. Chem. 94 8634 (1990).
19. A. P. G. Robinson, R. E. Palmer, T. Tada, T. Kanayama and J. A. Preece, Appl. Phys. Lett. 72 1302 (998)
20. A. P. G. Robinson, R. E. Palmer, T. Tada, T. Kanayama, E. J. Shelley, D. Philp and J. A. Preece, Chem. Phys. Lett. 312 469 (1999).
21. H. Klesper, R. Baumann, J. Bargon, J. Hormes, H. Zumaqué- Díaz and G. A. Koring, Appl. Phys. A 80 1469 (2005)
22. C. Coenjarts, J. Cameron, N. Deschamps, D. Hambly, G. Pohlers, J. C. Scaiano, R. Sinta, S. Virdee and A. Zampini, Proc. SPIE 3678, 1062 (1999).
23. G. Pohlers, J. C. Scaiano and R. Sinta, Chem. Mater. 9, 3222 (1997).
24. D. Yao, Z. R. Lian, W. F. Wang, J. S. Zhang, N. Y. Lin, H. Q. Hou, Z. M. Zhang and Q. Z. Qin Chem, Phys. Lett. 239 112 (1995).
25. Y. Lu, S. D. YaO, W. Z. Lin, W. F. Wang, N. Y. Lin, Y. P. Tong and T. W. Rong, Radiat. Phys. Chem. 53 137 (1998).
26. Kozawa, A. Saeki and S. Tagawa, J. Vac. Sci. Technol. B22 3489 (2004).