Simple patterning via adhesion between a buffered-oxide etchant-treated PDMS stamp and a SiO2 substrate

Advanced Functional Materials

Volumn 17, Issue 13, 2007, Pages 2125-2132

  Kim, Yong Kwan ^a   Kim, Gyn Tae ^a   Ha, Jeong Sook ^a  

^a Korea University   (South Korea)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ADHESION; ELECTRODES; LITHOGRAPHY; MICROMETERS; NANOWIRES; PASSIVATION; PERCOLATION (SOLID STATE); SILICON COMPOUNDS;

BUFFERED-OXIDE ETCHANT (BOE) PRINTING; NON-OHMIC SEMICONDUCTING I-V CHARACTERISTICS; PATTERN-TRANSFER; SIMPLE PATTERNING;

POLYDIMETHYLSILOXANE;

EID: 34548596845     PISSN: 1616301X     EISSN: 16163028     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/adfm.200700217     Document Type: Article

References (37)

1. Y. Xia, G. M. Whitesides, Angew. Chem. Int. Ed. 1998, 37, 550.
2. R. D. Piner, J. Zhu, F. Xu, S. H. Hong, C. A. Mirkin, Science 1999, 285, 661.
3. S. Y. Chou, P. R. Krauss, P. J. Renstrom, Science 1996, 272, 85.
4. L. Libioulle, A. Bietsch, H. Schmid, B. Michel, E. Delamarche, Langmuir 1999, 15, 300.
5. M. H. Park, Y. J. Jang, H. M. Sung-Suh, M. M. Sung, Langmuir 2004, 20, 2257.
6. E. Kim, Y. Xia, G. M. Whitesides, Nature 1995, 376, 581.
7. K. Y. Suh, H. H. Lee, Adv. Funct. Mater. 2002, 12, 405.
8. S. Y. Park, T. Kwon, H. H. Lee., Adv. Mater. 2006, 18, 1816.
9. J.-U. Park, M. A. Meitl, S.-H. Hur, M. L. Usrey, M. S. Strano, P. J. A. Kenis, J. A. Rogers, Angew. Chem. Int. Ed. 2006, 45, 581.
10. J. A. Walker, J. Micromesh. Microeng. 2000, 10, R1.
11. Y. Dong, C. Shannon, Anal. Chem. 2000, 72, 2371.
12. M. Wells, R. M. Crooks, J. Am. Chem. Soc. 1996, 118, 3988.
13. P. M. John, H. G. Craighead, Appl. Phys. Lett. 1996, 68, 1022.
14. S. Myung, M. Lee, G. T. Kim, J. S. Ha, S. Hong, Adv. Mater. 2005, 17, 2361.
15. Y.-K. Kim, S. J. Park, J. P. Koo, D.-J. Oh, G. T. Kim, S. Hong, J. S. Ha. Nanotechnology 2006, 17, 1375.
16. A. Bernard, E. Delamarche, H. Schmid, B. Michel, H. R. Bosshard, H. Biebuyck, Langmuir 1998, 14, 2225.
17. W. R. Childs, R. G. Nuzzo, J. Am. Soc. Chem. 2002, 124, 13 583.
18. W. R. Childs, R. G. Nuzzo, Adv. Mater. 2004, 16, 1323.
19. W. R. Childs, R. G. Nuzzo, Langmuir 2005, 21, 195.
20. H. Ahn, K. J. Lee, A. Shim, J. A. Rogers, R. G. Nuzzo, Nano Lett. 2005, 5, 2533.
21. K. S. Park, E. K. Seo, Y. R. Do, K. Kim, M. M. Sung, J. Am. Chem. Soc. 2006, 128, 858.
22. K. Efimenko, W. E. Wallace, J. Genzer, J. Colloid. Interf. Sci. 2002, 254, 306.
23. D. Xiao, H. Zhang, M. Wirth, Langmuir 2002, 18, 9971.
24. N. B. Colthup, L. H. Daly, S. E. Wiberley, in Introduction to Infrared and Raman Spectroscopy, Vol. 3, Academic Press, New York, 1990 Appendix.
25. J.-H. Ahn, H.-S. Kim, K. J. Lee, S. Jeon, S. J. Kangm, Y. Sun, R. G. Nuzzo, J. A. Rogers, Nature 2006, 314, 1754.
26. J. Livage, Coord. Chem. Rev. 1998, 178, 999.
27. Q. Guo, X. Teng, H. Yang, Nano Lett. 2004, 4, 1657.
28. J. Liu, X. Wang, Q. Peng, Y. Li, Adv. Mater. 2005, 17, 764.
29. I. Raible, M. Burghard, U. Schecht, A. Yasuda, T. Vossmeyer, Sens. Actuators. B 2005, 106, 730.
30. J. Muster, G. T. Kim, V. Krstic, J. G. Park, Y. W. Park, S. Roth, M. Burghard, Adv. Mater. 2000, 12, 420.
31. G. Gu, M. Schmid, P.-W. Chiu, A. Minett, J. Fraysse, G. T. Kim, S. Roth, M. Kozlov, E. Munoz, R. H. Baughman, Nat. Mater. 2003, 2, 316.
32. Y.-K. Kim, S. J. Park, J. P. Koo, G. T. Kim, S. Hong, J. S. Ha, Nanotechnology. 2007, 18, 015 304.
33. J. P. Koo, Y-K. Kim, J. S. Ha, Appl. Surf. Sci. 2006, 253, 1528.
34. H. Lee, J. Park, J. Kim, H. Jung, T. Kawai, Appl. Phys. Lett. 2006, 89, 113901.
35. T. Yamada, Appl. Phys. Lett. 2000, 76, 628.
36. S. J. Park, J. S. Ha, Y. J. Chang, G. T. Kim, Chem. Phys. Lett. 2004, 390, 199.
37. Y. K. Kim, S. J. Park, H. D. Lee, G. T. Kim, J. S. Ha, Jpn. J. Appl. Phys. 2006, 45, 2275.