Nanostructures fabricated by electron beam induced chemical vapor deposition

Superlattices and Microstructures

Volumn 36, Issue 1-3, 2004, Pages 255-264

  Takeguchi, M ^a   Shimojo, M ^a,b   Mitsuishi, K ^a   Tanaka, M ^a   Furuya, K ^a  

^a NATIONAL INSTITUTE FOR MATERIALS SCIENCE   (Japan)

^b TOKYO INSTITUTE OF TECHNOLOGY   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

AMORPHOUS MATERIALS; CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY; ELECTRON BEAMS; HEAT TREATMENT; TUNGSTEN;

ELECTRON BEAM INDUCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION (EBICVD); FIELD EMISSION GUN TRANSMISSION ELECTRON GUN (FEG-TEM); GAS SOURCE RESERVOIRS; VARIABLE LEAK VALVE;

NANOSTRUCTURED MATERIALS;

EID: 9644274270     PISSN: 07496036     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1016/j.spmi.2004.08.038     Document Type: Article

References (26)

1. M. Takeguchi, M. Tanaka, K. Furuya, Appl. Surf. Sci. 146 (1999) 257.
2. K. Furuya, K. Mitsuishi, M. Shimojo, M. Takeguchi, Rev. Adv. Mater. Sci. 5 (2003) 34.
3. A.J. DeMarco, J. Melngailis, J. Vac. Sci. Technol. B 17 (1999) 3154.
4. D.K. Stewart, J.A. Morgan, B. Ward, J. Vac. Sci. Technol. B 9 (1991) 2670.
5. S. Matsui, T. Kaito, J. Fujita, M. Komuro, K. Kanda, Y. Haruyama, J. Vac. Sci. Technol. B 3181 (2000) 18.
6. I. Utke, P. Hoffmann, B. Dwir, K. Leifer, E. Kapon, P. Doppelt, J. Vac. Sci. Technol. B 18 (2000) 3168.
7. A. Folch, J. Tejada, C.H. Peters, M.S. Wrighton, Appl. Phys. Lett. 66 (1995) 2080.
8. K.T. Kohlmann-von Platen, L.-M. Buchmann, H.-C. Petzold, W.H. Brunger, J. Vac. Sci. Technol. B 10 (1992) 2690.
9. K.T. Kohlmann-von Platen, J. Chiebek, M. Weiss, K. Reimer, H. Oertel, W.H. Brunger, J. Vac. Sci. Technol. B 11 (1993) 2219.
10. H.W.P. Koops, C. Schossler, A. Kaya, M. Weber, J. Vac. Sci. Technol. B 14 (1996) 4105.
11. H.W.P. Koops, A. Kaya, M. Weber, J. Vac. Sci. Technol. B 13 (1995) 2400.
12. A. Ishibashi, K. Funato, Y. Mori, J. Vac. Sci. Technol. B 9 (1991) 169.
13. S. Matsui, T. Ichihashi, Appl. Phys. Lett. 53 (1988) 842.
14. N.A. Kislov, I.I. Khodos, E.D. Ivanov, J. Barthel, Scanning 18 (1996) 114.
15. K. Mitsuishi, M. Shimojo, M. Han, K. Furuya, Appl. Phys. Lett. 83 (2003) 2064.
16. M. Tanaka, M. Shimojo, K. Mitsuishi, K. Furuya, Appl. Phys. A 78 (2004) 543.
17. M. Shimojo, K. Mitsuishi, A. Tameike, K. Furuya, J. Vac. Sci. Technol. B 22 (2004) 742.
18. M. Shimojo, K. Mitsuishi, M. Tanaka, M. Han, K. Furuya, J. Microsc. 214 (2004) 76.
19. M. Han, K. Mitsuishi, M. Shimojo, K. Furuya, Phil. Mag. 84 (2004) 1281.
20. R.R. Kunz, T.M. Mayer, Appl. Phys. Lett. 50 (1987) 962.
21. R.R. Kunz, T.M. Mayer, J. Vac. Sci. Technol. B 6 (1988) 1557.
22. H. Siriwardane, O.A. Pringle, J.W. Newkirk, W.J. James, Thin Solid Fllms 287 (1996) 8.
23. M. Takeguchi, M. Tanaka, H. Yasuda, K. Furuya, Surf. Interface Anal. 31 (2001) 68.
24. K. Mitsuishi, Z.Q. Liu, M. Shimojo, M. Han, K. Furuya, Ultramicroscopy (in press).
25. M. Shimojo, M. Takeguchi, M. Tanaka, K. Mitsuishi, K. Furuya, Appl. Phys. A (in press).
26. A.R. Sethuraman, J.M. Stencel, A.M. Rubel, B. Cavin, C.R. Hubbard, J. Vac. Sci. Technol. A 12 (1994) 443.