Tetrafluoroethylene-based fluoropolymers for 157-nm resist materials

Journal of Photopolymer Science and Technology

Volumn 16, Issue 4, 2003, Pages 607-613

  Toriumi, M ^a   Ishikawa, T ^a   Kodani, T ^a   Koh, M ^a   Moriya, T ^a   Araki, T ^a   Aoyama, H ^a   Yamashita, T ^a   Yamazaki, T ^b   Furukawa, T ^b   Itani, T ^b  

^a DAIKIN INDUSTRIES LTD   (Japan)

^b SEMICONDUCTOR LEADING EDGE TECHNOLOGIES INC   (Japan)

Author keywords

157 nm fluoropolymer; Norbornene; Quartz crystal microbalance; Resist; Tetrafluoroethylene

Indexed keywords

CYCLOPENTADIENE DERIVATIVE; ETHYLENE DERIVATIVE; POLYMER;

ARTICLE; CYCLOADDITION; DIFFUSION COEFFICIENT; FLUORINATION; LIGHT ABSORPTION; NUCLEAR MAGNETIC RESONANCE SPECTROSCOPY; OPTICAL RESOLUTION; POLYMERIZATION; PROTON NUCLEAR MAGNETIC RESONANCE; SOLUBILITY; SUBSTITUTION REACTION;

EID: 0037830660     PISSN: 09149244     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.2494/photopolymer.16.607     Document Type: Article

References (37)

1. T. M. Bloomstein, M. Rothschild, R. R. Kunz, D. E. Hardy, R. B. Goodman, and S. T. Palmacci, J. Vac. Sci. Technol., B16 (1998), 3154.; R. R. Kunz, T. M. Bloomstein, D. E. Hardy, R. B. Goodman, D. E. Downs, and J. E. Curtin, J. Photopolym. Sci. Technol., 12 (1999), 561.; M. Rothschild, T. M. Bloomstein, T. H. Fedynyshyn, R. R. Kunz, V. Liberman, and M. Switkes, J. Photopolym. Sci. Techno., 13 (2000), 369.; T. H. Fedynyshyn, R. R. Kunz, R. F. Sinta, M. Sworin, W. A. Mowers, R. B. Goodman, and S. P. Doran, Proc. SPIE 4345 (2001), 296.; T. H. Fedynyshyn, R. R. Kunz, R. F. Sinta, M. Sworin W. A. Mowers, R. B. Goodman, and A. Cabral, J. Photopolym. Sci. Technol., 15 (2002), 655.
2. T. M. Bloomstein, M. Rothschild, R. R. Kunz, D. E. Hardy, R. B. Goodman, and S. T. Palmacci, J. Vac. Sci. Technol., B16 (1998), 3154.; R. R. Kunz, T. M. Bloomstein, D. E. Hardy, R. B. Goodman, D. E. Downs, and J. E. Curtin, J. Photopolym. Sci. Technol., 12 (1999), 561.; M. Rothschild, T. M. Bloomstein, T. H. Fedynyshyn, R. R. Kunz, V. Liberman, and M. Switkes, J. Photopolym. Sci. Techno., 13 (2000), 369.; T. H. Fedynyshyn, R. R. Kunz, R. F. Sinta, M. Sworin, W. A. Mowers, R. B. Goodman, and S. P. Doran, Proc. SPIE 4345 (2001), 296.; T. H. Fedynyshyn, R. R. Kunz, R. F. Sinta, M. Sworin W. A. Mowers, R. B. Goodman, and A. Cabral, J. Photopolym. Sci. Technol., 15 (2002), 655.
3. T. M. Bloomstein, M. Rothschild, R. R. Kunz, D. E. Hardy, R. B. Goodman, and S. T. Palmacci, J. Vac. Sci. Technol., B16 (1998), 3154.; R. R. Kunz, T. M. Bloomstein, D. E. Hardy, R. B. Goodman, D. E. Downs, and J. E. Curtin, J. Photopolym. Sci. Technol., 12 (1999), 561.; M. Rothschild, T. M. Bloomstein, T. H. Fedynyshyn, R. R. Kunz, V. Liberman, and M. Switkes, J. Photopolym. Sci. Techno., 13 (2000), 369.; T. H. Fedynyshyn, R. R. Kunz, R. F. Sinta, M. Sworin, W. A. Mowers, R. B. Goodman, and S. P. Doran, Proc. SPIE 4345 (2001), 296.; T. H. Fedynyshyn, R. R. Kunz, R. F. Sinta, M. Sworin W. A. Mowers, R. B. Goodman, and A. Cabral, J. Photopolym. Sci. Technol., 15 (2002), 655.
4. T. M. Bloomstein, M. Rothschild, R. R. Kunz, D. E. Hardy, R. B. Goodman, and S. T. Palmacci, J. Vac. Sci. Technol., B16 (1998), 3154.; R. R. Kunz, T. M. Bloomstein, D. E. Hardy, R. B. Goodman, D. E. Downs, and J. E. Curtin, J. Photopolym. Sci. Technol., 12 (1999), 561.; M. Rothschild, T. M. Bloomstein, T. H. Fedynyshyn, R. R. Kunz, V. Liberman, and M. Switkes, J. Photopolym. Sci. Techno., 13 (2000), 369.; T. H. Fedynyshyn, R. R. Kunz, R. F. Sinta, M. Sworin, W. A. Mowers, R. B. Goodman, and S. P. Doran, Proc. SPIE 4345 (2001), 296.; T. H. Fedynyshyn, R. R. Kunz, R. F. Sinta, M. Sworin W. A. Mowers, R. B. Goodman, and A. Cabral, J. Photopolym. Sci. Technol., 15 (2002), 655.
5. T. M. Bloomstein, M. Rothschild, R. R. Kunz, D. E. Hardy, R. B. Goodman, and S. T. Palmacci, J. Vac. Sci. Technol., B16 (1998), 3154.; R. R. Kunz, T. M. Bloomstein, D. E. Hardy, R. B. Goodman, D. E. Downs, and J. E. Curtin, J. Photopolym. Sci. Technol., 12 (1999), 561.; M. Rothschild, T. M. Bloomstein, T. H. Fedynyshyn, R. R. Kunz, V. Liberman, and M. Switkes, J. Photopolym. Sci. Techno., 13 (2000), 369.; T. H. Fedynyshyn, R. R. Kunz, R. F. Sinta, M. Sworin, W. A. Mowers, R. B. Goodman, and S. P. Doran, Proc. SPIE 4345 (2001), 296.; T. H. Fedynyshyn, R. R. Kunz, R. F. Sinta, M. Sworin W. A. Mowers, R. B. Goodman, and A. Cabral, J. Photopolym. Sci. Technol., 15 (2002), 655.
6. H. Ito, G. M. Wallraff, N. Fender, P. J. Brock, C. E. Larson, H. D. Truong, G. Breyta, D. C. Miller, M. H. Sherwood, and R. D. Allen, J. Photopolym. Sci. Technol., 14 (2001), 583.; H. Ito, Hoa D. Truong, M. Okazaki, D. C. Miller, N. Fender, G. Breyta, P. J. Brock, G. M. Wallraff, C. E. Larson, R. D. Allen, Proc. SPIE 4690 (2002), 18.
7. H. Ito, G. M. Wallraff, N. Fender, P. J. Brock, C. E. Larson, H. D. Truong, G. Breyta, D. C. Miller, M. H. Sherwood, and R. D. Allen, J. Photopolym. Sci. Technol., 14 (2001), 583.; H. Ito, Hoa D. Truong, M. Okazaki, D. C. Miller, N. Fender, G. Breyta, P. J. Brock, G. M. Wallraff, C. E. Larson, R. D. Allen, Proc. SPIE 4690 (2002), 18.
8. D. Schmaljohann, Y. C. Bae, G. L. Weibel, A. H. Hamad, and C. K. Ober, J. Photopolymer Sci. Technol., 13 (2000), 451.; Y. C. Bae, K. Douki, T. Yu, J. Dai, D. Schmaljohann, S. H. Kang, K. H. Kim, H. Koerner, W. Conley, D. Miller, R. Balasubramanian, S. Holl, and C. K. Ober, J. Photopolymer Sci. Technol., 14 (2001), 613.; C. K. Ober, K. Douki, V. R. Vohra, Y.-J. Kwark and X.-Q. Liu, J. Photopolymer Sci. Technol. 15 (2002), 603.; V. R. Vohra, K. Douki, Y.-J. Kwark, X. -Q. Liu, C. K. Ober, and Y. C. Bae, Proc. SPIE 4690, (2002), 84.; Y. C. Bae, K. Douki, T. Yu, J. Dai, D. Schmaljohann, H. Koerner, and C. K. Ober, Chem. Mater. 14 (2002), 1306.
9. D. Schmaljohann, Y. C. Bae, G. L. Weibel, A. H. Hamad, and C. K. Ober, J. Photopolymer Sci. Technol., 13 (2000), 451.; Y. C. Bae, K. Douki, T. Yu, J. Dai, D. Schmaljohann, S. H. Kang, K. H. Kim, H. Koerner, W. Conley, D. Miller, R. Balasubramanian, S. Holl, and C. K. Ober, J. Photopolymer Sci. Technol., 14 (2001), 613.; C. K. Ober, K. Douki, V. R. Vohra, Y.-J. Kwark and X.-Q. Liu, J. Photopolymer Sci. Technol. 15 (2002), 603.; V. R. Vohra, K. Douki, Y.-J. Kwark, X. -Q. Liu, C. K. Ober, and Y. C. Bae, Proc. SPIE 4690, (2002), 84.; Y. C. Bae, K. Douki, T. Yu, J. Dai, D. Schmaljohann, H. Koerner, and C. K. Ober, Chem. Mater. 14 (2002), 1306.
10. D. Schmaljohann, Y. C. Bae, G. L. Weibel, A. H. Hamad, and C. K. Ober, J. Photopolymer Sci. Technol., 13 (2000), 451.; Y. C. Bae, K. Douki, T. Yu, J. Dai, D. Schmaljohann, S. H. Kang, K. H. Kim, H. Koerner, W. Conley, D. Miller, R. Balasubramanian, S. Holl, and C. K. Ober, J. Photopolymer Sci. Technol., 14 (2001), 613.; C. K. Ober, K. Douki, V. R. Vohra, Y.-J. Kwark and X.-Q. Liu, J. Photopolymer Sci. Technol. 15 (2002), 603.; V. R. Vohra, K. Douki, Y.-J. Kwark, X. -Q. Liu, C. K. Ober, and Y. C. Bae, Proc. SPIE 4690, (2002), 84.; Y. C. Bae, K. Douki, T. Yu, J. Dai, D. Schmaljohann, H. Koerner, and C. K. Ober, Chem. Mater. 14 (2002), 1306.
11. D. Schmaljohann, Y. C. Bae, G. L. Weibel, A. H. Hamad, and C. K. Ober, J. Photopolymer Sci. Technol., 13 (2000), 451.; Y. C. Bae, K. Douki, T. Yu, J. Dai, D. Schmaljohann, S. H. Kang, K. H. Kim, H. Koerner, W. Conley, D. Miller, R. Balasubramanian, S. Holl, and C. K. Ober, J. Photopolymer Sci. Technol., 14 (2001), 613.; C. K. Ober, K. Douki, V. R. Vohra, Y.-J. Kwark and X.-Q. Liu, J. Photopolymer Sci. Technol. 15 (2002), 603.; V. R. Vohra, K. Douki, Y.-J. Kwark, X. -Q. Liu, C. K. Ober, and Y. C. Bae, Proc. SPIE 4690, (2002), 84.; Y. C. Bae, K. Douki, T. Yu, J. Dai, D. Schmaljohann, H. Koerner, and C. K. Ober, Chem. Mater. 14 (2002), 1306.
12. D. Schmaljohann, Y. C. Bae, G. L. Weibel, A. H. Hamad, and C. K. Ober, J. Photopolymer Sci. Technol., 13 (2000), 451.; Y. C. Bae, K. Douki, T. Yu, J. Dai, D. Schmaljohann, S. H. Kang, K. H. Kim, H. Koerner, W. Conley, D. Miller, R. Balasubramanian, S. Holl, and C. K. Ober, J. Photopolymer Sci. Technol., 14 (2001), 613.; C. K. Ober, K. Douki, V. R. Vohra, Y.-J. Kwark and X.-Q. Liu, J. Photopolymer Sci. Technol. 15 (2002), 603.; V. R. Vohra, K. Douki, Y.-J. Kwark, X. -Q. Liu, C. K. Ober, and Y. C. Bae, Proc. SPIE 4690, (2002), 84.; Y. C. Bae, K. Douki, T. Yu, J. Dai, D. Schmaljohann, H. Koerner, and C. K. Ober, Chem. Mater. 14 (2002), 1306.
13. Y. Uetani, K. Hashimoto, Y. Miya, I. Yoshida, M. Takigawa, and R. Hanawa, Proc. SPIE 4345 (2001), 379.
14. T. Chiba, R. J. Hung, S. Yamada, B. Trinque, M. Yamachika, C. Brodsky, K. Patterson, A. V. Heyden, A. Jamison, S.-H. Lin, M. Somervell, J. Byers, W. Conley, and C. Grant Willson, J. Photopolymer Sci. Technol. 13 (2000), 657.; H. V. Tran, R. J. Hung, T. Chiba, S. Yamada, T. Mrozek, Y.-T. Hsieh, C. R. Chambers, B. P. Osborn, B. C. Trinque, M. J. Pinnow, D. P. Sanders, E. F. Connor, R. H. Grubbs, W. Conley, S. A. MacDonald and C. G. Willson, J. Photopolym. Sci. Technol., 14 (2001), 669.; R. R. Dammel, R. Sakamuri, T. Kudo, A. Romano, L. Rhodes, R. Vicari, C. Hacker, W.Conley and D. Miller, J. Photopolymer Sci. Technol. 14 (2001), 603.; B. C. Trinque, B. P. Osborn, C. R. Chambers, Y.-T. Hsieh, S. Corry, T. Chiba, R. J. Hung, H. V. Tran, P. Zimmerman, D. Miller, W. Conley, and C. G. Willson, Proc. SPIE 4690 (2002), 58.; R. R. Dammel, R. Sakamuri, S.-H. Lee, M. D. Rahman, T. Kudo, A. Romano, L. Rhodes, J. Lipian, C. Hacker and D. A. Barnes, Proc. SPIE 4690, (2002), 101.; D. P. Sanders, E. F. Connor, R. H. Grubbs, R. J. Hung, B. P. Osborn, T. Chiba, S. A. MacDonald, C. G. Willson, and W. Conley, Macromolecules 36 (2003), 1534.
15. T. Chiba, R. J. Hung, S. Yamada, B. Trinque, M. Yamachika, C. Brodsky, K. Patterson, A. V. Heyden, A. Jamison, S.-H. Lin, M. Somervell, J. Byers, W. Conley, and C. Grant Willson, J. Photopolymer Sci. Technol. 13 (2000), 657.; H. V. Tran, R. J. Hung, T. Chiba, S. Yamada, T. Mrozek, Y.-T. Hsieh, C. R. Chambers, B. P. Osborn, B. C. Trinque, M. J. Pinnow, D. P. Sanders, E. F. Connor, R. H. Grubbs, W. Conley, S. A. MacDonald and C. G. Willson, J. Photopolym. Sci. Technol., 14 (2001), 669.; R. R. Dammel, R. Sakamuri, T. Kudo, A. Romano, L. Rhodes, R. Vicari, C. Hacker, W.Conley and D. Miller, J. Photopolymer Sci. Technol. 14 (2001), 603.; B. C. Trinque, B. P. Osborn, C. R. Chambers, Y.-T. Hsieh, S. Corry, T. Chiba, R. J. Hung, H. V. Tran, P. Zimmerman, D. Miller, W. Conley, and C. G. Willson, Proc. SPIE 4690 (2002), 58.; R. R. Dammel, R. Sakamuri, S.-H. Lee, M. D. Rahman, T. Kudo, A. Romano, L. Rhodes, J. Lipian, C. Hacker and D. A. Barnes, Proc. SPIE 4690, (2002), 101.; D. P. Sanders, E. F. Connor, R. H. Grubbs, R. J. Hung, B. P. Osborn, T. Chiba, S. A. MacDonald, C. G. Willson, and W. Conley, Macromolecules 36 (2003), 1534.
16. T. Chiba, R. J. Hung, S. Yamada, B. Trinque, M. Yamachika, C. Brodsky, K. Patterson, A. V. Heyden, A. Jamison, S.-H. Lin, M. Somervell, J. Byers, W. Conley, and C. Grant Willson, J. Photopolymer Sci. Technol. 13 (2000), 657.; H. V. Tran, R. J. Hung, T. Chiba, S. Yamada, T. Mrozek, Y.-T. Hsieh, C. R. Chambers, B. P. Osborn, B. C. Trinque, M. J. Pinnow, D. P. Sanders, E. F. Connor, R. H. Grubbs, W. Conley, S. A. MacDonald and C. G. Willson, J. Photopolym. Sci. Technol., 14 (2001), 669.; R. R. Dammel, R. Sakamuri, T. Kudo, A. Romano, L. Rhodes, R. Vicari, C. Hacker, W.Conley and D. Miller, J. Photopolymer Sci. Technol. 14 (2001), 603.; B. C. Trinque, B. P. Osborn, C. R. Chambers, Y.-T. Hsieh, S. Corry, T. Chiba, R. J. Hung, H. V. Tran, P. Zimmerman, D. Miller, W. Conley, and C. G. Willson, Proc. SPIE 4690 (2002), 58.; R. R. Dammel, R. Sakamuri, S.-H. Lee, M. D. Rahman, T. Kudo, A. Romano, L. Rhodes, J. Lipian, C. Hacker and D. A. Barnes, Proc. SPIE 4690, (2002), 101.; D. P. Sanders, E. F. Connor, R. H. Grubbs, R. J. Hung, B. P. Osborn, T. Chiba, S. A. MacDonald, C. G. Willson, and W. Conley, Macromolecules 36 (2003), 1534.
17. T. Chiba, R. J. Hung, S. Yamada, B. Trinque, M. Yamachika, C. Brodsky, K. Patterson, A. V. Heyden, A. Jamison, S.-H. Lin, M. Somervell, J. Byers, W. Conley, and C. Grant Willson, J. Photopolymer Sci. Technol. 13 (2000), 657.; H. V. Tran, R. J. Hung, T. Chiba, S. Yamada, T. Mrozek, Y.-T. Hsieh, C. R. Chambers, B. P. Osborn, B. C. Trinque, M. J. Pinnow, D. P. Sanders, E. F. Connor, R. H. Grubbs, W. Conley, S. A. MacDonald and C. G. Willson, J. Photopolym. Sci. Technol., 14 (2001), 669.; R. R. Dammel, R. Sakamuri, T. Kudo, A. Romano, L. Rhodes, R. Vicari, C. Hacker, W.Conley and D. Miller, J. Photopolymer Sci. Technol. 14 (2001), 603.; B. C. Trinque, B. P. Osborn, C. R. Chambers, Y.-T. Hsieh, S. Corry, T. Chiba, R. J. Hung, H. V. Tran, P. Zimmerman, D. Miller, W. Conley, and C. G. Willson, Proc. SPIE 4690 (2002), 58.; R. R. Dammel, R. Sakamuri, S.-H. Lee, M. D. Rahman, T. Kudo, A. Romano, L. Rhodes, J. Lipian, C. Hacker and D. A. Barnes, Proc. SPIE 4690, (2002), 101.; D. P. Sanders, E. F. Connor, R. H. Grubbs, R. J. Hung, B. P. Osborn, T. Chiba, S. A. MacDonald, C. G. Willson, and W. Conley, Macromolecules 36 (2003), 1534.
18. T. Chiba, R. J. Hung, S. Yamada, B. Trinque, M. Yamachika, C. Brodsky, K. Patterson, A. V. Heyden, A. Jamison, S.-H. Lin, M. Somervell, J. Byers, W. Conley, and C. Grant Willson, J. Photopolymer Sci. Technol. 13 (2000), 657.; H. V. Tran, R. J. Hung, T. Chiba, S. Yamada, T. Mrozek, Y.-T. Hsieh, C. R. Chambers, B. P. Osborn, B. C. Trinque, M. J. Pinnow, D. P. Sanders, E. F. Connor, R. H. Grubbs, W. Conley, S. A. MacDonald and C. G. Willson, J. Photopolym. Sci. Technol., 14 (2001), 669.; R. R. Dammel, R. Sakamuri, T. Kudo, A. Romano, L. Rhodes, R. Vicari, C. Hacker, W.Conley and D. Miller, J. Photopolymer Sci. Technol. 14 (2001), 603.; B. C. Trinque, B. P. Osborn, C. R. Chambers, Y.-T. Hsieh, S. Corry, T. Chiba, R. J. Hung, H. V. Tran, P. Zimmerman, D. Miller, W. Conley, and C. G. Willson, Proc. SPIE 4690 (2002), 58.; R. R. Dammel, R. Sakamuri, S.-H. Lee, M. D. Rahman, T. Kudo, A. Romano, L. Rhodes, J. Lipian, C. Hacker and D. A. Barnes, Proc. SPIE 4690, (2002), 101.; D. P. Sanders, E. F. Connor, R. H. Grubbs, R. J. Hung, B. P. Osborn, T. Chiba, S. A. MacDonald, C. G. Willson, and W. Conley, Macromolecules 36 (2003), 1534.
19. T. Chiba, R. J. Hung, S. Yamada, B. Trinque, M. Yamachika, C. Brodsky, K. Patterson, A. V. Heyden, A. Jamison, S.-H. Lin, M. Somervell, J. Byers, W. Conley, and C. Grant Willson, J. Photopolymer Sci. Technol. 13 (2000), 657.; H. V. Tran, R. J. Hung, T. Chiba, S. Yamada, T. Mrozek, Y.-T. Hsieh, C. R. Chambers, B. P. Osborn, B. C. Trinque, M. J. Pinnow, D. P. Sanders, E. F. Connor, R. H. Grubbs, W. Conley, S. A. MacDonald and C. G. Willson, J. Photopolym. Sci. Technol., 14 (2001), 669.; R. R. Dammel, R. Sakamuri, T. Kudo, A. Romano, L. Rhodes, R. Vicari, C. Hacker, W.Conley and D. Miller, J. Photopolymer Sci. Technol. 14 (2001), 603.; B. C. Trinque, B. P. Osborn, C. R. Chambers, Y.-T. Hsieh, S. Corry, T. Chiba, R. J. Hung, H. V. Tran, P. Zimmerman, D. Miller, W. Conley, and C. G. Willson, Proc. SPIE 4690 (2002), 58.; R. R. Dammel, R. Sakamuri, S.-H. Lee, M. D. Rahman, T. Kudo, A. Romano, L. Rhodes, J. Lipian, C. Hacker and D. A. Barnes, Proc. SPIE 4690, (2002), 101.; D. P. Sanders, E. F. Connor, R. H. Grubbs, R. J. Hung, B. P. Osborn, T. Chiba, S. A. MacDonald, C. G. Willson, and W. Conley, Macromolecules 36 (2003), 1534.
20. M. K. Crawford, A. E. Feiring, J. Feldman, R. H. French, M. Periyasamy, F. L. Schadt III, R. J. Smalley, F. C. Zumsteg, R. R. Kunz, V. Rao, L. Liao, and S. M. Holl, Proc. SPIE 3999 (2000), 357.; M. K. Crawford, A. E. Feiring, J. Feldman, R. H. French, V. A. Petrov, F. L. Schadt III, R. J. Smalley, and F. C. Zumsteg, Proc. SPIE 4345 (2001), 428.; M. K. Crawford, W. B. Farnham, A. E. Feiring, J. Feldman, R. H. French, K. W. Leffew, V. A. Petrov, F. L. Schadt III, and F. C. Zumsteg, J. Photopolymer Sci. Technol. 15 (2002), 677.; G. Taylor, C. B. Xu, G. Teng, J. Leonard, C. Szmanda, W. Lawrence, S. Nur, K. Brown, and A. Stephen, SPIE 4690 (2002), 51.
21. M. K. Crawford, A. E. Feiring, J. Feldman, R. H. French, M. Periyasamy, F. L. Schadt III, R. J. Smalley, F. C. Zumsteg, R. R. Kunz, V. Rao, L. Liao, and S. M. Holl, Proc. SPIE 3999 (2000), 357.; M. K. Crawford, A. E. Feiring, J. Feldman, R. H. French, V. A. Petrov, F. L. Schadt III, R. J. Smalley, and F. C. Zumsteg, Proc. SPIE 4345 (2001), 428.; M. K. Crawford, W. B. Farnham, A. E. Feiring, J. Feldman, R. H. French, K. W. Leffew, V. A. Petrov, F. L. Schadt III, and F. C. Zumsteg, J. Photopolymer Sci. Technol. 15 (2002), 677.; G. Taylor, C. B. Xu, G. Teng, J. Leonard, C. Szmanda, W. Lawrence, S. Nur, K. Brown, and A. Stephen, SPIE 4690 (2002), 51.
22. M. K. Crawford, A. E. Feiring, J. Feldman, R. H. French, M. Periyasamy, F. L. Schadt III, R. J. Smalley, F. C. Zumsteg, R. R. Kunz, V. Rao, L. Liao, and S. M. Holl, Proc. SPIE 3999 (2000), 357.; M. K. Crawford, A. E. Feiring, J. Feldman, R. H. French, V. A. Petrov, F. L. Schadt III, R. J. Smalley, and F. C. Zumsteg, Proc. SPIE 4345 (2001), 428.; M. K. Crawford, W. B. Farnham, A. E. Feiring, J. Feldman, R. H. French, K. W. Leffew, V. A. Petrov, F. L. Schadt III, and F. C. Zumsteg, J. Photopolymer Sci. Technol. 15 (2002), 677.; G. Taylor, C. B. Xu, G. Teng, J. Leonard, C. Szmanda, W. Lawrence, S. Nur, K. Brown, and A. Stephen, SPIE 4690 (2002), 51.
23. M. K. Crawford, A. E. Feiring, J. Feldman, R. H. French, M. Periyasamy, F. L. Schadt III, R. J. Smalley, F. C. Zumsteg, R. R. Kunz, V. Rao, L. Liao, and S. M. Holl, Proc. SPIE 3999 (2000), 357.; M. K. Crawford, A. E. Feiring, J. Feldman, R. H. French, V. A. Petrov, F. L. Schadt III, R. J. Smalley, and F. C. Zumsteg, Proc. SPIE 4345 (2001), 428.; M. K. Crawford, W. B. Farnham, A. E. Feiring, J. Feldman, R. H. French, K. W. Leffew, V. A. Petrov, F. L. Schadt III, and F. C. Zumsteg, J. Photopolymer Sci. Technol. 15 (2002), 677.; G. Taylor, C. B. Xu, G. Teng, J. Leonard, C. Szmanda, W. Lawrence, S. Nur, K. Brown, and A. Stephen, SPIE 4690 (2002), 51.
24. M. Toriumi, S. Ishikawa, S. Miyoshi, T. Naito, T. Yamazaki, M. Watanabe, and T. Itani, Proc. SPIE 4345 (2001), 371.; M. Toriumi, N. Shida, H. Watanabe, T. Yamazaki, S. Ishikawa, and T. Itani, Proc. SPIE 4690 (2002), 191.; N. Shida, H. Watanabe, T. Yamazaki, S. Ishikawa, M. Toriumi, and T. Itani, Proc. SPIE 4690 (2002), 497.
25. M. Toriumi, S. Ishikawa, S. Miyoshi, T. Naito, T. Yamazaki, M. Watanabe, and T. Itani, Proc. SPIE 4345 (2001), 371.; M. Toriumi, N. Shida, H. Watanabe, T. Yamazaki, S. Ishikawa, and T. Itani, Proc. SPIE 4690 (2002), 191.; N. Shida, H. Watanabe, T. Yamazaki, S. Ishikawa, M. Toriumi, and T. Itani, Proc. SPIE 4690 (2002), 497.
26. M. Toriumi, S. Ishikawa, S. Miyoshi, T. Naito, T. Yamazaki, M. Watanabe, and T. Itani, Proc. SPIE 4345 (2001), 371.; M. Toriumi, N. Shida, H. Watanabe, T. Yamazaki, S. Ishikawa, and T. Itani, Proc. SPIE 4690 (2002), 191.; N. Shida, H. Watanabe, T. Yamazaki, S. Ishikawa, M. Toriumi, and T. Itani, Proc. SPIE 4690 (2002), 497.
27. S. Kodama, I. Kaneko, Y. Takebe, S. Okada, Y. Kawaguchi, N. Shida, S. Ishikawa, M. Toriumi, and T. Itani, Proc. SPIE 4690, (2002), 76.
28. M. Koh, T. Ishikawa, T. Araki, H. Aoyama, T. Yamashita, T. Yamazaki, H. Watanabe, M. Toriumi, and T. Itani, Proc. SPIE 4690 (2002), 486.; M. Toriumi, M. Koh, T. Ishikawa, T. Kodani, T. Araki, H. Aoyama, T. Yamashita, T. Yamazaki, T. Furukawa and T. Itani, Proc. SPIE 5039 (2003), in press.; M. Koh, T. Ishikawa, M. Toriumi, M. Koh, T. Araki, H. Aoyama, T. Yamashita, T. Yamazaki, T. Furukawa and T. Itani, Proc. SPIE 5039 (2003), in press.
29. M. Koh, T. Ishikawa, T. Araki, H. Aoyama, T. Yamashita, T. Yamazaki, H. Watanabe, M. Toriumi, and T. Itani, Proc. SPIE 4690 (2002), 486.; M. Toriumi, M. Koh, T. Ishikawa, T. Kodani, T. Araki, H. Aoyama, T. Yamashita, T. Yamazaki, T. Furukawa and T. Itani, Proc. SPIE 5039 (2003), in press.; M. Koh, T. Ishikawa, M. Toriumi, M. Koh, T. Araki, H. Aoyama, T. Yamashita, T. Yamazaki, T. Furukawa and T. Itani, Proc. SPIE 5039 (2003), in press.
30. M. Koh, T. Ishikawa, T. Araki, H. Aoyama, T. Yamashita, T. Yamazaki, H. Watanabe, M. Toriumi, and T. Itani, Proc. SPIE 4690 (2002), 486.; M. Toriumi, M. Koh, T. Ishikawa, T. Kodani, T. Araki, H. Aoyama, T. Yamashita, T. Yamazaki, T. Furukawa and T. Itani, Proc. SPIE 5039 (2003), in press.; M. Koh, T. Ishikawa, M. Toriumi, M. Koh, T. Araki, H. Aoyama, T. Yamashita, T. Yamazaki, T. Furukawa and T. Itani, Proc. SPIE 5039 (2003), in press.
31. M. Toriumi, T. Ohfuji, M. Endo, and H. Morimoto, J. Photopolymer Sci. Technol. 12, (1999), 545.; M. Toriumi, S. Ishikawa, and T. Itani, Forefront of Lithographic Materials Research, Society of Plastic Engineers, Mid Hudson Section, (2001), 271.; M. Toriumi, T. Itani, J. Yamashita, T. Sekine, and K. Nakatani, Proc. SPIE 4690 (2002), 904 and references therein.
32. M. Toriumi, T. Ohfuji, M. Endo, and H. Morimoto, J. Photopolymer Sci. Technol. 12, (1999), 545.; M. Toriumi, S. Ishikawa, and T. Itani, Forefront of Lithographic Materials Research, Society of Plastic Engineers, Mid Hudson Section, (2001), 271.; M. Toriumi, T. Itani, J. Yamashita, T. Sekine, and K. Nakatani, Proc. SPIE 4690 (2002), 904 and references therein.
33. M. Toriumi, T. Ohfuji, M. Endo, and H. Morimoto, J. Photopolymer Sci. Technol. 12, (1999), 545.; M. Toriumi, S. Ishikawa, and T. Itani, Forefront of Lithographic Materials Research, Society of Plastic Engineers, Mid Hudson Section, (2001), 271.; M. Toriumi, T. Itani, J. Yamashita, T. Sekine, and K. Nakatani, Proc. SPIE 4690 (2002), 904 and references therein.
34. M. Toriumi, I. Satoh, and T. Itani, J. Vac. Sci. Technol. B18 (2000), 3328.
35. T. Yamazaki and T. Itani, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, (2003) in print.
36. N. Matsuzawa, S. Mori, E. Yano, S. Okazaki, A. Ishitani and D. A. Dixon, Proc. SPIE 3999 (2000), 375.
37. T. Yamazaki, T. Furukawa, T. Itani, T. Ishikawa, M. Koh, T. Araki, T. Toriumi, T. Yamashita and H. Aoyama, Proc. SPIE 5039 (2003) in press.