The influence of the resonant frequency of a tube-type piezo actuator on atomic force microscope anodization lithography

Journal of the Korean Physical Society

Volumn 51, Issue 5, 2007, Pages 1782-1786

  Bae, Sukjong ^a   Park, Cheol Hong ^a   Han, Cheolsu ^a   Chung, Chung Choo ^a   Kwon, Gwangmin ^a   Lee, Haiwon ^a  

^a Hanyang University   (South Korea)

Author keywords

Anodization; Atomic force microscope; Lithography; Piezoelectric tube; Resonant frequency; Scanner

Indexed keywords

EID: 36849050686     PISSN: 03744884     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.3938/jkps.51.1782     Document Type: Article

References (22)

1. G. Binnig, H. Rohrer, Ch. Gerber and E. Weibel, Phys. Rev. Lett. 49, 57 (1982).
2. T. S. Kim, C. H. Choi, T. S. Jeong and K. H. Shin, J. Korean Phys. Soc. 51, 534 (2007).
3. H. S. Lee, H. J. Kim, J. C. Choi and H. L. Park, J. Korean Phys. Soc. 50, 759 (2007).
4. J. Y. Son and J. H. Cho, J. Korean Phys. Soc. 49, 456 (2006).
5. S. S. Choi, V. V. Anh, M. S. Joo and D. W. Kim, J. Korean Phys. Soc. 48, 589 (2006).
6. J. H. Kim, J. Jeong and J. Kim, J. Korean Phys. Soc. 47, 229 (2005).
7. E. S. Snow, D. Park and P. M. Campbell, Appl. Phys. Lett. 69, 269 (1996).
8. M. Villarroya, F. Perez-Murano, C. Martin, Z. Davis, A. Boisen, J. Esteve, E. Figueras, J. Montserrat and N. Barniol, Nanotechnology 15, 771 (2004).
9. R. D. Piner, J. Zhu, F. Xu, S. Hong and C. A. Mirkin, Science 283, 661 (1999).
10. A. Imanishi, T. Nagai and Y. Nakato, J. Phys. Chem. B 108, 21 (2004).
11. R. Maoz, E. Frydman, S. R. Cohen and J. Sagiv, Adv. Mater. 12, 424 (2000).
12. J. A. Dagata, J. H. Schneir, H. C. Harary, J. Evans, M. T. Posteck and J. Bennett, Appl. Phys. Lett. 56, 2001 (1990).
13. G. Schitter and A. Stemmer, IEEE Trans. Contr. Syst. Technol. 12, 449 (2004).
14. R. G. Winkler, J. P. Spatz, S. Sheiko, M. Möller, P. Reineker and O. Marti, Phys. Rev. B 54, 8908 (1996).
15. D. Croft, G, Shed and S. Devasia, J. Dyn. Syst-T. ASME 123, 35 (2001).
16. P. Krejci and K. Kuhnen, IEE Proc. Control Theory Appl. 148, 185 (2001).
17. E. J. Bae, E. R. Kim and H. Lee, J. Korean Phys. Soc. 37, 1026 (2000).
18. W. B. Lee, E. R. Kim and H. Lee, Langmuir 18, 8375 (2002).
19. H. S. Lee, S. A. Kim, S. J Ahn and H. Lee, Appl. Phys. Lett. 80, 2592 (2002).
20. M. S. Son, E. R. Kim and H. Lee, J. Korean Phys. Soc. 41, 949 (2002).
21. J. B. Kim, J. H. Jang, H. W Kim and S. G. Woo, J. Photopolym. Sci. Technol. 14, 341 (2001).
22. C. R. Szmanda, R. L. Brainard, J. F. Mackevich, A. Awaji, T. Tananka, Y. Yamada, J. Bohland, S. Tedesco, B. Dal'Zotto, W. Bruenger, M. Torkler, W. Fallmann, H. Loeschner, R. Kaesmaier, P. M. Nealey and A. R. Pawloski, J. Vac. Technol. B 17, 3356 (1999).