Electron transport in InN layers grown by plasma-assisted molecular beam epitaxy

Journal of the Korean Physical Society

Volumn 48, Issue 1, 2006, Pages 93-97

  Hwang, E S ^a   Park, E M ^a   Suh, E K ^a   Hong, C H ^a   Lee, H J ^a   Wang, X ^b   Yoshikawa, A ^b  

^a Chonbuk National University   (South Korea)

^b CHIBA UNIVERSITY   (Japan)

Author keywords

Defects and impurities; Electron scattering mechanism; n InN

Indexed keywords

EID: 32044466514     PISSN: 03744884     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: None     Document Type: Article

References (28)

1. J. Wu and W. Walukiewicz, Super-lattices and Microstructures 34, 63 (2003).
2. E. O. Kane, J. Phys. Chem. Solids 1, 249 (1957).
3. K-F. Berggren and B. E. Sernelius, Phys. Rev. B 24, 1971 (1981).
4. J. Wu, W. Walukiewicz, S. X. Li, T. Armitage, J. C. Ho, E. R. Weber, E. E. Haller, H. Lu, W. J. Schaff, A. Barcz and R. Jakiela, Appl. Phys. Lett. 84, 2805 (2004).
5. S. P. Fu and Y. F. Chen, Appl. Phys. Lett. 85, 1523 (2004).
6. V. Yu. Davydov, A. A. Klochikhin, V. V. Emtsev, D. A. Kurdyukov, S. V. Ivanov, V. A. Vekshin, F. Bechstedt, J. Furthmueller, J. Aderhold, J. Graul, A. V. Mudryi, H. Harima, A. Hashimoto, A. Yamamoto and E. E. Haller, Phys. Status Solidi B 234, 787 (2002).
7. J. Wu, W. Walukiewicz, W. Shan, K. M. Yu, J. W. Ager III, E. E. Haller, H. Lu and W. J. Schaff, Phys. Rev. B 66, 201403 (2002).
8. D. C. Look, H. Lu, W. J. Schaff, J. Jasinski and Z. Liliental-Weber, Appl. Phys. Lett. 80, 258 (2002).
9. S-K. Lin, K-T. Wu, C-P. Huang, C-T. Liang, Y. H. Chang, Y. F. Chen, P. H. Chang, N. C. Chen, C. A. Chang, H. C. Peng, C. F. Shih, K. S. Liu and T. Y. Lin, J. Appl. Phys. 97, 046101 (2005).
10. R. Chwang, B. J. Smith and C. R. Crowell, Solid-State Electron. 17, 1217 (1974).
11. K. Fletcher and P. N. Butcher, J. Phys. C 5, 212 (1972).
12. M. G. Cheong, K. S. Kim, C. S. Oh, N. W. Namgung, G. M. Yang, C-H. Hong, K. Y. Lim, E-K. Suh, K. S. Nahm, H. J. Lee, D. H. Lim and A. Yoshikawa, Appl. Phys. Lett. 77, 2557 (2000);
13. M. G. Cheong, K. S. Kim, K. J. Lee, G. M. Yang, K. Y. Lim, C-H. Hong, E-K. Suh, H. J. Lee and A. Yoshikawa, J. Korean Phys. Soc. 34, S244 (1999).
14. H. J. Lee, Y. L. Juravel, J. C. Woolley and A. J. Spring Thorpe, Phys. Rev. B 21, 659 (1980).
15. D. L. Rode, in Semiconductors and Semimetals, editted by R. K. Willardson and A. C. Beer (Academic, New York, 1975), Vol. 10, Chap. 1.
16. Y. J. Jung, B. H. Kim, H. J. Lee and J. C. Woolley, Phys. Rev. B 26, 3151 (1982).
17. D. C. Look, C. E. Stutz, R. J. Molnar, K. Saarinen and Z. Liliental-Weber, Solid State Commun. 117, 571 (2001).
18. J. Wu, W. Walukiewicz, W. Shan, K. M. Yu, J. W. Ager III, S. X. Li, E. E. Haller, H. Lu and W. J. Schaff, J. Appl. Phys. 94, 4457 (2003).
19. I. Vurgaftman, J. R. Meyer and L. R. Ram-Mohan, J. Appl. Phys. 89, 5815 (2001).
20. Y. Ishitani, K. Xu, W. Terashima, N. Hashimoto, M. Yoshitani, T. Hata and A. Yoshikawa, Phys. Status Solidi C 0, 2838 (2003).
21. H. J. Lee, M. G. Cheong, E-K. Suh and M. Razeghi, Proceedings of SPIE, 3287, 321 (1998).
22. C. J. Lu, L. A. Bendersky, H. Lu and W. J. Schaff, Appl. Phys. Lett. 83, 2817 (2003).
23. K. S. Kim, M. G. Cheong, C-H. Hong, G. M. Yang, K. Y. Lim, E-K. Suh and H. J. Lee, Appl. Phys. Lett. 76, 1149 (2000).
24. K. S. Kim, M. G. Cheong, H. K. Cho, E-K. Suh and H. J. Lee, Appl. Phys. Lett. 80, 799 (2002).
25. L. R. Weisberg, J. Appl. Phys. 33, 1817 (1962).
26. D. C. Look and J. R. Sizelove, Phys. Rev. Lett. 82, 1237 (1999).
27. E. M. Conwell and M. O. Vassell, Phys. Rev. 166, 797 (1968).
28. H. J. Lee, J. Basinski, L. Y. Juravel and J. C. Woolley, Canadian J. Phys. 57, 233 (1979).