Single-crystalline gallium nitride microspindles: Synthesis, characterization, and thermal stability

Advanced Functional Materials

Volumn 14, Issue 5, 2004, Pages 464-470

  Xu, Fen ^a   Xie, Yi ^a   Zhang, Xu ^a   Zhang, Shuyuan ^a   Liu, Xianming ^a   Xi, Wang ^a   Tian, Xiaobo ^a  

^a UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY OF CHINA   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ELECTRON DIFFRACTION; FIELD EMISSION MICROSCOPES; HIGH RESOLUTION ELECTRON MICROSCOPY; MORPHOLOGY; NANOSTRUCTURED MATERIALS; OPTOELECTRONIC DEVICES; PHOTOLUMINESCENCE; RAMAN SPECTROSCOPY; REACTION KINETICS; SCANNING ELECTRON MICROSCOPY; SINGLE CRYSTALS; THERMODYNAMIC STABILITY; TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPY; VAPOR PHASE EPITAXY; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY; X RAY POWDER DIFFRACTION;

CHEMICAL INERTNESS; NANOSCALE DEVICES; NANOWIRES; RADIATION RESISTANCE;

GALLIUM NITRIDE;

EID: 2942568258     PISSN: 1616301X     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/adfm.200305004     Document Type: Article

References (66)

1. J. L. Coffer, T. W. Zerda, R. Appel, R. L. Wells, J. F. Janik, Chem. Mater. 1999, 11, 20.
2. a) A. C. Frank, F. Stowasser, H. Sussek, H. Pritzkow, C. R. Miskys, O. Ambacher, M. Giersig, and R. A. Fischer, J. Am. Chem. Soc. 1998, 120, 3512.
3. b) S. Nakamura, G. Fasol, The Blue Laser Diode, Springer, Berlin 1997.
4. W. Q. Han, S. S. Fan, Q. Q. Li, Y. D. Hu, Science 1997, 277, 1287.
5. W. Q. Han, P. Redlich, F. Ernst, M. Ruhle, Appl. Phys. Lett. 2000, 76, 652.
6. C. C. Chen, C. C. Yeh, Adv. Mater. 2000, 12, 738.
7. G. S. Cheng, L. D. Zhang, Y. Zhu, G. T. Fei, L. Li, C. M. Mo, Y. Q. Mao, Appl. Phys. Lett. 1999, 75, 2455.
8. M. Yoshizawa, A. Kikuchi, M. Mori, N. Fujita, K. Kishino, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 1997, 36, L459.
9. F. A. Ponce and D. P. Bour, Nature 1997, 386, 351.
10. A. Wohlfart, A. Devi, E. Maile, R. A. Fischer, Chem. Commun. 2002, 998.
11. R. F. Service, Science 2001, 293, 782.
12. Y. Y. Wu, H. Q. Han, M. Huang, B. Messer, J. H. Song, P. D. Yang, Chem. Eur. J. 2002, 8, 1261.
13. L. X. Zhao, G. W. Meng, X. S. Peng, X. Y. Zhang, L. D. Zhang, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 2002, 74, 587.
14. X. F. Duan, C. M. Lieber, J. Am. Chem. Soc. 2000, 122, 188.
15. C. C. Chen, C. C. Yeh, C. H. Chen, M. Y. Yu, H. L. Liu, J. J. Wu, K. H. Chen, L. C. Chen, J. Y. Peng, Y. F. Chen, J. Am. Chem. Soc. 2001, 123, 2791.
16. S. Sharma, M. K. Sunkara, G. Lian, E. C. Diskey, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 2001, 703, V3.10.
17. J. Zhang, L. D. Zhang, X. F. Wang, C. H. Liang, X. S. Peng, Y. W. Wang, J. Chem. Phys. 2001, 115, 5714.
18. W. S. Shi, Y. F. Zheng, N. Wang, C. S. Lee, S. T. Lee, Adv. Mater. 2001, 13, 591.
19. X. L. Chen, J. Y. Li, Y. G. Cao, Y. C. Lan, H. Li, M. He, C. Y. Wang, Z. Zhang, Z. Y. Qiao, Adv. Mater. 2000, 12, 1432.
20. C. C. Tang, S. S. Fan, H. Y. Dang, P. Li, Y. M. Liu, Appl. Phys. Lett. 2000, 77, 1961.
21. M. Q. He, P. Z. Zhou, S. N. Mohammad, G. L. Harris, J. B. Halpern, R. Jacobs, W. L. Sarney, L. Salamanca-Riba, J. Cryst. Growth 2001, 231, 357.
22. J. Y. Li, X. L. Chen, Z. Y. Qiao, Y. G. Cao, Y. C. Lan, J. Cryst. Growth 2000, 213, 408.
23. W. Q. Han, A. Zettl, Appl. Phys. Lett. 2002, 80, 303.
24. H. Teisseyre, M. Leszczynski, T. Suski, I. Grzegory, M. Bockowski, J. Jun, S. Porowski, K. Pakula, J. L. Robert, B. Beaumont, P. Gibart, M. Vaille, J. P. Faurie, Semicond. Sci. Technol. 1997, 12, 240.
25. J. Khanderi, A. Wohlfart, H. Parala, A. Devi, J. Hambrock, A. Birkner, R. A. Fischer, J. Mater. Chem. 2003, 13, 1438.
26. H. M. Manasevit, F. M. Erdmann, W. I. Simpson, J. Electrochem. Soc. 1971, 118, 1864.
27. D. A. Neumayer, J. G. Ekerdt, Chem. Mater. 1996, 8, 9.
28. H. Y. Peng, X. T. Zhou, N. Wang, Y. F. Zheng, L. S. Liao, W. S. Shi, C. S. Lee, S. T. Lee, Chem. Phys. Lett. 2000, 327, 263.
29. X. H. Chen, J. Xu, R. M. Wang, D. P. Yu, Adv. Mater. 2003, 15, 419.
30. H. M. Kim, D. S. Kim, Y. S. Park, D. Y. Kim, T. W. Kang, K. S. Chung, Xdv. Mater. 2002, 14, 991.
31. H. M. Kim. T. W. Kang, K. S. Chung, Adv. Mater. 2003, 15, 567.
32. H. M. Kim, D. S. Kim, D. Y. Kim, T. W. Kang, Y. H. Cho, K. S. Chung, Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 2193.
33. a) S. Y. Bae, H. W. Seo, J. Park, H. Yang, J. C. Park, S. Y. Lee, Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 126.
34. b) S. Y. Bae, H. W. Seo, J. Park, H. Yang, S. A. Song, Chem. Phys. Lett. 2002, 365, 525.
35. J. K. Jiang, X. L. Chen, M. He, W. J. Wang, X. N. Zhang, F. Shen, Chem. Phys. Lett. 2003, 368, 416.
36. Z. J. Li, X. L. Chen, H. J. Li, Q. Y. Tu, Z. Yang, Y. P. Xu, B. Q. Hu, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 2001, 72, 629.
37. Z. J. Li, X. L. Chen, L. Dai. H. J. Li, H. W. Liu, H. J. Gao, X. P. Xu, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 2003, 76, 115.
38. S. Y. Bae, H. W. Seo, J. Park, H. N. Yang, Chem. Phys. Lett. 2003, 373, 620.
39. H. Schulz, K. H. Thiemann, Solid State Commun. 1977, 23, 815.
40. C. D. Wagner, W. W. Riggs, L. E. Davis, J. F. Moulder, G. E. Muilenberg, Handbook of X-ray Photoelectron Spectroscopy, Perkin-Elmer Corporation, Physical Electronics Division, Eden Prairie, MN 1979.
41. K. E. Gonsalves, S. P. Rangarajan, G. Carlson, J. Kumar, K. Yang, M. Benaissa, M. Jose-Yacaman, Appl. Phys. Lett. 1997, 71, 2175.
42. Y. Xie, Y. T. Qian, W. Z. Wang, S. Y. Zhang, Y. H. Zhang, Science 1996, 272, 1926.
43. G. Popovici, G. Y. Xu, A. Botchkarev, W. Kim, H. Tang, A. Salvador, H. Morkoc, R. Strange, J. O. White, J. Appl. Phys. 1997, 82, 4020.
44. H. L. Liu, C. C. Chen, C. T. Chia, C. C. Yeh, C. H. Chen, M. Y. Yu, S. Keller, S. P. DenBaars, Chem. Phys. Lett. 2001, 345, 245.
45. Light Scattering in Solids II (Eds: M. Cardona, G. Güntherodt), Springer, Berlin 1982.
46. T. Azuhata, T. Sota, K. Suzuki, S. Nakamura, J. Phys.: Condens. Matter 1995, 7, L129.
47. V. Yu. Davydov, Y. E. Kitaev. I. N. Goncharuk, A. N. Smimov, J. Graul, O. Semchinova, D. Uffmann, M. B. Smirnov, A. P. Mirgorodsky, R. A. Evarestov, Phys. Rev. B: Condens Matter 1998, 58, 12899.
48. H. Siegle, G. Kaczmarczyk, L. Filippidis, A. P. Litvinchuk, A. Hoffmann, C. Thomsen, Phys. Rev. B: Condens. Matter 1997, 55, 7000.
49. C. Bungaro, K. Rapcewicz, J. Bernholc, Phys. Rev. B: Condens. Matter 2000, 61, 6720.
50. H. M. Tütüncü, G. P. Srivastava, Phys. Rev. B: Condens. Matter 2000, 62, 5028.
51. a) F. Xu, Y. Xie, X. Zhang, S. Y. Zhang, L. Shi, New J. Chem. 2003, 27, 565.
52. b) I. P. Parkin, Chem. Soc. Rev. 1996, 25, 199.
53. a) E. G. Gillan, R. B. Kaner, Chem. Mater. 1996, 8, 333.
54. b) C. H. Wallace, T. K. Reynolds, R. B. Kaner, Chem. Mater. 1999, 11, 2299.
55. c)R. W. Cumberland, R. G. Blair, C. H. Wallace, T. K. Reynolds, R. B. Kaner, J. Phys. Chem. B: Condens. Matter 2001, 105, 11922.
56. a) A. P. Purdy, S. Case, N. Muratore, J. Cryst. Growth 2003, 252, 136.
57. b) Q. S. Chen, V. Prasad, W. R. Hu, J. Cryst. Growth 2003, 258, 181.
58. J. A. Dean, Lange's Handbook of Chemistry, 13th ed., McGraw-Hill, New York 1985.
59. A. R. Roosen, W. C. Carter, Physica A 1998, 261, 232.
60. A. C. Frank, F. Stowasser, O. Stark, H.-T. Kwak, H. Sussek, A. Rupp, H. Pritzkow, O. Ambacher, M. Giersig and R. A. Fischer, Adv. Mater. Opt. Electron. 1998, 8, 135.
61. T. S. Zheleva, O. H. Nam, M. D. Bremser, R. F. Davis, Appl. Phys. Lett. 1997, 71, 2472.
62. R. S. Wagner, W. C. Ellis, Appl. Phys. Lett. 1964, 4, 89.
63. M. H. Huang, Y. Y. Wu, H. Feick, N. Tran, E. Weber, P. D. Yang, Adv. Mater. 2001, 13, 113.
64. M. S. Gudiksen, C. M. Lieber, J. Am. Chem. Soc. 2000, 122, 8801.
65. J. W. Snoeck, G. F. Froment, M. Fowles, J. Catal. 1997, 169, 240.
66. J. D. Corbett. R. K. McMullan. J. Am. Chem. Soc. 1955, 77, 4217.