Post-annealing effect in reactive r.f.-magnetron-sputtered carbon nitride thin films

Surface and Interface Analysis

Volumn 28, Issue 1, 1999, Pages 245-249

  Chen, G L ^a   Li, Y ^a   Lin, J ^a   Huan, C H A ^a   Guo, Y P ^a  

^a NATIONAL UNIVERSITY OF SINGAPORE   (Singapore)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ABSORPTION SPECTROSCOPY; ANNEALING; CARBON INORGANIC COMPOUNDS; CHEMICAL BONDS; MAGNETRON SPUTTERING; POLYCRYSTALLINE MATERIALS; SEMICONDUCTING SILICON; SPUTTER DEPOSITION; SUBSTRATES; THERMAL EFFECTS; THIN FILMS; TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPY;

CARBON NITRIDE;

DIELECTRIC FILMS;

EID: 0032642525     PISSN: 01422421     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/(SICI)1096-9918(199908)28:1<245::AID-SIA586>3.0.CO;2-I     Document Type: Article

References (35)

1. A. Hoffman, I. Gouzman and R. Brener, Appl. Phys. Lett. 64, 845 (1994).
2. Y. Gu, L. Pan, M. Zhao, X. Chang, Z. Tian and J. Xiao, Chin. Phys. Lett. 13, 782 (1996).
3. A. Bousetta, M. Lu, A. Bensaoula and A. Schultz, App. Phys. Lett. 65, 696 (1994).
4. D. Wu, D. Fu, H. Guo, Z. Zhang, X. Meng and X. Fan, Phys. Rev. B 56, 4949 (1997).
5. K. Yu, M. L. Cohen, E. E. Haller, W. L. Hansen, A. Y. Liu and I. C. Wu, Phys. Rev. B 49, 5034 (1994).
6. Y. Li, Z. Zhang, S. Xie and G. Yang, Chem. Phys. Lett. 247, 253 (1995).
7. S. Xu, H. Li, Y. Li, S. Lee and C. H. A. Huan, Chem. Phys. Lett. 287, 731 (1998).
8. A. J. Stevens, T. Koga, C. B. Agee, M. J. Aziz and C. M. Lieber, J. Am. Chem. Soc. 118, 10900 (1996).
9. C. Niu, Y. Z. Lu and C. M. Lieber, Science 261, 334 (1993).
10. A. K. Sharma, P. Ayyub, M. S. Multani, K. P. Adhi, S. B. Ogale, M. Sunderaraman, D. D. Upadhyay and S. Banerjee, Appl. Phys. Lett. 69, 3489 (1996).
11. L. A. Bursill, J. Peng, V. N. Gurarie, V. Orlov and S. Prower, J. Mater. Res. 10, 2277 (1995).
12. T. Okada, S. Yamada, Y. Takeuchi and T. Wada, J. Appl. Phys. 78, 7416 (1995).
13. J. P. Rivière, D. Texier, J. Delafond, M. Jaouen, E. L. Mathé and J. Charmont, Mater. Lett. 22, 115 (1995).
14. M. Y. Chen, X. Lin, V. P. Dravid, Y. W. Chung, M. S. Wong and W. D. Sproul, J. Vac. Sci. Technol. A 11, 521 (1993).
15. S. R. P. Silva, G. A. J. Amaratunga and J. R. Barnes, Appl. Phys. Lett. 71, 1477 (1997).
16. Y. Chen, L. Guo, F. Chen and E. G. Wang, J. Phys. Condens. Matter 8, 685 (1996).
17. A. Y. Liu and M. L. Cohen, Science 245, 841 (1989).
18. A. Y. Liu and M. L. Cohen, Phys. Rev. B 41,10727 (1990).
19. A. Y. Liu and R. M. Wentzcovitch, Phys. Rev. B 50, 10362 (1994).
20. J. Ortega and O. F. Sankey, Phys. Rev. B 51, 2624 (1995).
21. D. M. Teter and R. J. Hemley, Science 271, 53 (1996).
22. M. M. Lacerda, F. L. Freire, Jr. and G. Mariotto, Diamond Relat. Mater. 7, 412 (1998).
23. T. Wang, E. T. Kang, K. G. Neoh, K. L. Tan, C. Q. Cui and T. B. Lim, J. Adhes. Sci. Technol. 11, 679 (1997).
24. P. Hammer, M. A. Baker, C. Lenardi and W. Gissler, J. Vac. Sci. Technol. A 15, 107 (1997).
25. M. R. Wixtom, J. Am. Chem. Soc. 73, 1973 (1990).
26. A. Richter, H. J. Scheibe, W. Pompe, K. W. Brezezinka and I. Muhling, J. Non-Cryst. Solids 88, 131 (1986).
27. Z. J. Zhang, S. Fan, J. Huang and C. M. Lieber, J. Electron. Mater. 25, 57 (1996).
28. K. J. Boyd, D. Marton, S. S. Torodov, A. H. Al-Bayati, J. Kulik, R. A. Zuhr and J. W. Rabalais, J. Vac. Sci. Technol. A 13, 2110 (1995).
29. M. A. Baker and P. Hammer, Surf. Interface Anal. 25, 301 (1997).
30. G. Beamson and D. Briggs, High Resolution XPS of Organic Polymers, p. 182. Wiley, Chichester (1992).
31. G. L. Chen, Y. Li, J. Lin, C. H. A. Huan and Y. P. Guo, J. Phys. D 32, 195 (1999).
32. J. M. Ripalda, I. Montero and L. Galán, Diamond Relat. Mater. 7, 402 (1998).
33. Z. John Zhang, J. Huang, S. Fan, C. M. Lieber, Mater. Sci. Eng. A 209, 5 (1996).
34. A. K. M. S. Chowdhury, M. Monclus, D. C. Cameron, J. Gilvarry, M. J. Murphy, N. P. Barradas and M. S. J. Hashmi, Thin Solid Films 308309, 130 (1997).
35. R. Mcweeny, in Coulson's Valence, p. 250. Oxford University Press, Oxford (1991).