Bonding characterization, density measurement, and thermal diffusivity studies of amorphous silicon carbon nitride and boron carbon nitride thin films

Journal of Applied Physics

Volumn 92, Issue 9, 2002, Pages 5150-5158

  Chattopadhyay, S ^a   Chen, L C ^a   Chien, S C ^b   Lin, S T ^b   Chen, K H ^c  

^a NATIONAL TAIWAN UNIVERSITY   (Taiwan)

^b NATIONAL TAIWAN UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY   (Taiwan)

^c INSTITUTE OF ATOMIC AND MOLECULAR SCIENCES   (Taiwan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

A-CARBON; ALUMINUM THIN FILMS; AMORPHOUS SILICON CARBON NITRIDE; BORON CARBON NITRIDE; CARBON CONCENTRATIONS; CARBON CONTENT; CRITICAL ISSUES; CRYSTALLINE SILICONS; DIFFERENT SUBSTRATES; EMPIRICAL MODEL; FILM DENSITY; FILM PROPERTIES; LAYERED STRUCTURES; THERMAL DIFFUSIVITY DATA; THICKNESS DEPENDENCE; THICKNESS OF THE FILM; TRAVELING WAVE;

AMORPHOUS SILICON; BORON CARBIDE; CARBON; CARBON FILMS; SILICON CARBIDE; SUBSTRATES; THERMAL DIFFUSIVITY; THIN FILMS;

CARBON NITRIDE;

EID: 18744371960     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1512966     Document Type: Article

References (47)

1. J. E. Graebner, J. A. Mucha, L. Seibles, and G. W. Kammlott, J. Appl. Phys. 71, 3143 (1992). jap JAPIAU 0021-8979
2. M. Reichling and H. Groenbeck, J. Appl. Phys. 75, 1914 (1994). jap JAPIAU 0021-8979
3. F. A. McDonald, Am. J. Phys. 48, 41 (1980). ajp AJPIAS 0002-9505
4. A. A. Maznev, J. Hartmann, and M. Reichling, J. Appl. Phys. 78, 5266 (1995). jap JAPIAU 0021-8979
5. M. K. El-Adawi, M. A. Abdel-Naby, and S. A. Shalaby, Int. J. Heat Mass Transf. 38, 947 (1995). ijh IJHMAK 0017-9310
6. P. G. Kosky, Rev. Sci. Instrum. 64, 1071 (1993). rsi RSINAK 0034-6748
7. D. M. Bhusari, C. W. Teng, K. H. Chen, S. L. Wei, and L. C. Chen, Rev. Sci. Instrum. 68, 4180 (1997). rsi RSINAK 0034-6748
8. G. Langer, J. Hartmann, and M. Reichling, Rev. Sci. Instrum. 68, 1510 (1997). rsi RSINAK 0034-6748
9. R. Emmerich, S. Bauer, and B. Ploss, Appl. Phys. A: Solids Surf. A54, 334 (1992). apa APSFDB 0721-7250
10. K. L. Saenger, J. Appl. Phys. 65, 1447 (1989). jap JAPIAU 0021-8979
11. M. Reichling, Z. L. Wu, E. Welsch, D. Schaeffer, and E. Matthias, in Photoacoustic and Photothermal Phenomena III, edited by D. Bicanic, Springer Series in Optical Sciences Vol. 69 (Springer, Heidelberg, 1992), p. 698.
12. A. Skumanich, H. Dersch, M. Fathallah, and N. M. Amer, Appl. Phys. A: Solids Surf. A43, 297 (1987). apa APSFDB 0721-7250
13. M. Beyfuss, H. Reichl, and J. Baumann, in Ref. 11, p. 692.
14. A. Mandelis, J. Opt. Soc. Am. A 6, 298 (1989). joa JOAOD6 0740-3232
15. A. Mandelis and K. F. Leung, J. Opt. Soc. Am. A 8, 186 (1991). joa JOAOD6 0740-3232
16. D. Y. Lin, C. F. Li, Y. S. Huang, Y. C. Jong, Y. F. Chen, L. C. Chen, C. K. Chen, K. H. Chen, and D. M. Bhusari, Phys. Rev. B 56, 6498 (1997). prb PRBMDO 0163-1829
17. L. C. Chen, C. K. Chen, S. L. Wei, D. M. Bhusari, K. H. Chen, Y. F. Chen, Y. C. Jong, and Y. S. Huang, Appl. Phys. Lett. 72, 2463 (1998). apl APPLAB 0003-6951
18. L. C. Chen, K. H. Chen, S. L. Wei, P. D. Kichambare, J.-J. Wu, T. R. Lu, and C. T. Kuo, Thin Solid Films 355-356, 112 (1999). tsf THSFAP 0040-6090
19. A. R. Badzian, T. Niemyski, S. Appenheimer, and E. Olkusnik, in Proceedings of the Third International Conference on Chemical Vapor Deposition, edited by F. A. Glaski (American Nuclear Society, Hinsdale, IL, 1972), p. 747.
20. J. Kouvetakis, T. Sasaki, C. Shen, R. Hagiwara, M. Lemer, K. M. Krishnan, and N. Bartlett, Synth. Met. 34, 1 (1989). sym SYMEDZ 0379-6779
21. T. Sasaki, M. Akaishi, S. Yamaoka, Y. Fujiki, and T. Oikawa, Chem. Mater. 5, 695 (1993). cma CMATEX 0897-4756
22. R. A. W. Pryor, Appl. Phys. Lett. 68, 1802 (1996). apl APPLAB 0003-6951
23. Y. Chen, J. C. Barnard, R. E. Palmer, M. O. Watanabe, and T. Sasaki, Phys. Rev. Lett. 83, 2406 (1999). prl PRLTAO 0031-9007
24. M. O. Watanabe, S. Itoh, T. Sasaki, and K. Mizushima, Phys. Rev. Lett. 77, 187 (1996). prl PRLTAO 0031-9007
25. V. L. Solozhenko, D. Andrault, G. Fiquet, M. Mezouar, and D. C. Rubie, Appl. Phys. Lett. 78, 1385 (2001). apl APPLAB 0003-6951
26. J. J. Wu et al., Diamond Relat. Mater. 8, 605 (1999). drm DRMTE3 0925-9635
27. J. J. Wu, C. T. Wu, Y. C. Liao, T. R. Lu, L. C. Chen, K. H. Chen, L. G. Hwa, C. T. Kuo, and K. J. Ling, Thin Solid Films 355-356, 417 (1999). tsf THSFAP 0040-6090
28. J. E. Graebner, S. Jin, G. W. Kammlott, B. Bacon, L. Seibles, and W. Banholzer, J. Appl. Phys. 71, 5353 (1992). jap JAPIAU 0021-8979
29. A. Ono, T. Baba, H. Funamoto, and A. Nishikawa, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 25, L808 (1986). jjc JAPLD8 0021-4922
30. K. M. Leung, A. C. Cheung, B. C. Liu, H. K. Woo, C. Sun, X. Q. Shi, and S. T. Lee, Diamond Relat. Mater. 8, 1607 (1999). drm DRMTE3 0925-9635
31. E. P. Visser, E. H. Versteegen, and W. J. P. van Enckevort, J. Appl. Phys. 71, 3238 (1992). jap JAPIAU 0021-8979
32. G. W. Farnell and E. L. Adler, Physical Acoustics, edited by W. P. Mason and R. N. Thurston (Academic, New York, 1972), Vol. IX, pp. 35 ff.
33. A. Neubrand and P. Hess, J. Appl. Phys. 71, 277 (1991). jap JAPIAU 0021-8979
34. C. A. Lucas, P. D. Hatton, S. Bates, W. Ryan, S. Miles, and B. K. Tanner, J. Appl. Phys. 63, 1936 (1998). jap JAPIAU 0021-8979
35. D. Marton, K. J. Boyd, A. H. Al-Bayati, S. S. Todorov, and J. W. Rabalais, Phys. Rev. Lett. 73, 118 (1994). prl PRLTAO 0031-9007
36. J. P. Zhao, Z. Y. Chen, T. Yano, T. Ooie, M. Yoneda, and J. Sakakibara, J. Appl. Phys. 89, 1634 (2001). jap JAPIAU 0021-8979
37. S. Bhattacharyya, C. Cardinaud, and G. Turban, J. Appl. Phys. 83, 4491 (1998). jap JAPIAU 0021-8979
38. B. C. Holloway, O. Kraft, D. K. Shuh, M. A. Kelly, W. D. Nix, P. Pianetta, and S. Hagström, Appl. Phys. Lett. 74, 3290 (1999). apl APPLAB 0003-6951
39. S. V. Deshpande, E. Gulari, S. J. Harris, and A. M. Weiner, Appl. Phys. Lett. 65, 1757 (1994). apl APPLAB 0003-6951
40. H. Kunzli, P. Gantenbein, R. Steiner, and P. Oelhafen, Anal. Chem. 346, 41 (1993). anc ANCHAM 0003-2700
41. S. Chattopadhyay, Debabrata Das, A. K. Barua, D. L. Williamson, and S. T. Kshirsagar, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 37, 5480 (1998). jjb JAPNDE 0021-4922
42. G. Lehmann et al., Phys. Rev. B 64, 165305 (2001). prb PRBMDO 0163-1829
43. J. Hartmann, P. Voigt, and M. Reichling, J. Appl. Phys. 81, 2966 (1997). jap JAPIAU 0021-8979
44. B. R. Powell, G. E. Youngblood, D. P. H. Hasselman, and L. D. Bensten, J. Am. Ceram. Soc. 63, 581 (1980). jac JACTAW 0002-7820
45. K. Jagannadham and H. Wang, J. Appl. Phys. 91, 1224 (2002). jap JAPIAU 0021-8979
46. S. T. Huxtable et al., Appl. Phys. Lett. 80, 1737 (2002). apl APPLAB 0003-6951
47. D. P. H. Hasselman and L. F. Johnson, J. Compos. Mater. 21, 508 (1987). jcv JCOMBI 0021-9983