High-throughput and etch-selective nanoimprinting and stamping based on fast-thermal-curing poly(dimethylsiloxane)s

Advanced Materials

Volumn 19, Issue 9, 2007, Pages 1222-1227

  Pina Hernandez, Carlos ^a   Kim, Jin Sung ^a   Guo, L Jay ^a   Fu, Peng Fei ^b  

^a UNIVERSITY OF MICHIGAN   (United States)

^b DOW CORNING CORPORATION   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CROSSLINKING; CURING; LITHOGRAPHY; PLASMAS; POLYMETHYL METHACRYLATES; REACTIVE ION ETCHING;

CROSSLINKER; OXYGEN PLASMA; PATTERN TRANSFER;

POLYDIMETHYLSILOXANE;

EID: 34250625505     PISSN: 09359648     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/adma.200601905     Document Type: Article

References (40)

1. S. Y. Chou, P. R. Krauss, P. J. Renstrom, Science 1996, 272, 85.
2. S. Y. Chou, P. R. Krauss, P. J. Renstrom, Appl. Phys. Lett. 1995, 21, 3114.
3. A. Pepin, P. Youinou, V. Studer, A. Lebib, Y. Chen, Microelectron. Eng. 2002, 927.
4. D. Falconnet, D. Pasqui, S. Park, R. Eckert, H. Schift, J. Gobrecht, R. Barbucci, M. Textor, Nano Lett. 2004, 4, 1909.
5. J. D. Hoff, L. J. Cheng, E. Meyhofer, L. J. Quo, A. J. Hunt, Nano Lett. 2004, 4, 853.
6. J. D. Hoff, A. Hunt, Biophys. J. 2003, 84, 292 A.
7. R. Bunk, P. Carlberg, A. Mansson, I. A. Nicholls, P. Omling, M. Sundberg, S. Tagerud, L. Montelius, Jpn. J. Appl. Phys. Part 1 2005, 44, 3337.
8. T. Martensson, P. Carlberg, M. Borgstrom, L. Montelius, W. Seifert, L. Samuelson, Nano Lett. 2004, 4, 699.
9. G. M. McClelland, M. W. Hart, C. T. Rettner, M. E. Best, K. R. Carter, B. D. Terris, Appl. Phys. Lett. 2002, 8, 1483.
10. J. Moritz, L. Buda, B. Dieny, J. P. Nozieres, R. J. M. van de Veerdonk, T. M. Crawford, D. Weller, Appl. Phys. Lett. 2004, 9, 1519.
11. W. Wu, B. Cui, X. Y. Sun, W. Zhang, L. Zhuang, L. S. Kong, S. Y. Chou, J. Vac. Sci. Technol. B 1998, 16, 3825.
12. S. W. Ahn, K. D. Lee, J. S. Kim, S. H. Kim, J. D. Park, S. H. Lee, P. W. Yoon, Nanotechnology 2005, 16, 1874.
13. Y. Ekinci, H. H. Solak, C. David, H. Sigg, Opt. Express 2006, 10, 2323.
14. X. Cheng, Y. T. Hong, J. Kanicki, L. J. Guo, J. Vac. Sci. Technol. 2002, 6, 2877.
15. P. C. Kao, S. Y. Chu, T. Y. Chen, C. Y. Zhan, F. C. Hong, C. Y. Chang, L. C. Hsu, W. C. Liao, M. H. Hon, IEEE Trans. Electron Devices 2005, 8, 1722.
16. J. Wang, H. Kostal, Laser Focus World 2005, 12, 76.
17. T. W. Odom, J. C. Love, D. B. Wolfe, K. E. Paul, G. M. Whitesides, Langmuir 2002, 18, 5314.
18. H. Kang, J. Lee, J. Park, H. H. Lee, Nanotechnol. 2006, 17, 197.
19. F. Hua, A. Gaur, Y. G. Sun, M. Word, N. Jin, I. Adesida, M. Shim, A. Shim, J. A. Rogers, IEEE Trans. Nanotechnol. 2006, 3, 301.
20. E. Mele, F. Di Benedetto, L. Persano, R. Cingolani, D. Pisignano, J. Vac. Sci. Technol. 2006, 2, 807.
21. R. B. A. Sharpe, B. J. F. Titulaer, E. Peeters, D. Burdinski, J. Huskens, H. J. W. Zandvliet, D. N. Reinhoudt, B. Poelsema, Nano Lett. 2006, 6, 1235.
22. Y. N. Xia, G. M. Whitesides, Annu. Rev. Mater. Sci. 1998, 28.
23. C. Y. Hui, A. Jagota, Y. Y. Lin, E. J. Kramer, Langmuir 2002, 18, 1394.
24. H. Schmid, B. Michel, Macromolecules 2000, 33, 3042.
25. L. Malaquin, C. Vieu, in Alternative Lithography: Unleashing the Potentials of Nanotechnology (Ed: C. M. Sotomayor Torres), Kluwer Acadmeic, New York 2003, Ch. 8.
26. L. Malaquin, F. Carcenac, C. Vieu, M. Mauzac, Microelectron. Eng. 2002, 379.
27. P. Auroy, L. Auvray, L. Leger, Macromolecules 1991, 24, 5158.
28. H. Brunner, T. Vallant, U. Mayer, H. Hoffmann, Langmuir 1996, 12, 4614.
29. X. Cheng, L. J. Guo, P. F. Fu, Adv. Mater. 2005, 17, 1419.
30. P. Choi, P. F. Fu, L. J. Guo, Adv. Funct. Mater. 2007, 17, 65.
31. L. N. Lewis, J. Stein, R. E. Colborn, Y. Gao, J. Dong, J. Organomet. Chem. 1996, 521, 221.
32. L. J. Guo, Adv. Mater. 2007, 19, 495.
33. P. Ruchhoeft, M. Colburn, B. Choi, H. Nounu, S. Johnson, T. Bailey, S. Damle, M. Stewart, J. Ekerdt, S. V. Sreenivasan, J. C. Wolfe, C. G. Willson, J. Vac. Sci. Technol. 1999, 6, 2965.
34. M. D. Stewart, S. C. Johnson, S. V. Sreenivasan, D. J. Resnick, C. G. Willson, C. G. J. Microlithogr., Microfabr., Microsyst. 2005, 1, 011002.
35. D. W. Li, L. J. Guo, Appl. Phys. Lett. 2006, 6, 063513.
36. C. J. Campbell, S. K. Smoukov, K. J. M. Bishop, B. A. Grzybowski, Langmuir 2005, 21, 2637.
37. S. K. Smoukov, personal communication.
38. S. Ahn, K. Lee, J. Kim, S. H. Kim, J. Park, S. H. Lee, P. Yoon, Microelectron. Eng. 78-79, 314.
39. M. E. Walsh, M. Sc. Thesis, Massachusetts Institute of Technology 2000.
40. G. B. Onoa, T. B. O'Reilly, M. E. Walsh, H. I. Smith, Nanotechnology 2005, 16, 2799.