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Volumn 80, Issue 4, 2000, Pages 647-659

Structural characterization of Ar+-ion-amorphized 6H-SiC wafers annealed at 1100 °C in N2 or wet O2 ambient

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EID: 0034175253     PISSN: 13642812     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1080/13642810008209772     Document Type: Article
Times cited : (16)

References (21)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.