Bis(tert-butylimido)-bis(dialkylamido) complexes of molybdenum as atomic layer deposition (ALD) precursors for molybdenum nitride: The effect of the alkyl group

Chemical Vapor Deposition

Volumn 14, Issue 3-4, 2008, Pages 71-77

  Miikkulainen, Ville ^a   Suvanto, Mika ^a   Pakkanen, Tapani A ^a  

^a UNIVERSITY OF EASTERN FINLAND   (Finland)

Author keywords

Amido imido precursors; Atomic layer deposition; Density functional theory; Molybdenum nitride

Indexed keywords

AMORPHOUS FILMS; ATOMIC PHYSICS; ATOMS; CALORIMETRY; DENSITY FUNCTIONAL THEORY; MOLYBDENUM; MOLYBDENUM COMPOUNDS; NITRIDES; PHYSICAL VAPOR DEPOSITION; PULSED LASER DEPOSITION; THERMODYNAMIC STABILITY;

ALKYL GROUPS; AMIDO-IMIDO PRECURSORS; AMORPHOUS; ATOMIC LAYER DEPOSITION (ALD; COMPUTATIONAL RESULTS; CONFORMAL; CONTROLLED GROWTHS; DECOMPOSITION REACTIONS; DENSITY FUNCTIONAL THEORY CALCULATIONS; MOLYBDENUM NITRIDE; MOLYBDENUM NITRIDES; SYNTHETIC YIELDS; THERMAL INSTABILITIES; THERMAL STABILITIES;

ATOMIC LAYER DEPOSITION;

EID: 54949096575     PISSN: 09481907     EISSN: 15213862     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/cvde.200706668     Document Type: Article

References (40)

1. W. Lengauer, in Handbook of Ceramic Hard Materials, Vol. 1, (Ed.: R. Riedel), Wiley, Weinheim 2000.
2. P. F. McMillan, Nature Mater. 2002, 1, 19.
3. J. Danroc, A. Aubert, R. Gillet, Thin Solid Films 1987, 153, 281.
4. J. Valli, U. Mäkelä, H. T.G. Hentzell, J. Vac. Sci. Technol. A 1986, 4, 2850.
5. R. Sanjinés. P. Hones, F. Lévy, Thin Solid Films 1998, 332, 225.
6. F. Lévy, P. Hones. P. E. Schmid, R. Sanjinés, M. Diserens, C. Wiemer, Surf. Coat. Technol. 1999, 120-121, 284.
7. P. Hones, N. Martin, M. Regula, F. Lévy, J. Phys. D: Appl. Phys. 2003, 36, 1023.
8. Y. He, J. Y. Feng, J. Cryst. Growth 2004, 263, 203.
9. J. M. Vandenberg, B. T. Matthias, Mater. Res. Bull. 1974, 9, 1085.
10. T. Kadono, T. Kubota, Y. Okamoto, Catal. Today 2003, 87, 107.
11. S. Gong, H. Chen, W. Li, B. Li. Catal. Commun. 2004, 5, 621.
12. S. Gong, H. Chen, W. Li, B. Li, T. Hu, J. Mol. Catal. A:Chem. 2005, 225, 213.
13. M. Nagai, Y. Yamamoto, R. Aono, Colloids Surf. A: Physicochem. Eng. Aspects 2004, 241, 257.
14. C. Shi, A. M. Zhu, X. F. Yang, C. T. Au, Appl. Catal, A: Gen. 2004, 276, 223.
15. R. Kojima, K.-i. Aika, Appl. Catal, A: Gen. 2001, 219, 141.
16. T. Suntola, Mater. Sci. Rep. 1989, 4, 261.
17. M. Leskelä, M. Ritala. Thin Solid Films 2002, 409, 138.
18. M. Ritala, M. Leskelä, E. Rauhala, P. Haussalo, J. Electrochem. Soc. 1995, 142, 2731.
19. M. Ritala, M. Leskelä, E. Rauhala, J. Jokinen, J. Electrochem. Soc. 1998, 145, 2914.
20. L. Hiltunen, M. Leskelä, M. Mäkelä, L. Niinistö, E. Nykänen, P. Soininen, Thin Solid Films 1988, 166, 149.
21. P. Alén, M. Ritala, K. Arstila. J. Keinonen, M. Leskelä. J. Electrochem. Soc. 2005, 152, G361.
22. M. Juppo, M. Ritala, M. Leskelä J. Electrochem. Soc. 2000, 147, 3377.
23. O. van der Straten, Y. Zhu, K. Dunn. E. T. Eisenbraun, A. E. Kaloyeros, J. Mater. Res. 2004, 19, 447.
24. J. S. Becker, S. Suh, S. Wang, R. G. Gordon, Chem. Mater. 2003, 15, 2969.
25. V. Miikkulainen, M. Suvanto, T. A. Pakkanen, Chem. Mater. 2007, 19, 263.
26. S.-C. Sun, H.-T. Chiu, US Patent 6, 114, 242 2000.
27. L. Mole, J. L. Spencer, N. Carr, G. Orpen. Orgnnometallics 1991, 20, 49.
28. M. Brookhart, E. Hauptman, D. M. Lincoln, J. Am. Chem. Soc. 1992, 114, 10394.
29. J. Wu, J. Li, C. Zhou, X. Lei, T. Gaffney, J. A. T. Norman, Z. Li, R. Gordon, H. Cheng. Organometallics 2007, 26, 2803.
30. L. H. Dubois, B. R. Zegarski, G. S. Girolami, J. Electrochem. Soc. 1992, 139, 3603.
31. Y.-W. Yang, J.-B. Wu, J. Wang, Y.-F. Lin, H.-T. Chiu, Surf. Sci. 2006, 600, 743.
32. A. Mayr, C. M. Bastos, J. Am. Chem. Soc. 1990, 112, 7797.
33. Y. Takahashi, N. Onoyama, Y. Ishikawa, S. Motojima, K. Sugiyama, Chem. Lett. 1978, 525.
34. R. A. Waldo, M. C. Militello, S. W. Gaarenslroom, Surf. Interface Anal. 1993, 20, 111.
35. ICDD Powder Diffraction File 00-024-0768.
36. G. Schoeltel, J. Kress, J. A. Osborn, J. Chem. Soc, Chem. Commun. 1989, 1062.
37. J. Mistrik, K. Takahashi, R. Antos, M. Aoyama, T. Yamaguchi, Y. Anma, Y. Fukuda, M. B. Takeyama, A. Noya, Z.-T. Jiang, S. M. Thurgate, G. V. Riessen, Thin Solid Films 2004, 455-456, 473.
38. S. B. S. Heil, E. Langereis, A. Kemmeren, F. Roozeboom, M. C. M. van de Sanden, W. M. M. Kessels,. J. Vac. Sci. Technol. A. 2005, 23. L5.
39. D. J. Bloomfield. G. Love, V. D. Scott, X-ray Spectrom. 1985, 14, 139.
40. Gaussian 03, Revision C.02, M. J. Frisch, G. W. Trucks, H. B. Schlegel, G. E. Scuseria, M. A. Robb, J. R. Cheeseman, J. A. Montgomery, Jr., T. Vreven, K.N. Kudin, J. C. Burant, J. M. Millam, S. S. Iyengar, J.Tomasi, V. Barone. B. Mennucci. M. Cossi, G. Scalmani, N. Rega, G. A. Pctcrsson, H. Nakatsuji, M. Hada, M. Ehara, K. Toyota, R. Fukuda, J. Hasegawa, M. Ishida, T. Nakajima, Y. Honda, O. Kitao, H. Nakai, M. Kiene, X. Li, J. E. Knox, H. P. Hratchian, J. B. Cross, C. Adamo, J. Jaramillo, R. Gomperts, R. E. Stratmann, O. Yazyev, A. J. Austin, R. Cammi, C. Pomelli, J. W. Ochterski. P. Y. Ayala, K. Morokuma, G. A. Voth, P. Salvador, J. J. Dannenberg, V. G. Zakrzewski, S. Dapprich, A. D. Daniels, M. C. Strain, O. Farkas, D. K. Malick, A. D. Rabuck, K. Raghavachari, J. B. Foresman, J. V. Ortiz, O. Cui, A. O. Baboul, S. Clifford, J. Cioslowski, B, B. Stefanov, O. Liu, A. Liashenko, P. Piskorz, I. Komaromi, R. L. Martin, D. J. Fox, T. Keith, M. A. Al-Laham, C. Y. Peng, A. Nanayakkara, M. Challacombe, P. M. W. Gill, B. Johnson, W. Chen, M. W. Wong, C. Gonzalez, J. A. Pople, Gauasian, Inc, Wallingford CT, 2004.