Chemical vapor deposition of zirconium oxide on aerosolized silicon nanoparticles

Chemistry of Materials

Volumn 18, Issue 23, 2006, Pages 5571-5577

  Nienow, Amanda M ^a   Roberts, Jeffrey T ^a  

^a University of Minnesota   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

NANOSCALE SHELLS; NONTHERMAL PLASMA; SILICON NANOCRYSTALS; SILICON NANOPARTICLES;

AEROSOLS; CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; DESORPTION; NANOSTRUCTURED MATERIALS; PREHEATING; SILICON WAFERS; SYNTHESIS (CHEMICAL);

ZIRCONIA;

EID: 33845258956     PISSN: 08974756     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/cm060883e     Document Type: Article

References (57)

1. Powell, Q. H.; Fotou, G. P.; Kodas, T. T.; Anderson, B. M. Chem. Mater. 1997, 9, 685-693.
2. Zachariah, M. R.; Aquino, M. I.; Shull, R. D.; Steel, E. B. Nanostruct. Mater. 1995, 5, 383-92.
3. Yu, F.; Wang, J. N.; Sheng, Z. M.; Su, L. F. Carbon 2005, 43, 3018-3021.
4. Vollath, D.; Szabo, D. V. J. Nanopart. Res. 1999, 1, 235-242.
5. Schallehn, M.; Winterer, M.; Weirich, T. E.; Keiderling, U.; Hahn, H. Chem. Vap. Deposition 2003, 9, 40-44.
6. Liao, Y.-C.; Nienow, A. M.; Roberts, J. T. J. Phys. Chem. B 2006, 110, 6190-6197.
7. Nienow, A. M.; Roberts, J. T.; Zachariah, M. R. J. Phys. Chem. B 2005, 109, 5561-5568.
8. Higgins, K. J.; Jung, H.; Kittelson, D. B.; Roberts, J. T.; Zachariah, M. R. Environ. Sci. Technol. 2003, 37, 1949-1954.
9. Higgins, K. J.; Jung, H.; Kittelson, D. B.; Roberts, J. T.; Zachariah, M. R. J. Phys. Chem. A 2002, 106, 96-103.
10. Liao, Y.-C.; Roberts, J. T. J. Am. Chem. Soc. 2006, 128, 9061-9065.
11. Liao, Y.-C.; Roberts, J. T. Aerosol Sci. Technol. 2006, submitted.
12. Dharmaprakash, M. S.; Shivashankar, S. A. Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 2003, 745, 191-196.
13. Forsgren, K.; Westlinder, J.; Lu, J.; Olsson, J.; Harsta, A. Chem. Vap. Deposition 2002, 8, 105-109.
14. Cassir, M.; Goubin, F.; Bernay, C.; Vernoux, P.; Lincot, D. Appl. Surf. Sci. 2002, 193, 120-128.
15. Burleson, D. J.; Gladfelter, W. L.; Campbell, S. A.; Roberts, J. T. J. Electrochem. Soc. 2002, 149, F131-F138.
16. Smith, R. C.; Hoilien, N.; Taylor, C. J.; Ma, T.; Campbell, S. A.; Roberts, J. T.; Copel, M.; Buchanan, D. A.; Gribelyuk, M.; Gladfelter, W. L. J. Electrochem. Soc. 2000, 147, 3472-3476.
17. Heel, A.; Kasper, G. Aerosol Sci. Technol. 2005, 39, 1027-1037.
18. Mangolini, L.; Thimsen, E.; Kortshagen, U. Nano Lett. 2005, 5, 655-659.
19. Chen, D.-R.; Pui, D. Y. H. J. Nanopart. Res. 1999, 1, 115-126.
20. Field, B. O.; Hardy, C. J. Proc. Chem. Soc. 1962, 76-7.
21. Chen, D. R.; Pui, D. Y. H.; Hummes, D.; Fissan, H.; Quant, F. R.; Sem, G. J. J. Aerosol Sci. 1998, 29, 497-509.
22. Kesten, J.; Reineking, A.; Porstendorfer, J. Aerosol Sci. Technol. 1991, 15, 107-111.
23. Bates, D. M.; Watts, D. G. Nonlinear Regression and Its Applications; Wiley: New York, 1988.
24. Knutson, E. O.; Whitby, K. T. J. Aerosol Sci. 1976, 6, 443-51.
25. Liu, B. Y. H.: Pui, D. Y. H.; Whitby, K. T.; Kittelson, D. B.; Kousaka, Y.; McKenzie, R. L. Atmos. Environ. (1967-1989) 1978, 12, 99-104.
26. Rader, D. J.; McMurry, P. H. J. Aerosol Sci. 1986, 17, 771-87.
27. McMurry, P. H.; Stolzenburg, M. R. Atmos. Environ. (1967-1989) 1989, 23, 497-507.
28. Burleson, D. J.; Roberts, J. T.; Gladfelter, W. L.; Cambell, S. A.; Smith, R. C. Proc. Electrochem. Soc. 2001, 2001-13, 144-151.
29. Smith, R. C.; Ma, T.; Hoilien, N.; Tsung, L. Y.; Bevan, M. J.; Colombo, L.; Roberts, J.; Campbell, S. A.; Gladfelter, W. L. Adv. Mater. Opt. Electron. 2000, 10, 105-114.
30. Rees, W. 2006, personal communication.
31. Zhou, Z.; Brus, L.; Friesner, R. Nano Lett. 2003, 3, 163-167.
32. Burton, L. C. J. Appl. Phys. 1972, 43, 232-3.
33. Jin, X.; Feng, Y.; Zhuang, C.; Wang, X. Wuli Xuebao 1984, 33, 747-54.
34. Gupta, A.; Tang, D.; McMurry, P. H. J. Atmos. Chem. 1995, 20, 117-39.
35. Zou, J.; Baldwin, R. K.; Pettigrew, K. A.; Kauzlarich, S. M. Nano Lett. 2004, 4, 1181-1186.
36. Greenlief, C. M.; Liehr, M. Appl. Phys. Lett. 1994, 64, 601-603.
37. Sridhar, N.; Chung, D. D. L.; Anderson, W. A.; Yu, W. Y.; Fu, L. P.; Petrou, A.; Coleman, J. Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 1994, 327, 713-18.
38. Morita, Y.; Miki, K.; Tokumoto, H. Surf. Sci. 1995, 325, 21-32.
39. Deren, D. J. Adv. Chem. Phys. 1996, 95, 1-60.
40. Stockhausen, A.; Kampen, T. U.; Moench, W. Appl. Surf. Sci. 1992, 56-58, 795-801.
41. Linford, M. R.; Chidsey, C. E. D. J. Am. Chem. Soc. 1993, 115, 12631-12632.
42. Linford, M. R. Ph.D. Thesis, Stanford University, Stanford, CA, 1996.
43. Kosugi, T.; Ishii, H.; Arita, Y. J. Vac. Sci. Technol., A 1997, 15, 127-132.
44. Boukherroub, R.; Morin, S.; Sharpe, P.; Wayner, D. D. M.; Allongue, P. Langmuir 2000, 16, 7429-7434.
45. Cicero, R. L.; Linford, M. R.; Chidsey, C. E. D. Langmuir 2000, 16, 5688-5695.
46. Cicero, R. L.; Chidsey, C. E. D.; Lopinski, G. P.; Wayner, D. D. M.; Wolkow, R. A. Langmuir 2002, 18, 305-307.
47. Quayum, M. E.; Kondo, T.; Nihonyanagi, S.; Miyamoto, D.; Uosaki, K. Chem. Lett. 2002, 208-209.
48. Wayner, D. D. M.; Wolkow, R. A. J. Chem. Soc., Perkin Trans. 1 2002, 23-34.
49. Boecking, T.; James, M.; Coster, H. G. L.; Chilcott, T. C.; Barrow, K. D. Langmuir 2004, 20, 9227-9235.
50. Miramond, C.; Vuillaume, D. J. Appl. Phys. 2004, 96, 1529-1536.
51. Sun, Q.-Y.; de Smet, L. C. P. M.; van Lagen, B.; Wright, A.; Zuilhof, H.; Sudhoelter, E. J. R. Angew. Chem., Int. Ed. 2004, 43, 1352-1355.
52. Ma, L.; Wang, J.; Lu, Q.; Wang, G. Chem. Phys. Lett. 2005, 405, 208-213.
53. Sun, Q.-Y.; De Smet, L. C. P. M.; Van Lagen, B.; Giesbers, M.; Thuene, P. C.; Van Engelenburg, J.; De Wolf, F. A.; Zuilhof, H.; Sudhoelter, E. J. R. J. Am. Chem. Soc. 2005, 127, 2514-2523.
54. Hua, F.; Swihart, M. T.; Ruckenstein, E. Langmuir 2005, 21, 6054-6062.
55. Morita, Y.; Ishida, T.; Tokumoto, H. Jpn. J. Appl. Phys. 2002, 41, 2459-2462.
56. Ha, J. S.; Park, K.-H.; Yun, W. S.; Ko, Y.-J.; Kim, S. K. Surf. Sci. 1999, 426, 373-383.
57. Gladfelter, W. L.; Smith, R. C.; Burleson, D.; Taylor, C. J.; Roberts, J. T.; Campbell, S. A.; Hoilien, N.; Tiner, M.; Hegde, R.; Hobbs, C. Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 2003, 670, K4 1/1-K4 1/10.