Area-selective assembly of high crystalline tin-doped-indium-oxide particles onto monolayer template

Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films

Volumn 23, Issue 4, 2005, Pages 1146-1151

  Shirahata, Naoto ^a   Sakka, Yoshio ^a   Uchikoshi, Tetsuo ^a   Hozumi, Atsushi ^b  

^a NATIONAL INSTITUTE FOR MATERIALS SCIENCE   (Japan)

^b NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE AND TECHNOLOGY AIST   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

DOPING (ADDITIVES); ELECTROSTATICS; PHOTOLITHOGRAPHY; SELF ASSEMBLY; TIN; ULTRAVIOLET RADIATION;

AREA-SELECTIVE ASSEMBLY; CHEMICAL TEMPLATES; TIN-DOPED-INDIUM-OXIDE (ITO);

CRYSTALLINE MATERIALS;

EID: 31144451856     PISSN: 07342101     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.1927537     Document Type: Conference Paper

References (44)

1. H. Kawazoe, M. Yasukawa, H. Hyodo, M. Kurita, H. Yanagi, and H. Hosono, Nature (London) 389, 939 (1997).
2. M. Gross, D. C. Müller, H.-G. Nothofer, U. Scherf, D. Neher, C. Bräuchle, and K. Meerholz, Nature (London) 405, 661 (2000).
3. J. E. Medvedeva and A. J. Freeman, Appl. Phys. Lett. 85, 955 (2004).
4. Z. Shen, P. E. Burrows, V. Bulovic, S. R. Forrest, and M. E. Thompson, Science 276, 2009 (1997).
5. G. Gu, V. Khalfin, and S. R. Forrest, Appl. Phys. Lett. 73, 2399 (1998).
6. T. T. Emons, J. Li, and L. F. Nazar, J. Am. Chem. Soc. 124, 8516 (2002).
7. C. Y. M. Zharnikov, A. Gölzhäuser, and M. Grunze, Langmuir 16, 6208 (2000).
8. D. S. Ginley and C. Bright, Mater. Res. Bull. 25, 15 (2000).
9. H. T. Ng, A. Fang, L. Huang, and S. F. Y. Li, Langmuir 18, 6324 (2002).
10. A. Salehi, Sens. Actuators B 94, 184 (2003).
11. S. Ishibashi, Y. Higuchi, Y. Ota, and K. Nakamura, J. Vac. Sci. Technol. A 8, 1399 (1990).
12. H. Ohta, M. Orita, M. Hirano, H. Tanji, H. Kawazoe, and H. Hosono, Appl. Phys. Lett. 76, 2740 (2000).
13. H. Kim, A. Pique, J. S. Horwitz, H. Mattoussi, H. Murata, Z. H. Karafi, and D. B. Chrisey, Appl. Phys. Lett. 74, 3444 (1999).
14. Y. Wu, C. H. M. Maree, R. F. Haglund, Jr., J. D. Hamilton, M. A. M. Paliza, and R. A. Weller, J. Appl. Phys. 86, 991 (1999).
15. N. Taga, H. Odaka, Y. Shigesato, I. Yasui, M. Kamei, and T. E. Haynes, J. Appl. Phys. 80, 978 (1996).
16. R. B. H. Tahar, T. Ban, Y. Ohya, and Y. Takahashi, J. Appl. Phys. 83, 2631 (1998).
17. H. E. A. Huitema, G. H. Gelinck, J. B. P. H. van der Putten, K. E. Kuijk, C. M. Hart, E. Cantatore, P. T. Herwig, A. J. J. M. van Breemen, and D. M. de Leeuw, Nature (London) 414, 599 (2001).
18. B. C. Bunker, Science 264, 48 (1994).
19. I. A. Aksay, M. Trau, S. Manne, I. Honma, N. Yao, L. Zhou, P. Fenter, P. M. Eisenberger, and S. M. Gruner, Science 273, 5277 (1996).
20. W. J. Dressick, M.-S. Chen, and S. L. Brandow, J. Am. Chem. Soc. 122, 982 (2000).
21. N. Shirahata, W. Shin, N. Murayama, A. Hozumi, Y. Yokogawa, T. Kameyama, Y. Masuda, and K. Koumoto, Adv. Funct. Mater. 14, 580 (2004).
22. T. P. Niesen and M. R. De Guire, J. Electroceram. 6, 169 (2001).
23. Y. Gao, Y. Masuda, and K. Koumoto, Chem. Mater. 15, 2399 (2003).
24. N. Shirahata, Y. Masuda, T. Yonezawa, and K. Koumoto, Langmuir 18, 10379 (2002).
25. S. Deki, S. Iizuka, A. Horie, M. Mizuhata, and A. Kajinami, Chem. Mater. 16, 1747 (2004).
26. T. Nakanishi, Y. Masuda, and K. Koumoto, Chem. Mater. 16, 3484 (2004).
27. N. Shirahata, T. Yonezawa, W. S. Seo, and K. Koumoto, Langmuir 20, 1517 (2004).
28. M. H. Park, Y. J. Jang, H. M. Sung-Suh, and M. M. Sung, Langmuir 20, 2257 (2004).
29. L. Vayssieres and M. Graetzel, Angew. Chem., Int. Ed. 43, 3666 (2004).
30. Y. Masuda, T. Sugiyama, W. S. Seo, and K. Koumoto, Chem. Mater. 15, 2469 (2003).
31. D. F. Zhang, L. D. Sun, J. L. Yin, and C. H. Yan, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.) 15, 1022 (2003).
32. A. Hozumi, Y. Yokogawa, T. Kameyama, H. Sugimura, K. Hayashi, H. Shirayama, and O. Takai, J. Vac. Sci. Technol. A 19, 1812 (2001).
33. N. Balachander and C. N. Sukenik, Langmuir 6, 1621 (1990).
34. A. L. Vinson, L. M. Lander, M. D. Foster, W. J. Brittain, E. A. Vogler, C. F. Majkrzak, and S. Satija, Langmuir 12, 2256 (1996).
35. H. Sugimura, K. Hayashi, N. Saito, N. Nakagiri, and O. Takai, Appl. Surf. Sci. 188, 403 (2002).
36. K. Hayashi, N. Saito, H. Sugimura, O. Takai, and N. Nakagiri, Ultramicroscopy 91, 151 (2002).
37. K. Hayashi, A. Hozumi, N. Saito, H. Sugimura, and O. Takai, Surf. Sci. 532-535, 1072 (2003).
38. H. Sugimura, K. Ushiyama, A. Hozumi, and O. Takai, Langmuir 16, 885 (2000).
39. H. Brunner, T. Vallant, U. Mayer, and H. Hoffman, Langmuir 12, 4614 (1996).
40. C. S. Dulcey, J. H. Georger, J. V. Krauthamer, D. A. Stenger, T. L. Fare, and J. M. Calvert, Science 252, 551 (1991).
41. A. Hozumi, H. Sugimura, Y. Yokogawa, T. Kameyama, and O. Takai, Colloids Surf., A 182, 257 (2001).
42. N. Shirahata and A. Hozumi, Chem. Mater. 17, 20 (2005).
43. K. Koumoto, S. Seo, T. Sugiyama, W. S. Seo, and W. J. Dressick, Chem. Mater. 11, 2305 (1999).
44. P. X. Zhu, Y. Masuda, and K. Koumoto, J. Colloid Interface Sci. 243, 31 (2001).