Electrical Bistabilities and Memory Stabilities of Organic Bistable Devices Utilizing C60 Molecules Embedded in a Polymethyl Methacylate Matrix with an Al2O3 Blocking Layer

Journal of the Electrochemical Society

Volumn 159, Issue 8, 2012, Pages G93-G96

  Ko, Seong Hoon ^a   Yoo, Chan Ho ^a   Kim, Tae Whan ^a  

^a Hanyang University   (South Korea)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 85016912028     PISSN: 00134651     EISSN: 19457111     Source Type: Journal    
DOI: 10.1149/2.074208jes     Document Type: Article

References (32)

1. K. Onlaor, B. Tunhoo, T. Thiwawong, and J. Nukeaw, Curr. Appl. Phys., 12, 331 (2012).
2. M. F. Mabrook, Y. Yun, C. Pearson, D. A. Zeze, and M. C. Petty, Appl. Phys. Lett., 94, 173302 (2009).
3. D. I. Son, D. H. Park, W. K. Choi, S. H. Cho, W. T. Kim, and T. W. Kim, Nanotechnology, 20,195203 (2009).
4. F. Li, T. W. Kim, W. Dong, and Y.-H. Kim, Appl. Phys. Lett., 92, 011906 (2008).
5. D. I. Son, J. H. Kim, D. H. Park, W. K. Choi, F. Li, J. H. Ham, and T. W. Kim, Nanotechnology, 19, 055204 (2008).
6. C. J. Kim, S. J. Choi, S. Kim, J. W. Han, H. Kim, S. Yoo, and Y. K. Choi, Adv. Mater, 23, 3326 (2011).
7. S. Song,B. Cho,T.-W. Kim, Y. Ji,M. Jo, G. Wang,M. Choe, Y. H. Kahang, H. Hwang, and T. Lee, Adv. Mater., 22, 5048 (2010).
8. D. I. Son, C. H. You, W. T. Kim, J. H. Jung, and T. W. Kim, Appl. Phys. Lett., 94, 132103 (2009).
9. S. J. Kim and J. S. Lee, Nano Lett., 10, 2884 (2010).
10. D. I. Son, T. W. Kim, J. H. Shim, J. H. Jung, D. U. Lee, J. M. Lee, W. I. Park, and W. K. Choi,Nano Lett., 10, 2441 (2010).
11. H. Y. Jeong, J. Y. Kim, J. W. Kim, J. O. Hwang, J. E. Kim, J. Y. Lee, T. H. Yoon, B. J. Cho, S. O. Kim, R. S. Ruoff, and S. Y. Choi, Nano Lett., 10, 4381 (2010).
12. M. H. Lee, D. Y. Yun, H. M. Park, and T. W. Kim, Appl. Phys. Lett., 99, 183301 (2011).
13. F. Ferdousi, M. Jamil, H. Liu, S. Kaur, D. Ferrer, L. Colombo, and S. K. Banerjee, IEEE T. Nanotechnol., 10, 572 (2011).
14. Y. Chan, R. K. F. Lee, and J. M. Hill, IEEE T. Nanotechnol., 10, 947 (2011).
15. S. Paul, A. Kanwal, and M. Chhowalla, Nanotechnology, 17, 145 (2006).
16. A. Kanwal and M. Chhowalla, Appl. Phys. Lett., 89, 203103 (2006).
17. L. Qiu, J. A. Lim, X. Wang, W. H. Lee, M. Hwang, and K. Cho, Adv. Mater, 20, 1141 (2008).
18. Y. Yonekuta, K. Honda, and H. Nishide, Polym. Adv. Technol., 19, 281 (2008).
19. B. Cho, T. W. Kim, S. Song, Y. Ji, M. Jo, H. Hwang, G. Y. Jung, and T. Lee, Adv. Mater., 22, 1228 (2010).
20. N. Alimardani, E. W. Cowell III, J. F. Wager, J. F. Conley Jr., D. R. Evans, M. Chin, S. J. Kilpatrick, and M. Dubey, J. Vac. Sci. Technol. A, 30, 01A113 (2012).
21. K. C. Kao and W. Hwang, Electrical Transport in Solids (Pergamon, Oxford, 1981).
22. J. H. Jung and T. W. Kim, J. Appl. Phys., 110,043721 (2011).
23. J. H. Shim, J. H. Jung, M. H. Lee, T. W. Kim, D. I. Son, A. N. Han, and S. W. Kim, Org. Electron., 12, 1566 (2011).
24. C. W. Lin, D. Y. Wang, Y. Tai, Y. T. Jiang, M. C. Chen, C. C. Chen, Y. J. Yang, and Y. F. Chen, J. Phys. D: Appl. Phys., 44, 292002 (2011).
25. C. T. Lee, L. Z. Yu, and H. C. Chen, Appl. Phys. Lett., 97, 043301 (2010).
26. V. S. Reddy, S. Karak, and A. Dhar, Appl. Phys. Lett., 94, 173304 (2009).
27. D. Y. Kusuma, C. A. Nguyen, and P. S. Lee, J. Phys. Chem. B, 114, 13289 (2010).
28. S. Yang, X. Yang, X. Shao, R. Niu, and L. Wang, J. Hazard. Mater., 186, 659 (2011).
29. H. T. Lin, Z. Pei, and Y. J. Chan, IEEE Electron Device Lett., 28, 569 (2007).
30. J. A. Hagen, W. Li, A. J. Steckl, and J. G. Grote, Appl. Phys. Lett., 88,171109 (2006).
31. K.A. Nasyrov, V. A. Gritsenko, Y. N. Novikov, E. H. Lee, S. Y. Yoon, and C. W. Kim, J. Appl. Phys., 96, 4293 (2004).
32. J. Y. Zhang, L. E. Cai, B. P. Zhang, X. L. Hu, F. Jiang, J. Z. Yu, and O. M. Wang, Appl. Phys. Lett., 95, 161110 (2009).