-
1
-
-
13544270880
-
-
1041-1135 10.1109/LPT.2004.839012.
-
D. S. Wuu, W. K. Wang, W. C. Shih, R. H. Homg, C. E. Lee, W. Y. Lin, and J. S. Fang, IEEE Photon. Technol. Lett. 1041-1135 10.1109/LPT.2004.839012, 17, 288 (2005).
-
(2005)
IEEE Photon. Technol. Lett.
, vol.17
, pp. 288
-
-
Wuu, D.S.1
Wang, W.K.2
Shih, W.C.3
Homg, R.H.4
Lee, C.E.5
Lin, W.Y.6
Fang, J.S.7
-
2
-
-
27944467218
-
-
0013-4651 10.1149/1.2041947.
-
C. F. Shih, N. C. Chen, P. H. Chang, and K. S. Liu, J. Electrochem. Soc. 0013-4651 10.1149/1.2041947, 152, G816 (2005).
-
(2005)
J. Electrochem. Soc.
, vol.152
, pp. 816
-
-
Shih, C.F.1
Chen, N.C.2
Chang, P.H.3
Liu, K.S.4
-
3
-
-
34047255065
-
-
1099-0062 10.1149/1.2718393.
-
C. L. Yu, P. C. Chang, S. J. Chang, and S. L. Wu, Electrochem. Solid-State Lett. 1099-0062 10.1149/1.2718393, 10, H171 (2007).
-
(2007)
Electrochem. Solid-State Lett.
, vol.10
, pp. 171
-
-
Yu, C.L.1
Chang, P.C.2
Chang, S.J.3
Wu, S.L.4
-
4
-
-
33846956854
-
-
0013-4651 10.1149/1.2409478.
-
T. B. Wang, W. C. Hsu, J. L. Su, R. T. Hsu, Y. H. Wu, Y. S. Lin, and K. H. Su, J. Electrochem. Soc. 0013-4651 10.1149/1.2409478, 154, H131 (2007).
-
(2007)
J. Electrochem. Soc.
, vol.154
, pp. 131
-
-
Wang, T.B.1
Hsu, W.C.2
Su, J.L.3
Hsu, R.T.4
Wu, Y.H.5
Lin, Y.S.6
Su, K.H.7
-
5
-
-
0034141006
-
-
0741-3106 10.1109/55.821668.
-
M. A. Khan, X. Hu, G. Sumin, A. Lunev, J. Yang, R. Gaska, and M. S. Shur, IEEE Electron Device Lett. 0741-3106 10.1109/55.821668, 21, 63 (2000).
-
(2000)
IEEE Electron Device Lett.
, vol.21
, pp. 63
-
-
Khan, M.A.1
Hu, X.2
Sumin, G.3
Lunev, A.4
Yang, J.5
Gaska, R.6
Shur, M.S.7
-
6
-
-
0035934801
-
-
0003-6951 10.1063/1.1412591.
-
X. Hu, A. Koudymov, G. Simin, J. Yang, M. A. Khan, A. Tarakji, M. S. Shur, and R. Gaska, Appl. Phys. Lett. 0003-6951 10.1063/1.1412591, 79, 2832 (2001).
-
(2001)
Appl. Phys. Lett.
, vol.79
, pp. 2832
-
-
Hu, X.1
Koudymov, A.2
Simin, G.3
Yang, J.4
Khan, M.A.5
Tarakji, A.6
Shur, M.S.7
Gaska, R.8
-
7
-
-
0043100979
-
-
0003-6951 10.1063/1.120688.
-
S. Nakamura, M. Senoh, S. Nagahama, N. Iwasa, T. Yamada, T. Matsushita, H. Kiyoku, Y. Sugimoto, T. Kozaki, H. Umemoto, Appl. Phys. Lett. 0003-6951 10.1063/1.120688, 72, 211 (1998).
-
(1998)
Appl. Phys. Lett.
, vol.72
, pp. 211
-
-
Nakamura, S.1
Senoh, M.2
Nagahama, S.3
Iwasa, N.4
Yamada, T.5
Matsushita, T.6
Kiyoku, H.7
Sugimoto, Y.8
Kozaki, T.9
Umemoto, H.10
-
8
-
-
0001610693
-
-
R. Vetury, H. Marchand, G. Parish, P. T. Fini, J. P. Ibbetson, S. Keller, J. S. Speck, S. P. DenBaars, and U. K. Mishra, Inst. Phys. Conf. Ser., 162, 177 (1999).
-
(1999)
Inst. Phys. Conf. Ser.
, vol.162
, pp. 177
-
-
Vetury, R.1
Marchand, H.2
Parish, G.3
Fini, P.T.4
Ibbetson, J.P.5
Keller, S.6
Speck, J.S.7
Denbaars, S.P.8
Mishra, U.K.9
-
9
-
-
0030577282
-
-
0003-6951 10.1063/1.117004.
-
P. A. Grudowski, A. L. Holmes, C. J. Eiting, and R. D. Dupuis, Appl. Phys. Lett. 0003-6951 10.1063/1.117004, 69, 3626 (1996).
-
(1996)
Appl. Phys. Lett.
, vol.69
, pp. 3626
-
-
Grudowski, P.A.1
Holmes, A.L.2
Eiting, C.J.3
Dupuis, R.D.4
-
10
-
-
28044438705
-
-
0022-0248 10.1016/j.jcrysgro.2005.09.059.
-
J. C. Lin, Y. K. Su, S. J. Chang, W. R. Chen, R. Y. Chen, Y. C. Cheng, and W. J. Lin, J. Cryst. Growth 0022-0248 10.1016/j.jcrysgro.2005.09.059, 285, 481 (2005).
-
(2005)
J. Cryst. Growth
, vol.285
, pp. 481
-
-
Lin, J.C.1
Su, Y.K.2
Chang, S.J.3
Chen, W.R.4
Chen, R.Y.5
Cheng, Y.C.6
Lin, W.J.7
-
11
-
-
19744383979
-
-
0003-6951 10.1063/1.1849836.
-
X. Q. Shen, H. Matsuhata, and H. Okumura, Appl. Phys. Lett. 0003-6951 10.1063/1.1849836, 86, 021912 (2005).
-
(2005)
Appl. Phys. Lett.
, vol.86
, pp. 021912
-
-
Shen, X.Q.1
Matsuhata, H.2
Okumura, H.3
-
12
-
-
7044227804
-
-
S. W. Kim, H. Aida, and T. Suzuki, Phys. Status Solidi C, 1, 2483 (2004).
-
(2004)
Phys. Status Solidi C
, vol.1
, pp. 2483
-
-
Kim, S.W.1
Aida, H.2
Suzuki, T.3
-
13
-
-
0042381857
-
-
0021-4922 10.1143/JJAP.42.3316.
-
S. J. Chang, S. C. Wei, Y. K. Su, C. H. Liu, S. C. Chen, U. H. Liaw, T. Y. Tsai, and T. H. Hsu, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 0021-4922 10.1143/JJAP.42.3316, 42, 3316 (2003).
-
(2003)
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
, vol.42
, pp. 3316
-
-
Chang, S.J.1
Wei, S.C.2
Su, Y.K.3
Liu, C.H.4
Chen, S.C.5
Liaw, U.H.6
Tsai, T.Y.7
Hsu, T.H.8
-
14
-
-
9944227123
-
-
0022-0248
-
T. M. Kuan, S. J. Chang, Y. K. Su, J. C. Lin, S. C. Wei, C. K. Wang, C. I. Huang, W. H. Lan, J. A. Bardwell, H. Tang, J. Cryst. Growth, 272, 300 (2004). 0022-0248
-
(2004)
J. Cryst. Growth
, vol.272
, pp. 300
-
-
Kuan, T.M.1
Chang, S.J.2
Su, Y.K.3
Lin, J.C.4
Wei, S.C.5
Wang, C.K.6
Huang, C.I.7
Lan, W.H.8
Bardwell, J.A.9
Tang, H.10
-
15
-
-
0034320730
-
-
0022-0248 10.1016/S0022-0248(00)00758-2.
-
C. R. Lee, J. Cryst. Growth 0022-0248 10.1016/S0022-0248(00)00758-2, 220, 62 (2000).
-
(2000)
J. Cryst. Growth
, vol.220
, pp. 62
-
-
Lee, C.R.1
-
16
-
-
24644485683
-
-
0003-6951 10.1063/1.2042533.
-
X. Q. Shen, H. Okumura, and H. Matsuhata, Appl. Phys. Lett. 0003-6951 10.1063/1.2042533, 87, 101910 (2005).
-
(2005)
Appl. Phys. Lett.
, vol.87
, pp. 101910
-
-
Shen, X.Q.1
Okumura, H.2
Matsuhata, H.3
-
17
-
-
19744383979
-
-
0003-6951 10.1063/1.1849836.
-
X. Q. Shen, H. Matsuhata, and H. Okumura, Appl. Phys. Lett. 0003-6951 10.1063/1.1849836, 86, 021912 (2005).
-
(2005)
Appl. Phys. Lett.
, vol.86
, pp. 021912
-
-
Shen, X.Q.1
Matsuhata, H.2
Okumura, H.3
-
18
-
-
18544362833
-
-
0022-0248 10.1016/j.jcrysgro.2005.01.036.
-
X. Q. Shen, M. Shimizu, T. Yamamoto, Y. Honda, and H. Okumura, J. Cryst. Growth 0022-0248 10.1016/j.jcrysgro.2005.01.036, 278, 378 (2005).
-
(2005)
J. Cryst. Growth
, vol.278
, pp. 378
-
-
Shen, X.Q.1
Shimizu, M.2
Yamamoto, T.3
Honda, Y.4
Okumura, H.5
-
19
-
-
0001233829
-
-
0003-6951 10.1063/1.126580.
-
A. Hierro, D. Kwon, S. A. Ringel, M. Hansen, J. S. Speck, U. K. Mishra, and S. P. DenBaars, Appl. Phys. Lett. 0003-6951 10.1063/1.126580, 76, 3064 (2000).
-
(2000)
Appl. Phys. Lett.
, vol.76
, pp. 3064
-
-
Hierro, A.1
Kwon, D.2
Ringel, S.A.3
Hansen, M.4
Speck, J.S.5
Mishra, U.K.6
Denbaars, S.P.7
-
20
-
-
0001726439
-
-
0003-6951 10.1063/1.114690.
-
J. P. R. David, Y. H. Chen, R. Grey, G. Hill, P. N. Robson, and P. Kightley, Appl. Phys. Lett. 0003-6951 10.1063/1.114690, 67, 906 (1995).
-
(1995)
Appl. Phys. Lett.
, vol.67
, pp. 906
-
-
David, J.P.R.1
Chen, Y.H.2
Grey, R.3
Hill, G.4
Robson, P.N.5
Kightley, P.6
-
21
-
-
33751335822
-
-
0003-6951 10.1063/1.114327.
-
J. D. Guo, M. S. Feng, R. J. Guo, F. M. Pan, and C. Y. Chang, Appl. Phys. Lett. 0003-6951 10.1063/1.114327, 67, 2657 (1995).
-
(1995)
Appl. Phys. Lett.
, vol.67
, pp. 2657
-
-
Guo, J.D.1
Feng, M.S.2
Guo, R.J.3
Pan, F.M.4
Chang, C.Y.5
-
22
-
-
0141988626
-
-
0021-8979 10.1063/1.1598630.
-
K. M. Tracy, P. J. Hartlieb, S. Einfeldt, R. F. Davis, E. H. Hurt, and R. J. Nemanich, J. Appl. Phys. 0021-8979 10.1063/1.1598630, 94, 3939 (2003).
-
(2003)
J. Appl. Phys.
, vol.94
, pp. 3939
-
-
Tracy, K.M.1
Hartlieb, P.J.2
Einfeldt, S.3
Davis, R.F.4
Hurt, E.H.5
Nemanich, R.J.6
-
23
-
-
0038646155
-
-
0003-6951 10.1063/1.1579852.
-
S. Karmalkar, D. M. Sathaiya, and M. S. Shur, Appl. Phys. Lett. 0003-6951 10.1063/1.1579852, 82, 3976 (2003).
-
(2003)
Appl. Phys. Lett.
, vol.82
, pp. 3976
-
-
Karmalkar, S.1
Sathaiya, D.M.2
Shur, M.S.3
|