Magnetotransport and microstructure of annealed magnetic tunnel junctions

Journal of Applied Physics

Volumn 91, Issue 10 I, 2002, Pages 6617-6625

  Schmalhorst, J ^a   Bruckl H ^a   Reiss, G ^a   Gieres, G ^b   Wecker, J ^b  

^a BIELEFELD UNIVERSITY   (Germany)

^b SIEMENS AG   (Germany)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ANNEALING TEMPERATURES; ARTIFICIAL FERRIMAGNETS; AUGER DEPTH PROFILING; BARRIER PROPERTIES; COMPLEMENTARY METHODS; HIGHER TEMPERATURES; ISOCHRONAL ANNEALING; MAGNETIC TUNNEL JUNCTION; OXIDATION TIME; PINNING LAYERS; SPIN ELECTRONIC; STRUCTURAL CHANGE; THERMALLY INDUCED; TUNNELING MAGNETORESISTANCE; TUNNELING PROPERTIES; VOLTAGE DEPENDENCE;

MICROSTRUCTURE;

ANNEALING;

EID: 0037094922     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1471387     Document Type: Article

References (36)

1. J. S. Moodera, L. R. Kinder, T. M. Wong, and R. Meservey, Phys. Rev. Lett. 74, 3273 (1995). prl PRLTAO 0031-9007
2. S. S. P. Parkin, K. P. Roche, M. G. Samant, P. M. Rice, R. B. Beyers, R. E. Scheuerlein, E. J. O'Sullivan, S. L. Brown, J. Bucchigano, D. W. Abraham et al., J. Appl. Phys. 85, 5828 (1999). jap JAPIAU 0021-8979
3. W. J. Gallagher, S. P. Parkin, Y. Lu, X. P. Bian, A. Marley, K. P. Roche, R. A. Altmann, S. A. Rishton, C. Jahnes, T. M. Shaw et al., J. Appl. Phys. 81, 3741 (1997). jap JAPIAU 0021-8979
4. J. Daughton, J. Appl. Phys. 81, 3758 (1997). jap JAPIAU 0021-8979
5. J. J. Sun, R. C. Sousa, T. T. P. Galvao, V. Soares, T. S. Plaskett, and P. P. Freitas, J. Appl. Phys. 83, 6694 (1998). jap JAPIAU 0021-8979
6. R. C. Sousa, J. J. Sun, V. Soares, P. P. Freitas, A. Kling, M. F. da Silva, and J. C. Soares, Appl. Phys. Lett. 73, 3288 (1998). apl APPLAB 0003-6951
7. X.-F. Han, M. Oogane, H. Kubota, Y. Ando, and T. Miyazaki, Appl. Phys. Lett. 77, 283 (2000). apl APPLAB 0003-6951
8. H. Boeve, C. Bruynseraede, J. Das, K. Dessein, G. Borghs, J. D. R. C. S. ans L. V. Melo, and P. P. Freitas, IEEE Trans. Magn. 35, 2820 (1999). emg IEMGAQ 0018-9464
9. W. Oepts, H. J. Verhagen, D. B. de Mooij, V. Zieren, R. Coehoorn, and W. J. M. de Jonge, J. Magn. Magn. Mater. 198-199, 164 (1999). jmm JMMMDC 0304-8853
10. M. Sato and K. Kobayashi, IEEE Trans. Magn. 33, 3553 (1997). emg IEMGAQ 0018-9464
11. M. Sato, H. Kikuchi, and K. Kobayashi, J. Appl. Phys. 83, 6691 (1998). jap JAPIAU 0021-8979
12. S. Cardoso, R. Ferreira, P. P. Freitas, P. Wei, and J. C. Soares, Appl. Phys. Lett. 76, 3792 (2000). apl APPLAB 0003-6951
13. S. S. P. Parkin, K. Moon, K. E. Pettit, D. J. Smith, R. E. Dunin-Borkowski, and M. R. McCartney, Appl. Phys. Lett. 75, 543 (1999). apl APPLAB 0003-6951
14. J. Schmalhorst, H. Brückl, G. Reiss, M. Vieth, G. Gieres, and J. Wecker, J. Appl. Phys. 87, 5191 (2000). jap JAPIAU 0021-8979
15. H. A. M. van den Berg, W. Clemens, G. Gieres, G. Rupp, M. Vieth, J. Wecker, and S. Zoll, J. Magn. Magn. Mater. 165, 524 (1997). jmm JMMMDC 0304-8853
16. C. Tiusan, M. Hehn, K. Ounadjela, Y. Henry, J. Hommet, C. Meny, H. A. M. van den Berg, L. Baer, and R. Kinder, J. Appl. Phys. 85, 5276 (1999). jap JAPIAU 0021-8979
17. H. A. M. van den Berg, J. Altmann, L. Baer, G. Gieres, R. Kinder, G. Rupp, M. Vieth, and J. Wecker, IEEE Trans. Magn. 35, 2892 (1999). emg IEMGAQ 0018-9464
18. D. Briggs and M. P. Seah, Practical Surface Analysis (Wiley, New York, 1990), Chap. 5.
19. E. R. Malinowski, Factor Analysis in Chemistry (Wiley, New York, 1991).
20. D. Briggs and M. P. Seah, Practical Surface Analysis (Wiley, New York, 1990), Chap. 4.
21. J. Schmalhorst, H. Brückl, G. Reiss, R. Richter, G. Gieres, and J. Wecker, J. Appl. Phys. (to be published).
22. P. J. Cumpson and M. P. Seah, Surf. Interface Anal. 25, 430 (1997). sia SIANDQ 0142-2421
23. C. Tiusan, T. Dimopoulos, K. Ounadjela, M. Hehn, H. A. M. van den Berg, V. da Costa, and Y. Henry, Phys. Rev. B 61, 580 (2000). prb PRBMDO 0163-1829
24. P. LeClair, H. J. M. Swagten, J. T. Kohlhepp, R. J. M. van de Veerdonk, and W. J. M. de Jonge, Phys. Rev. Lett. 84, 2933 (2000). prl PRLTAO 0031-9007
25. P. LeClair, J. T. Kohlhepp, H. J. M. Swagten, and W. J. M. de Jonge, Phys. Rev. Lett. 86, 1066 (2001). prl PRLTAO 0031-9007
26. J. Nowak, D. Song, and E. Murdock, J. Appl. Phys. 87, 5203 (2000). jap JAPIAU 0021-8979
27. J. Schmalhorst, H. Brückl, M. Justus, A. Thomas, G. Reiss, M. Vieth, G. Gieres, and J. Wecker, J. Appl. Phys. 89, 586 (2001). jap JAPIAU 0021-8979
28. H. Brückl, J. Schmalhorst, G. Reiss, G. Gieres, and J. Wecker, Appl. Phys. Lett. 78, 1113 (2001). apl APPLAB 0003-6951
29. W. Oepts, H. J. Verhagen, R. Coehoorn, and W. J. M. de Jonge, J. Appl. Phys. 86, 3863 (1999). jap JAPIAU 0021-8979
30. J. W. McPherson and H. C. Mogul, J. Appl. Phys. 84, 1513 (1998). jap JAPIAU 0021-8979
31. J. Zhang and R. M. White, J. Appl. Phys. 83, 6512 (1998). jap JAPIAU 0021-8979
32. R. Boom, F. R. De Boer, A. K. Niessen, and A. R. Miedema, Physica B & C 115, 285 (1983). pbc PHBCDQ 0378-4363
33. A. K. Niessen, A. R. Miedema, F. R. De Boer, and R. Boom, Physica B 151, 401 (1988). phb PHYBE3 0921-4526
34. A. K. Niessen, A. R. Miedema, F. R. De Boer, and R. Boom, Physica B 152, 303 (1988). phb PHYBE3 0921-4526
35. K. Barmak, G. A. Lucadamo, J. C. Cabral, C. Lavoie, and J. M. E. Harper, J. Appl. Phys. 87, 2204 (2000). jap JAPIAU 0021-8979
36. W. F. Brinkman, R. C. Dynes, and J. M. Rowell, J. Appl. Phys. 41, 1915 (1970). jap JAPIAU 0021-8979