Growth of ZnO nanostructures produced by MOCVD: A study of the effect of the substrate

Chemical Vapor Deposition

Volumn 14, Issue 5-6, 2008, Pages 115-122

  Scalisi, Alfio A ^a   Toro, Roberta G ^a   Malandrino, Graziella ^a   Fragalà, Maria E ^a   Pezzotti, Giuseppe ^b  

^a UNIVERSITY OF CATANIA   (Italy)

^b KYOTO INSTITUTE OF TECHNOLOGY   (Japan)

Author keywords

Cathodoluminescence; Green emission; Nanostructures; Optical properties; ZnO

Indexed keywords

AMINES; CATHODOLUMINESCENCE; CRYSTALLINE MATERIALS; EMISSION SPECTROSCOPY; LIGHT EMISSION; LUMINESCENCE; METALLORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; NANOSTRUCTURED MATERIALS; NANOSTRUCTURES; OPTICAL MATERIALS; OPTICAL PROPERTIES; SEMICONDUCTING ZINC COMPOUNDS; SILICON; ZINC; ZINC ALLOYS; ZINC OXIDE;

CATHODOLUMINESCENCE SPECTROSCOPIES; CRYSTALLINE STRUCTURES; DIAMINE ADDUCTS; FREE METALS; GREEN BANDS; GREEN EMISSION; NANOSTRUCTURED SYSTEMS; ORGANIC; SI(100); STRUCTURAL CHARACTERIZATIONS; SUBSTRATE MISMATCHES; TETRAMETHYLETHYLENEDIAMINE; ZINC BISES; ZNO; ZNO NANOSTRUCTURES;

SUBSTRATES;

EID: 54949101961     PISSN: 09481907     EISSN: 15213862     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/cvde.200706674     Document Type: Article

References (51)

1. Ü. Özgür, Y. I. Alivov, C. Liu, A. Teke, M. A. Reshchikov, S. Doǧan, V. Avrutin, S. J. Cho, H. Morkoç, J. Appl. Phys. 2005, 98, 041301.
2. Z. L. Wang, J. Phys. : Condens. Matter 2004, 16, R829.
3. K. J. Albert, N. S. Lewis, C. L. Schauer, G. A. Sotzing, S. E. Stitzel, T. P. Vaid, D. R. Walt, Chem. Rev. 2000, 100, 2595.
4. R. Tribolate, J. M. N'tep, M. Barbe, P. Lemasson, I. Mora-Sero, V. Munoz, J. Cryst. Growth 1999, 198/199, 968.
5. X. M. Fan, J. S. Lian, Z. X. Guo, H. J. Lu, Appl. Surf. Sci. 2005, 239, 176.
6. M. K. Hossain, S. C. Ghosh, Y. Boontongkong, C. Thanachayanont, J. Dutta, J. Metastable Nanocrystalline Mater. 2005, 23, 27.
7. J.-L. Zhao, X.-M. Li, S. Zhang, C. Yang, X.-D. Gao, W.-D. Yu, J. Mater. Res. 2006, 21, 2185.
8. J. D. Ferguson, A. W. Weimer, S. M. George, J. Vac. Sci. Technol, A 2005, 23, 118.
9. A. Bakin, A. El-Shaer, A. C. Mofor, M. Kreye, A. Waag, F. Bertram, J. Christen, M. Heuken, J. Stoimenos, J. Cryst. Growth 2006, 287, 7.
10. A. Drici, G. Djeteli, G. Tchangbedji, H. Derouiche, K. Jondo, K. Napo, J. C. Bernede, S. Ouro-Djobo, M. Gbagba, Phys. Status Solidi A 2004, 201, 1528.
11. C. Shaoqiang, J. Zhang, X. Feng, W. Xiaohua, L. Laiqiang, S. Yanling, X. Qingsong, C. Wang, Z. Jianzhong, Z. Ziqiang, Appl. Surf. Sci. 2005, 241, 384.
12. T. Pauporte, J. Rathousky, J. Phys. Chem. C 2007, 111, 7639.
13. J. Zhenguo, Z. Shichao, W. Chao, L. Kun, Mater. Sci. Eng, B 2005, 117, 63.
14. C. X. Xu, X. W. Sun, Z. L. Dong, M. B. Yu, T. D. My, X. H. Zhang, S. J. Chua, T. J. White, Nanotechnology. 2004, 15, 839.
15. a) J. Ni, H. Yan, A. Wang, Y. Yang, C. L. Stern, A. W. Metz, J. Shu, L. Wang, T. J. Marks, J. R. Ireland, C. R. Kannewurf, J. Am. Chem. Soc. 2005. 127, 5613-5624;
16. b) J. L. Yang, S. J. An, W. I. Park, G.-C. Yi, W. Choi, Adv. Mater. 2004, 16, 1661.
17. Chemical Vapor Deposition: Principles and Applications, (Eds: M. L. Hitchman, K. F. Jensen), Academic Press, London 1993.
18. P. X. Gao, Y. Ding, Z. L. Wang, Nanoletters 2003, 3, 1315.
19. C. X. Xu, X. W. Sun, Z. L. Dong, G. P. Zhu, Y. P. Cui, Appl. Phys. Lett. 2006. 88, 093101.
20. C. J. Lee, T. J. Lee, S. C. Lyu, Y. Zhang, H. Ruh, J. H. Lee, Appl. Phys. Lett. 2002, 19, 3648.
21. M. H. Huang, S. Mao, H. Feick, H. Q. Yan, Y. Y. Wu, H. Kind, E. Weber, R. Russo, P. D. Yang, Science 2001, 292, 1897.
22. W. I. Park, D. H. Kim, S. W. Jung, G.-C. Yi, Appl. Phys. Lett. 2002, 80, 4232.
23. D. J. Lee, J. Y. Park, Y. S. Yun, Y. S. Hong, J. H. Moon, B.-T. Lee, S. S. Kim, J. Cryst. Growth 2005, 276, 458.
24. J. Hu, R. G. Gordon, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 1991, 202, 457.
25. J. Auld, D. J. Houlton, A. C. Jones, S. A. Rushworth, M. A. Malik, P. O'Brien, G. W. Critchlow, J. Mater. Chem. 1994, 4, 1249.
26. H. Sato, T. Minami, T. Miyata, S. Takata, M. Ishii, Thin Solid Films 1994, 246, 65.
27. F. A. Cotton, G. Wilkinson, C. A. Murillo, M. Bochmann, Advanced Inorganic Chemistry, Sixth Edition, Wiley-Interscience, New York 1999.
28. M. L. Hitchman, S. H. Shamlian, D. C. Gilliland, D. Cole-Hamilton, J. A. P. Nash, S. C. Thompson, S. L. Cook, J. Mater. Chem. 1995, 5, 47.
29. L. V. Saraf, M. H. Engelhard, C. M. Wang, A. S. Lea, D. E. McCready, V. Shutthanandan, D. R. Baer, S. A. Chambers, J. Mater. Res. 2007, 22, 1230.
30. G. Malandrino, M. Blandino, L. M. S. Perdicaro, I. L. Fragalà, P. Rossi, P. Dapporto, Inorg. Chem. 2005, 44, 9684.
31. a) M. Losurdo, M. M. Giangregorio, P. Capezzuto, G. Bruno, G. Malandrino, M. Blandino, I. L. Fragalà, Superlattices Microstruct. 2005, 38, 291;
32. b) M. Losurdo, M. M. Giangregorio, P. Capezzuto, G. Bruno, G. Malandrino, I. L. Fragalà, J. Mater. Res. 2006, 21, 1632.
33. S. Akiyama, K. Minegishi, T. Tanaka, H. Ogawa, M. Kasuga, Jpn. J. Appl. Phys. Part 1 2007, 46, 342.
34. S. Major, S. Kumar, M. Bhatnagar, K. L. Chopra, Appl. Phys. Lett. 1986, 49, 394.
35. Y.-Y. Peng, T.-E. Hsieh, C.-H. Hsu, Nanotechnology 2006, 17, 174.
36. C.-T. Chiang, R. L. DeLeon, J. F. Garvey, J. Phys. Chem. C 2007, 111, 17700.
37. J. F. Malder, W. F. Stickel, P. E. Sobol, K. D. Bomben, Handbook of X-Ray Photoelectron Spectroscopy, Perkin-Elmer, Eden Proucie, MN 1992.
38. M. Futsuhara, K. Yoshioka, O. Takai, Thin Solid Films 1998, 27, 322.
39. J. C. Dupin, D. Gonbeau, P. Vinatier, A. Levasseur, Phys. Chem. Chem. Phys. 2000, 2, 1319.
40. M. Chen, X. Wang, Y. H. Yu, Z. L. Pei, X. D. Bai, C. Sun, R. F. Huang, L. S. Wen, Appl. Surf. Sci. 2000, 158, 134.
41. A. B. Djurišić, Y. H. Leung, Small 2005, 2, 944.
42. A. B. Djurišić, W. C. H. Choy, V. A. L. Roy, Y. H. Leung, C. Y. Kwong, K. W. Cheah, T. K. G. Rao, W. K. Chan, H. F. Lui, C. Surya, Adv. Funct. Mater. 2004, 14, 856.
43. T. Tastumi, M. Fujita, N. Kawamoto, M. Sasajima, Y. Horikoshi, Jpn. J. Appl. Phys, Part 1 2004, 43, 2602.
44. E. De la Rosa, S. Sepulveda-Guzman, B. Reeja-Jayan, A. Torres, P. Salas, N. Elizondo, M. J. Yacaman, J. Phys. Chem. C 2007, 111, 8489.
45. Y. W. Heo, D. P. Norton, S. J. Pearton, J. Appl. Phys. 2005, 98, 073502.
46. H. Zhou, Q. Kuang, Z.-Y. Jiang, Z.-X. Xie, T. Xu, R.-B. Huang, L.-S. Zheng, J. Phys. Chem. C 2007, 111, 12091.
47. K. H. Tam, C. K. Cheung, Y. H. Leung, A. B. Djurišić, C. C. Ling, C. D. Boling, S. Fung, W. M. Kwok, W. K. Chan, D. L. Phillips, L. Ding, W. K. Ge, J. Phys. Chem. B 2006, 110, 20865.
48. B. Lin, Z. Fu, Y. Jia, Appl. Phys. Lett. 2001, 79, 943.
49. X. Liu, X. Wu, H. Cao, R. P. H. Chang, J. Appl. Phys. 2004, 95, 3141.
50. H. Zhou, H. Alves, D. M. Hofmann, W. Knegseis, B. K. Meyer, G. Kaczmarczyk, A. Hoffmann, Appl. Phys. Lett. 2002, 80, 210.
51. A.B. Djurišić, Y. H. Loung, K. H. Tam, Y. F. Hsu, L. Ding, W. K. Ge, Y. C. Zhong, K. S. Wong, W. K. Chan, H. L. Tam, K. W. Cheah, W. M. Kwok, D. L. Phillips, Nanotechnology 2007, 18, 095702.