Band gap and band offsets for ultrathin (HfO2) x(SiO2)1-x dielectric films on Si (100)

Applied Physics Letters

Volumn 89, Issue 12, 2006, Pages

  Jin, H ^a   Oh, S K ^a   Kang, H J ^a   Cho, M H ^b  

^a Chungbuk National University   (South Korea)

^b Korea Research Institute of Standards and Science   (South Korea)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ELECTRON ENERGY LOSS SPECTROSCOPY; HAFNIUM COMPOUNDS; SILICA; SILICATES; ULTRATHIN FILMS; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY;

BAND GAP; BAND OFFSETS; REFLECTION ELECTRON ENERGY LOSS SPECTROSCOPY; ULTRATHIN HF SILICATE DIELECTRICS;

DIELECTRIC FILMS;

EID: 33748959399     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.2355453     Document Type: Article

References (21)

1. G. D. Wilk, R. M. Wallace, and J. M. Anthony, J. Appl. Phys. 89, 5243 (2001).
2. B. Brar, G. D. Wilk, and A. C. Seabaugh, Appl. Phys. Lett. 69, 2728 (1996).
3. M.-H. Cho, H. S. Chang, Y. J. Cho, D. W. Moon, K. H. Min, R. Sinclair, S. K. Kang, D. H. Ko, J. H. Lee, J. H. Gu, and N. I. Lee, Surf. Sci. 554, 75 (2004).
4. R. S. Johnson, J. G. Hong, C. Hinkle, and G. Lucovsky, J. Vac. Sci. Technol. B 20, 1126 (2002).
5. H. Jin, S. W. Lee, H. J. Kang, Y. S. Lee, S. K. Rha, H. S. Lee, and K. Y. Lin, J. Korean Phys. Soc. 45, 1292 (2004).
6. G. D. Wilk, R. M. Wallace, and J. M. Anthony, Appl. Phys. Lett. 76, 112 (2000).
7. G. Lucovsky and G. B. Raynor, Appl. Phys. Lett. 77, 2912 (2000).
8. P. Poveda and A. Glachant, Surf. Sci. 323, 258 (1995).
9. W. Keren, RCA Rev. 31, 207 (1970).
10. S. Kamiyama, T. Miura, Y. Nara, and T. Arikado, Electrochem. Solid-State Lett. 8, 215 (2005).
11. S. Hufner, Photoelectron Spectroscopy (Springer, Berlin, 1996).
12. P. D. Kirsch, C. S. Kang, J. Lozano, J. C. Lee, and J. G. Ekerdt, J. Appl. Phys. 91, 4353 (2002).
13. G. D. Wilk, R. M. Wallace, and J. M. Anthony, J. Appl. Phys. 87, 484 (2000).
14. G. Lucovsky, G. B. Rayner, Jr., Y. Zhang, C. C. Fulton, R. J. Nemanich, G. Appel, H. Ade, and J. L. Whitten, Appl. Surf. Sci. 212, 563 (2003).
15. R. Reiche, F. Yubero, J. P. Espinos, and A. R. Gonzalez-Elipe, Surf. Sci. 457, 199 (2000).
16. F. G. Bell and L. Ley, Phys. Rev. B 37, 8383 (1988).
17. P. W. Peacock and J. Robertson, J. Appl. Phys. 92, 4712 (2002).
18. G. Lucovsky and J. Phillips, Microelectron. Eng. 48, 291 (1999).
19. R. S. Johnson, Y. Zhang, and J. L. Whitten, Appl. Phys. Lett. 79, 1775 (2001).
20. R. H. French, S. J. Glass, F. S. Ohuchi, Y. N. Xu, and W. Y. Ching, Phys. Rev. B 49, 5133 (1994).
21. H. Jin, S. K. Oh, H. J. Kang, S. W. Lee, Y. S. Lee, and M.-H. Cho, Appl. Phys. Lett. 87, 212902 (2005).