Effect of gold coating on local oxidation using an atomic force microscope

Applied Physics Letters

Volumn 86, Issue 16, 2005, Pages 1-3

  Hwang, J S ^a   You, Z Y ^a   Lin, S Y ^a   Hu, Z S ^a   Wu, C T ^b   Chen, C W ^b   Chen, K H ^c  

^a NATIONAL TAIWAN OCEAN UNIVERSITY   (Taiwan)

^b NATIONAL TAIWAN UNIVERSITY   (Taiwan)

^c INSTITUTE OF ATOMIC AND MOLECULAR SCIENCES   (Taiwan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ATOMIC FORCE MICROSCOPY; COATING TECHNIQUES; LITHOGRAPHY; OXIDATION; SILICON; SQUIDS;

DIFFUSION BARRIER; GOLD COATING; LOCAL OXIDATION; NANO-OXIDATION;

GOLD;

EID: 20844444739     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1901804     Document Type: Article

References (24)

1. E. S. Snow, P. M. Campbell, F. A. Buot, D. Park, C. R. K. Marrian, and R. Magno, Appl. Phys. Lett. 72, 3071 (1998).
2. R. Garcia, M. Calleja, and H. Rohrer, J. Appl. Phys. 86, 1898 (1999).
3. E. B. Cooper, S. R. Manalis, H. Fang, H. Dai, K. Matsumoto, S. C. Minne, T. Hunt, and C. F. Quate, Appl. Phys. Lett. 75, 3566 (1999).
4. K. Matsumoto, Y. Gotoh, T. Maeda, J. A. Dagata, and J. S. Harris, Appl. Phys. Lett. 76, 239 (2000).
5. F. S. Chien, Y.-C. Chou, T. T. Chen, W.-F. Hsieh, T. S. Chao, and S. Gwo, J. Appl. Phys. 89, 2465 (2001).
6. V. Bouchiat, M. Faucher, C. Thirion, W. Wernsdorfer, T. Fournier, and B. Pannetier, Appl. Phys. Lett. 79, 123 (2001).
7. L. Pellegrino, I. Pallecchi, D. Marŕ, E. Bellingeri, and A. S. Siri, Appl. Phys. Lett. 81, 3849 (2002).
8. A. Dorn, M. Sigrist, A. Fuhrer, T. Ihn, T. Heinzel, K. Ensslin, W. Wegscheider, and M. Bichler, Appl. Phys. Lett. 80, 252 (2002).
9. Y. Okada, Y. Iuchi, M. Kawabe, and J. S. Harris, Jr., Appl. Phys. Lett. 88, 1136 (2000).
10. F. S. S. Chien, J. W. Chang, S. W. Lin, Y. C. Chou, T. T. Chen, S. Gwo, T. S. Chao, and W. F. Hsieh, Appl. Phys. Lett. 76, 360 (2000).
11. X. N. Xie, H. J. Chung, C. H. Sow, and A. T. S. Wee, Appl. Phys. Lett. 84, 4914 (2004).
12. M. S. Hagedom, D. D. Litfin, G. M. Price, A. E. Gordon, and T. K. Higman, J. Vac. Sci. Technol. B 14, 4153 (1996).
13. E. S. Snow and P. M. Campbell, Science 250, 1639 (1995).
14. H. Sugimura, T. Uchida, N. Kitamura, and H. Masuhara, Appl. Phys. Lett. 63, 1288 (1993).
15. K. Matsumoto, M. Ishii, K. Segawa, Y. Oka, B. J. Vartanian, and J. S. Harris, Appl. Phys. Lett. 68, 34 (1996).
16. Y. R. Ma, C. Yu, Y. D. Yao, Y. Liou, and S. F. Lee, Phys. Rev. B 64, 195324 (2001).
17. R. W. Li, T. Kanki, H. A. Tohyama, J. Zhang, H. Tanaka, A. Takagi, T. Matsumoto, and T. Kawai, J. Appl. Phys. 95, 7091 (2004).
18. I. Song, B. M. Kim, and G. Park, Appl. Phys. Lett. 76, 601 (2000).
19. P. M. Campbell, E. S. Snow, and P. J. McMarr, Appl. Phys. Lett. 66, 1388 (1995).
20. E. S. Snow, P. M. Campbell, R. W. Rendell, F. A. Buot, D. Park, C. R. K. Marrian, and R. Magno, Appl. Phys. Lett. 72, 3071 (1998).
21. I. Pallecchi, L. Pellegrino, E. Bellingeri, A. S. Siri, and D. Marre, J. Appl. Phys. 95, 8079 (2004).
22. M. Tello and R. Garcia, Appl. Phys. Lett. 83, 2339 (2003).
23. M. W. Xu, P. Eyben, T. Hantschel, and W. Vandervorst, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 41, 1048 (2002).
24. A. E. Gordon, R. T. Fayfield, D. D. Litfin, and T. K. Higman, J. Vac. Sci. Technol. B 13, 2805 (1995).