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Volumn 90, Issue 2, 2003, Pages 4-

Understanding Ultrahigh Doping: The Case of Boron in Silicon

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EID: 85038291093     PISSN: 00319007     EISSN: 10797114     Source Type: Journal    
DOI: 10.1103/PhysRevLett.90.026103     Document Type: Article
Times cited : (4)

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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.