Electroless Cu deposition on a TiN barrier in CuSO4-HF solution

Journal of the Electrochemical Society

Volumn 152, Issue 7, 2005, Pages

  Zhong, Sheng ^a   Yang, Zhi Gang ^a   Cai, Jian ^a   He, Hao Jie ^a   Wen, Jin Sheng ^a   Liu, Chao ^a  

^a TSINGHUA UNIVERSITY   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

COPPER COMPOUNDS; ELECTROCHEMICAL ELECTRODES; ELECTRONS; HYDROFLUORIC ACID; METALLIC FILMS; OXIDATION; POLYSTYRENES; SILICON WAFERS; SOLUTIONS; TITANIUM NITRIDE; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY;

COPPER FILMS; ELECTROLESS COPPER DEPOSITION; FREE ELECTRONS; SILICON SUBSTRATES;

ELECTRODEPOSITION;

EID: 23744435774     PISSN: 00134651     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1149/1.1922908     Document Type: Article

References (32)

1. D. C. Edelstein, G. A. Sai-Halasz. and Y. J. Mii, IBM J. Res. Dev., 38, 383 (1995).
2. D. Edelstein, J. Heidenreich, R. Goldblatt, W. Cote, C. Uzoh, N. Lustig, P. Roper, T. McDvitt, W. Motsfiff, A. Simon, J. Dukovic, R. Wachnik, H. Rathore, R. Shultz, L. Su, S. Luce, and J. Slattery, Tech, Dig. - Int. Electron Devices Meet., 1997, 773.
3. J. C. Lin and C. Lee, J. Electrochem. Soc., 146, 3466 (1999).
4. Y. Shacham-Diamand, J. Electron. Mater., 30, 336 (2001).
5. H. Ono, T. Nakano, and T. Ohta, Appl. Phys. Lett., 64, 1511 (1994).
6. B. Chin, P. Ding, B. Sun, T. Chiang, D. Angelo, I. Hashim, Z. Xu, S. Edelstein, and F. Chen, Solid State Technol., 41, 141 (1998).
7. Y. Shacham-Diamand, V. Dubin, and M. Angyal, Thin Solid Films, 262, 93 (1995).
8. H. H. Hsu, C. C. Hsieh, M. H. Chen, S. J. Lin, and J. W. Yeh, J. Electrochem. Soc., 148, C590 (2001).
9. A. Radisic, Y. Cao, P. Taephaisitphongse, A. C. West, and P. C. Searson, J. Electrochem. Soc., 150, C362 (2003).
10. L. A. Nakahara, T. Ohmori, K. Hashimoto, and F. Fujishima, J. Electroanal, Chem., 333, 363 (1992).
11. J. C. Patterson, M. O'Relly, G. M. Crean, and J. Barrett, Microelectron. Eng., 33, 65 (1997).
12. S. G. dos Santos F, L. F. O. Martins, P. C. T. D'Ajello, A. A. Pasa, and C. M. Hasenack, Microelectron. Eng., 33, 59 (1997).
13. C. Carrao, L. Magagnin, and R. Maboudian, Electrochim. Acta, 47, 2583 (2002).
14. L. Magagnin, R. Maboudian, and C. Carraro, Electrochem. Solid-State Lett., 4, C5 (2001).
15. W. T. Tseng, C. H. Lo, and S. C. Lee, J. Electrochem. Soc., 148, C327 (2001).
16. W. T. Tseng, C. H. Lo, and S. C. Lee, J. Electrochem. Soc., 148, C333 (2001).
17. V. Bertagna, F. Rouelle, G. Revel, and M. Chemla, J. Electrochem. Soc., 144, 4175 (1997).
18. M. L. Polignano, A. Giussani, D. Caputo, C. Clementi, G. Pavia, and F. Priolo, J. Electrochem. Soc., 149, 0429 (2002).
19. R. S. Liu, C. C. You, M. S. Tsai, S. F. Hu, Y. H. Li, and C. P. Lu, Solid State Commun., 125, 445 (2003).
20. S. Zhong, Z. G. Yang, and C. Jian, J. Electrochem. Soc., 152, C143 (2005).
21. C. L. Liu, J. Cohen, J. B. Adams, and A. F. Voter, Surf. Sci., 253, 334 (1991).
22. J. C. Patterson, C. Ni Dheasuna, J. Barrett, T. R. Spalding, M. O'Reilly, X. Jiang. and G. M. Crean, Appl. Surf. Sci., 91, 124 (1995).
23. Z. L. Wang, H. Sakaue, S. Shingubara, and T. Takahagi, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, 42, 1843 (2003).
24. B. V. Crist, Handbook of Monochromatic XPS Spectra. The Elements and Native Oxides, p. 279, John Wiley & Sons Ltd., London (2000).
25. D. P. Tracy, D. B. Knorr, and K. P. Rodbell, J. Appl. Phys., 76, 2671 (1994).
26. N. Awaya and T. Kobayashi, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, 37, 1156 (1998).
27. H. H. Hsu, K. H. Liu, S. J. Lin, and J. W. Yeh, J. Electrochem. Soc., 148, C47 (2001).
28. D. B. Knorr and K. P. Rodbell, J. Appl. Phys., 79, 2409 (1996).
29. C. Ryu, K. W. Kwon, A. L. S. Loke, H. Lee, T. Nogami, V. M. Dubin, R. A. Kavari, G. W. Ray, and S. S. Wong, IEEE Trans. Electron Devices, ED-46, 1113 (1999).
30. J. J. Kim and S. H. Cha, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, 40, 7151 (2001).
31. J. J. Kim, S. H. Cha, and Y. S. Lee, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, 42, L953 (2003).
32. H. H. Hsu, C. W. Teng, S. J. Lin, and J. W. Yeh, J. Electrochem. Soc., 149, C143 (2002).