Effects of nitrogen plasma post-treatment on electrical conduction of carbon nanowalls

Japanese Journal of Applied Physics

Volumn 53, Issue 4, 2014, Pages

  Cho, Hyung Jun ^a   Kondo, Hiroki ^a   Ishikawa, Kenji ^a   Sekine, Makoto ^a   Hiramatsu, Mineo ^b   Hori, Masaru ^a  

^a NAGOYA UNIVERSITY   (Japan)

^b MEIJO UNIVERSITY   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ELECTRIC CONDUCTIVITY; PLASMA APPLICATIONS;

CARBON NANOWALLS; ELECTRICAL CONDUCTION; ELECTRICAL CONDUCTIVITY; ELECTRONIC APPLICATION; GRAPHENE SHEETS; HALL MEASUREMENTS; PLASMA POST-TREATMENT; PLASMA TREATMENT;

GRAPHENE;

EID: 84903169660     PISSN: 00214922     EISSN: 13474065     Source Type: Journal    
DOI: 10.7567/JJAP.53.040307     Document Type: Article

References (40)

1. H. Mineo and M. Hori, Carbon Nanowalls: Growth and Emerging Applications (Springer, Heidelberg, 2010) Chap. 1.
2. M. Hiramatsu, K. Shiji, H. Amano, and M. Hori, Appl. Phys. Lett. 84, 4708 (2004).
3. W. Takeuchi, H. Kondo, T. Obayashi, M. Hiramatsu, and M. Hori, Appl. Phys. Lett. 98, 123107 (2011).
4. J. Yu, E. G. Wang, and X. D. Bai, Appl. Phys. Lett. 78, 2226 (2001).
5. F. Schwierz, Nat. Nanotechnol. 5, 487 (2010).
6. S. R. P. Silva, J. Robertson, G. A. J. Amaratunga, B. Rafferty, L. M. Brown, J. Schwan, D. F. Franceschini, and G. Mariotto, J. Appl. Phys. 81, 2626 (1997).
7. K. Ogata, J. F. D. Chubaci, and F. Fujimoto, J. Appl. Phys. 76, 3791 (1994).
8. F. Schedin, A. K. Geim, S. V. Morozov, E. W. Hill, P. Blake, M. I. Katsnelson, and K. S. Novoselov, Nat. Mater. 6, 652 (2007).
9. G. Giovannetti, P. A. Khomyakov, G. Brocks, V. M. Karpan, J. van den Brink, and P. J. Kelly, Phys. Rev. Lett. 101, 026803 (2008).
10. A. Reina, X. Jia, J. Ho, D. Nezich, H. Son, V. Bulovic, M. S. Dresselhaus, and J. Kong, Nano Lett. 9, 30 (2009).
11. B. Guo, Q. Liu, E. Chen, H. Zhu, L. Fang, and J. R. Gong, Nano Lett. 10, 4975 (2010).
12. S. Shimabukuro, Y. Hatakeyama, M. Takeuchi, T. Itoh, and S. Nonomura, Thin Solid Films 516, 710 (2008).
13. K. Kobayashi, M. Tanimura, H. Nakai, A. Yoshimura, H. Yoshimura, K. Kojima, and M. Tachibana, J. Appl. Phys. 101, 094306 (2007).
14. H. Yoshimura, S. Yamada, A. Yoshimura, I. Hirosawa, K. Kojima, and M. Tachibana, Chem. Phys. Lett. 482, 125 (2009).
15. M. Hiramatsu, K. Ito, C. H. Lau, J. S. Foord, and M. Hori, Diamond Relat. Mater. 12, 786 (2003).
16. S. Kondo, M. Hori, K. Yamakawa, S. Den, H. Kano, and M. Hiramatsu, J. Vac. Sci. Technol. B 26, 1294 (2008).
17. W. Takeuchi, K. Takeda, M. Hiramatsu, Y. Tokuda, H. Kano, S. Kimura, O. Sakata, H. Tajiri, and M. Hori, Phys. Status Solidi A 207, 139 (2010).
18. H. Kondo, W. Takeuchi, M. Hori, S. Kimura, Y. Kato, T. Muro, T. Kinoshita, O. Sakata, H. Tajiri, and M. Hiramatsu, Appl. Phys. Lett. 99, 213110 (2011).
19. W. Takeuchi, M. Ura, M. Hiramatsu, Y. Tokuda, H. Kano, and M. Hori, Appl. Phys. Lett. 92, 213103 (2008).
20. A. C. Ferrari and J. Robertson, Phys. Rev. B 61, 14095 (2000).
21. A. C. Ferrari and J. Robertson, Phys. Rev. B 64, 075414 (2001).
22. K. Yu, Z. Bo, G. Lu, S. Mao, S. Cui, Y. Zhu, X. Chen, R. S. Ruoff, and J. Chen, Nanoscale Res. Lett. 6, 202 (2011).
23. L. G. Cançado, K. Takai, T. Enoki, M. Endo, Y. A. Kim, H. Mizusaki, A. Jorio, L. N. Coelho, R. Magalhães-Paniago, and M. A. Pimenta, Appl. Phys. Lett. 88, 163106 (2006).
24. Z. H. Ni, H. M. Fan, Y. P. Feng, Z. X. Shen, B. J. Yang, and Y. H. Wu, J. Chem. Phys. 124, 204703 (2006).
25. N. G. Shang, F. C. K. Au, X. M. Meng, C. S. Lee, I. Bello, and S. T. Lee, Chem. Phys. Lett. 358, 187 (2002).
26. H. J. Cho, H. Kondo, K. Ishikawa, M. Sekine, M. Hiramatsu, and M. Hori, Carbon 68, 380 (2014).
27. M. K. Sharma, B. K. Saikia, A. Phukan, and B. Ganguli, Surf. Coatings Technol. 201, 2407 (2006).
28. S. K. Srivastava, V. D. Vankar, and V. Kumar, Thin Solid Films 515, 1552 (2006).
29. H. Liu, A. C. Frenkel, J. G. Kim, and R. M. Park, J. Appl. Phys. 74, 6124 (1993).
30. J. Seth, R. Padiyath, and S. V. Babu, Appl. Phys. Lett. 63, 126 (1993).
31. D. Marton, K. J. Boyd, A. H. Al-Bayati, S. S. Todorov, and J. W. Rabalais, Phys. Rev. Lett. 73, 118 (1994).
32. G. Liu, X. Li, P. Ganesan, and B. N. Popov, Appl. Catal. B 93, 156 (2009).
33. A. G. Kudashov, A. V. Okotrub, L. G. Bulusheva, I. P. Asanov, Yu. V. Shubin, N. F. Yudanov, L. I. Yudanova, V. S. Danilovich, and O. G. Abrosimov, J. Phys. Chem. B 108, 9048 (2004).
34. K. Raidongia, D. Jagadeesan, M. Upadhyay-Kahaly, U. V. Waghmare, S. K. Pati, M. Eswaramoorthy, and C. N. R. Rao, J. Mater. Chem. 18, 83 (2008).
35. R. Sen, B. C. Satishkumar, A. Govindaraj, K. R. Harikumar, G. Raina, J.-P. Zhang, A. K. Cheetham, and C. N. R. Rao, Chem. Phys. Lett. 287, 671 (1998).
36. Y. Shao, S. Zhang, M. H. Engelhard, G. Li, G. Shao, Y. Wang, J. Liu, I. A. Aksay, and Y. Lin, J. Mater. Chem. 20, 7491 (2010).
37. F. Su, Z. Tian, C. K. Poh, Z. Wang, S. H. Lim, Z. Liu, and J. Lin, Chem. Mater. 22, 832 (2010).
38. S. H. Lim, H. I. Elim, X. Y. Gao, A. T. S. Wee, W. Ji, J. Y. Lee, and J. Lin, Phys. Rev. B 73, 045402 (2006).
39. L. S. Panchakarla, A. Govindaraj, and C. N. R. Rao, ACS Nano 1, 494 (2007).
40. V. I. Arkhipov, P. Heremans, E. V. Emelianova, and H. Bässler, Phys. Rev. B 71, 045214 (2005).