Covalently attached monolayers on hydrogen-terminated Si(100): Extremely mild attachment by visible light

Angewandte Chemie - International Edition

Volumn 43, Issue 11, 2004, Pages 1352-1355

  Sun, Qiao Yu ^a   De Smet, Louis C P M ^a   Van Lagen, Barend ^a   Wright, Andrew ^b   Zuilhof, Han ^a   Sudhölter, Ernst J R ^a  

^a WAGENINGEN UNIVERSITY   (Netherlands)

^b Thermo VG Scientific   (United Kingdom)

Author keywords

Hydrosilylation; Monolayers; Photochemistry; Silicon; X ray photoelectron spectroscopy

Indexed keywords

LIGHT; MONOLAYERS; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY;

ORGANIC MONOLAYERS; SILICON SURFACES;

SEMICONDUCTING SILICON;

HYDROGEN; SILICON;

ARTICLE; COVALENT BOND; LIGHT; METHODOLOGY; PHOTOREACTIVITY; SURFACE PROPERTY; THICKNESS; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY;

EID: 3242685571     PISSN: 14337851     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/anie.200352137     Document Type: Article

References (39)

1. J. M. Buriak, Chem. Rev. 2002, 102, 1271.
2. D. D. M. Wayner, R. A. Wolkow, J. Chem. Soc. Perkin Trans. 1 2002, 2, 23.
3. A. B. Sieval, R. Linke, H. Zuilhof, E. J. R. Sudhölter, Adv. Mater. 2000, 12, 1457.
4. M. Zarnikov, A. Küller, A. Shaporenko, E. Schmidt, W. Eck, Langmuir 2003, 19, 4682.
5. A. Küller, W. Eck, V. Stadler, W. Geyer, A. Gölzhäuser, Appl. Phys. Lett. 2003, 82, 3776
6. M. R. Linford, P. E. Fenter, P. M. Eisenberger, C. E. D. Chidsey, J. Am. Chem. Soc. 1995, 117, 3145.
7. A. B. Sieval, A. L. Demirel, J. W. M. Nissink, M. R. Linford, J. H. van der Maas, W. H. de Jeu, H. Zuilhof, E. J. R. Sudhölter, Langmuir 1998, 14, 1759.
8. A. B. Sieval, B. van den Hout, H. Zuilhof, E. J. R. Sudhölter, Langmuir 2000, 16, 2987.
9. A. B. Sieval, B. van den Hout, H. Zuilhof, E. J. R. Sudhölter, Langmuir 2001, 17, 2172.
10. T. Strother, W. Cai, X. S. Zhao, R. J. Hamers, L. M. Smith, J. Am. Chem. Soc. 2000, 122, 1205.
11. Z. Lin, T. Strother, W. Cai, X. P. Cao, L. M. Smith, R. J. Hamers, Langmuir 2002, 18, 788.
12. A. R. Pike, L. H. Lie, R. A. Eagling, L. C. Ryder, S. N. Patole, B. A. Connolly, B. R. Horrocks, A. Houlton, Angew. Chem. 2002, 114, 637; Angew. Chem. Int. Ed. 2002, 41, 615.
13. A. R. Pike, L. H. Lie, R. A. Eagling, L. C. Ryder, S. N. Patole, B. A. Connolly, B. R. Horrocks, A. Houlton, Angew. Chem. 2002, 114, 637; Angew. Chem. Int. Ed. 2002, 41, 615.
14. A. R. Pike, S. N. Patole, N. C. Murray, T. Ilyas, B. A. Connolly, B. R. Horrocks, A. Houlton, Adv. Mater. 2003, 15, 254.
15. M. P. Stewart, J. M. Buriak, J. Am. Chem. Soc. 2001, 123, 7821.
16. J. M. Schmeltzer, L. A. Porter, M. P. Stewart, J. M. Buriak, Langmuir 2002, 18, 2971.
17. W. Cai, Z. Lin, T. Strother, L. M. Smith, R. J. Hamers, J. Phys. Chem. B 2002, 106, 2656.
18. A. B. Sieval, R. Opitz, H. P. A. Maas, M. G. Schoeman, G. Meijer, F. J. Vergeldt, H. Zuilhof, E. J. R. Sudhölter, Langmuir 2000, 16, 10 359.
19. A. B. Sieval, V. Vleeming, H. Zuilhof, E. J. R. Sudhölter, Langmuir 1999, 15, 8288.
20. R. I. Cicero, M. R. Linford, C. E. D. Chidsey, Langmuir 2000, 16, 5688.
21. J. Terry, M. R. Linford, C. Wigren, R. Y. Cao, P. Pianetta, C. E. D. Chidsey, Appl. Phys. Lett. 1997, 71, 1056.
22. J. T. C. Wojtyk, M. Tomietto, R. Boukherroub, D. D. M. Wayner, J. Am. Chem. Soc. 2001, 123, 1535.
23. R. Boukherroub, S. Morin, F. Bensebaa, D. D. M. Wayner, Langmuir 1999, 15, 3831.
24. F. Effenberger, G. Gotz, B. Bidlingmaier, M. Wezstein, Angew. Chem. 1998, 110, 2651; Angew. Chem. Int. Ed. 1998, 37, 2462.
25. F. Effenberger, G. Gotz, B. Bidlingmaier, M. Wezstein, Angew. Chem. 1998, 110, 2651; Angew. Chem. Int. Ed. 1998, 37, 2462.
26. W. L. Barnes, A. Dereux, T. W. Ebbesen, Nature 2003, 424, 824.
27. The synthesis of compound III will be published elsewhere.
28. A. Bansal, X. L. Li, S. I. Yi, W. H. Weinberg, N. S. Lewis, J. Phys. Chem. B 2001, 105, 10 266.
29. J. F. Zhang, C. Q. Cui, T. B. Lim, E. T. Kang, K. G. Neoh, S. L. Lim, K. L. Tan, Chem. Mater. 1999, 11, 1061.
30. W. F. Bergerson, J. A. Mulder, R. P. Hsung, X. Y. Zhu, J. Am. Chem. Soc. 1999, 121, 454.
31. N. Y. Kim, P. E. Laibinis, J. Am. Chem. Soc. 1998, 120, 4516.
32. E. J. Lee, T. W. Bitner, J. S. Ha, M. J. Shane, M. J. Sailor, J. Am. Chem. Soc. 1996, 118, 5375.
33. L. Hong, H. Sugimura, T. Furukawa, O. Takai, Langmuir 2003, 19, 1966.
34. M. R. Linford, C. E. D. Chidsey, Langmuir 2002, 18, 6217.
35. A. B. Sieval, R. Linke, G. Heij, G. Meijer, H. Zuilhof, E. J. R. Sudhölter, Langmuir 2001, 17, 7554.
36. T. L. Niederhauser, G. L. Jiang, Y. Y. Lua, M. J. Dorff, A. T. Woolley, M. C. Asplund, D. A. Berges, M. R. Linford, Langmuir 2001, 17, 5889.
37. F. Wei, X. S. Zhao, Thin Solid Films 2002, 408, 286.
38. R. Boukherroub, D. D. M. Wayner, J. Am. Chem. Soc. 1999, 121, 11 513.
39. L. C. P. M. de Smet, G. A. Stork, G. H. F. Hurenkamp, Q.-Y. Sun, H. Topal, P. J. E. Vronen, A. B. Sieval, A. Wright, G. M. Visser, H. Zuilhof, E. J. R. Sudholter, J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 13 916.