Overpressure contact printing

Nano Letters

Volumn 4, Issue 9, 2004, Pages 1657-1662

  Guo, Qijie ^a   Teng, Xiaowei ^a   Yang, Hong ^a,b  

^a University of Rochester   (United States)

^b UNIVERSITY OF ROCHESTER   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

DIMETICONE; ELASTOMER; IRON DERIVATIVE; METAL; OXYGEN; PLATINUM DERIVATIVE; SILICON;

ANALYTIC METHOD; ARTICLE; ATOMIC FORCE MICROSCOPY; MAGNETIC FORCE MICROSCOPY; MAGNETISM; MATERIAL STATE; MICROSCOPY; NANOPARTICLE; PARTICLE SIZE; PRESSURE; RANDOMIZATION; SCANNING ELECTRON MICROSCOPY;

EID: 4644305863     PISSN: 15306984     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/nl0491778     Document Type: Article

References (25)

1. Xia, Y. N.; Rogers, J. A.; Paul, K. E.; Whitesides, G. M. Chem. Rev. 1999, 99, 1823-1848.
2. Xia, Y. N.; Whitesides, G. M. Angew. Chem., Int. Ed. Engl. 1998, 37, 551-575.
3. Gates, B. D.; Xu, Q.; Love, J. C.; Wolfe, D. B.; Whitesides, G. M. Annu. Rev. Mater. Res. 2004, 34, 339-372.
4. Xia, Y. N.; Whitesides, G. M. Langmuir 1997, 13, 2059-2067.
5. Delamarche, E.; Schmid, H.; Michel, B.; Biebuyck, H. Adv. Mater. 1997, 9, 741-746.
6. Armani, D.; Liu, C. MEMS 1998, 99, 222-227.
7. Bietsch, A.; Michel, B. J. Appl. Phys. 2000, 88, 4310-4318.
8. Hui, C. Y.; Jagota, A.; Lin, Y. Y.; Kramer, E. J. Langmuir 2002, 18, 1394-1407.
9. Zhu, J. G.; Zheng, Y. F.; Prinz, G. A. J. Appl. Phys. 2000, 87, 6668-6673.
10. Chen, Y.; Lebib, A.; Li, S. P.; Natali, M.; Peyrade, D.; Cambril, E. Microelectron. Eng. 2001, 57-8, 405-410.
11. Heyderman, L. J.; David, C.; Klaui, M.; Vaz, C. A. F.; Bland, J. A. C. J. Appl. Phys. 2003, 93, 10011-10013.
12. Castano, F. J.; Ross, C. A.; Frandsen, C.; Eilez, A.; Gil, D.; Smith, H. I.; Redjdal, M.; Humphrey, F. B. Phys. Rev. B 2003, 67.
13. Clendenning, S. B.; Fournier-Bidoz, S.; Pietrangelo, A.; Yang, G. C.; Han, S. J.; Brodersen, P. M.; Yip, C. M.; Lu, Z. H.; Ozin, G. A.; Manners, I. J. Mater. Chem. 2004, 14, 1686-1690.
14. Guo, Q. J.; Teng, X. W.; Rahman, S.; Yang, H. J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 630-631.
15. Guo, Q. J.; Teng, X. W.; Yang, H. Adv. Mater. 2004, in press.
16. Yang, H.; Deschatelets, P.; Brittain, S. T.; Whitesides, G. M. Adv. Mater. 2001, 13, 54-58.
17. Teng, X. W.; Yang, H. J. Mater. Chem. 2004, 14, 774-779.
18. Teng, X. W.; Black, D.; Watkins, N. J.; Gao, Y. L.; Yang, H. Nano Lett. 2003, 3, 261-264.
19. Teng, X. W.; Yang, H. J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 14559-14563.
20. Zhu, X.; Grütter, P. MRS Bull. 2004, 29, 457-462.
21. Li, S. P.; Peyrade, D.; Natali, M.; Lebib, A.; Chen, Y.; Ebels, U.; Buda, L. D.; Ounadjela, K. Phys. Rev. Lett. 2001, 86, 1102-1105.
22. Klaui, M.; Rothman, J.; Lopez-Diaz, L.; Vaz, C. A. F.; Bland, J. A. C.; Cui, Z. Appl. Phys. Lett. 2001, 78, 3268-3270.
23. Klaui, M.; Vaz, C. A. F.; Bland, J. A. C.; Sinnecker, E.; Guimaraes, A. P.; Wernsdorfer, W.; Faini, G.; Cambril, E.; Heyderman, L. J.; David, C. Appl. Phys. Lett. 2004, 84, 951-953.
24. Steiner, M.; Nitta, J. Appl. Phys. Lett. 2004, 84, 939-941.
25. Lee, H.; Purdon, A. M.; Chu, V.; Westervelt, R. M. Nano Lett. 2004, 4, 995-998.