Hybrid nanodielectrics for low-voltage organic electronics

Advanced Functional Materials

Volumn 24, Issue 12, 2014, Pages 1790-1798

  Luzio, Alessandro ^a   Ferre F G ^b   Fonzo, Fabio Di ^a   Caironi, Mario ^a  

^a ISTITUTO ITALIANO DI TECNOLOGIA   (Italy)

^b POLITECNICO DI MILANO   (Italy)

Author keywords

conjugated polymers; dielectrics; hybrid materials; organic electronics; organic field effect transistors; polymeric materials; thin films

Indexed keywords

CAPACITANCE; CONJUGATED POLYMERS; GATE DIELECTRICS; HYBRID MATERIALS; LEAKAGE CURRENTS; LOW POWER ELECTRONICS; NANOTECHNOLOGY; OPTIMIZATION; ORGANIC FIELD EFFECT TRANSISTORS; POLYMERS; PULSED LASER DEPOSITION; THIN FILMS;

FABRICATION PROCESS; NANOSCALE THICKNESS; ORGANIC ELECTRONICS; POLYMER FIELD EFFECT TRANSISTORS; POLYMER SEMICONDUCTORS; POLYMERIC DIELECTRICS; REDUCED POWER CONSUMPTION; SEMICONDUCTOR-DIELECTRIC INTERFACE;

DIELECTRIC MATERIALS;

EID: 84897097520     PISSN: 1616301X     EISSN: 16163028     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/adfm.201302428     Document Type: Article

References (73)

1. P. F. Moonen, I. Yakimets, J. Huskens, Adv. Mater. 2012, 24, 5526.
2. P. Lin, F. Yan, Adv. Mater. 2012, 24, 34.
3. M. Berggren, A. Richter-Dahlfors, Adv. Mater. 2007, 19, 3201.
4. J. Mabeck, G. Malliaras, Anal. Bioanal. Chem. 2006, 384, 343.
5. G. Horowitz, Adv. Mater. 1998, 10, 365.
6. H. N. Tsao, D. Cho, J. W. Andreasen, A. Rouhanipour, D. W. Breiby, W. Pisula, K. Müllen, Adv. Mater. 2009, 21, 209.
7. H. N. Tsao, D. M. Cho, I. Park, M. R. Hansen, A. Mavrinskiy, D. Y. Yoon, R. Graf, W. Pisula, H. W. Spiess, K. Müllen, J. Am. Chem. Soc. 2011, 133, 2605.
8. Y. Li, S. P. Singh, P. Sonar, Adv. Mater. 2010, 22, 4862.
9. Y. Li, P. Sonar, S. P. Singh, W. Zeng, M. S. Soh, J. Mater. Chem. 2011, 21, 10829.
10. H. Bronstein, Z. Chen, R. S. Ashraf, W. Zhang, J. Du, J. R. Durrant, P. Shakya Tuladhar, K. Song, S. E. Watkins, Y. Geerts, M. M. Wienk, R. A. J. Janssen, T. Anthopoulos, H. Sirringhaus, M. Heeney, I. McCulloch, J. Am. Chem. Soc. 2011, 133, 3272.
11. I. Osaka, T. Abe, S. Shinamura, K. Takimiya, J. Am. Chem. Soc. 2011, 133, 6852.
12. J. Mei, D. H. Kim, A. L. Ayzner, M. F. Toney, Z. Bao, J. Am. Chem. Soc. 2011, 133, 20130.
13. H. Yan, Z. Chen, Y. Zheng, C. Newman, J. R. Quinn, F. Dotz, M. Kastler, A. Facchetti, Nature 2009, 457, 679.
14. C.-a. Di, F. Zhang, D. Zhu, Adv. Mater. 2013, 25, 313.
15. H. Klauk, U. Zschieschang, J. Pflaum, M. Halik, Nature 2007, 445, 745.
16. T. Sekitani, U. Zschieschang, H. Klauk, T. Someya, Nat. Mater. 2010, 9, 1015.
17. K.-J. Baeg, M. Caironi, Y.-Y. Noh, Adv. Mater. 2013, 25, 4210.
18. B. N. Pal, B. M. Dhar, K. C. See, H. E. Katz, Nat. Mater. 2009, 8, 898.
19. R. o. P. Ortiz, A. Facchetti, T. J. Marks, Chem. Rev. 2010, 110, 205.
20. M.-G. Kim, M. G. Kanatzidis, A. Facchetti, T. J. Marks, Nat. Mater. 2011, 10, 382.
21. T. Sekitani, T. Yokota, U. Zschieschang, H. Klauk, S. Bauer, K. Takeuchi, M. Takamiya, T. Sakurai, T. Someya, Science 2009, 326, 1516.
22. M. Caironi, C. Newman, J. R. Moore, D. Natali, H. Yan, A. Facchetti, H. Sirringhaus, Appl. Phys. Lett. 2010, 96, 183303.
23. D. Natali, M. Caironi, Adv. Mater. 2012, 24, 1357.
24. A. Luzio, C. Musumeci, C. R. Newman, A. Facchetti, T. J. Marks, B. Pignataro, Chem. Mater. 2011, 23, 1061
25. J. Li, Z. Sun, F. Yan, Adv. Mater. 2012, 24, 88.
26. K.-J. Baeg, D. Khim, S.-W. Jung, M. Kang, I.-K. You, D.-Y. Kim, A. Facchetti, Y.-Y. Noh, Adv. Mater. 2012, 24, 5433.
27. J. Veres, S. D. Ogier, S. W. Leeming, D. C. Cupertino, S. Mohialdin Khaffaf, Adv. Funct. Mater. 2003, 13, 199.
28. I. N. Hulea, S. Fratini, H. Xie, C. L. Mulder, N. N. Iossad, G. Rastelli, S. Ciuchi, A. F. Morpurgo, Nat. Mater. 2006, 5, 982.
29. J. Li, J. Du, J. Xu, H. L. W. Chan, Y. Feng, Appl. Phys. Lett. 2012, 100, 033301.
30. M. Caironi, M. Bird, D. Fazzi, Z. Chen, R. Di Pietro, C. Newman, A. Facchetti, H. Sirringhaus, Adv. Funct. Mater. 2011, 21, 3371.
31. L. Fumagalli, D. Natali, M. Sampietro, E. Peron, F. Perissinotti, G. Tallarida, S. Ferrari, Org. Electron. 2008, 9, 198.
32. N. Zhao, Y. Y. Noh, J. F. Chang, M. Heeney, I. McCulloch, H. Sirringhaus, Adv. Mater. 2009, 21, 3759.
33. H. G. O. Sandberg, T. G. Bäcklund, R. Österbacka, H. Stubb, Adv. Mater. 2004, 16, 1112.
34. J. Liu, L. Herlogsson, A. Sawatdee, P. Favia, M. Sandberg, X. Crispin, I. Engquist, M. Berggren, Appl. Phys. Lett. 2010, 97.
35. L. Herlogsson, X. Crispin, N. D. Robinson, M. Sandberg, O. J. Hagel, G. Gustafsson, M. Berggren, Adv. Mater. 2007, 19, 97.
36. L. Herlogsson, M. Cölle, S. Tierney, X. Crispin, M. Berggren, Adv. Mater. 2010, 22, 72.
37. H. Sinno, S. Fabiano, X. Crispin, M. Berggren, I. Engquist, Appl Phys Lett 2013, 102, 113306.
38. J. H. Cho, J. Lee, Y. He, B. S. Kim, T. P. Lodge, C. D. Frisbie, Adv. Mater. 2008, 20, 686.
39. J. H. Cho, J. Lee, Y. Xia, B. Kim, Y. He, M. J. Renn, T. P. Lodge, C. Daniel Frisbie, Nat. Mater. 2008, 7, 900.
40. M. J. Panzer, C. D. Frisbie, Adv. Mater. 2008, 20, 3177.
41. K. H. Lee, S. Zhang, T. P. Lodge, C. D. Frisbie, J. Phys. Chem. B 2011, 115, 3315.
42. J. Pu, Y. Yomogida, K.-K. Liu, L.-J. Li, Y. Iwasa, T. Takenobu, Nano Lett. 2012, 12, 4013.
43. J. Lee, L. G. Kaake, J. H. Cho, X. Y. Zhu, T. P. Lodge, C. D. Frisbie, J. Phys. Chem. C 2009, 113, 8972.
44. J. D. Yuen, A. S. Dhoot, E. B. Namdas, N. E. Coates, M. Heeney, I. McCulloch, D. Moses, A. J. Heeger, J. Am. Chem. Soc. 2007, 129, 14367.
45. R. C. G. Naber, M. Bird, H. Sirringhaus, Appl. Phys. Lett. 2008, 93.
46. V. K. Sangwan, D. Jariwala, S. A. Filippone, H. J. Karmel, J. E. Johns, J. M. P. Alaboson, T. J. Marks, L. J. Lauhon, M. C. Hersam, Nano Lett. 2013, 13, 1162.
47. W. Xu, S.-W. Rhee, J. Mater. Chem. 2011, 21, 998.
48. P. Cosseddu, S. Lai, M. Barbaro, A. Bonfiglio, Appl. Phys. Lett. 2012, 100, 093305.
49. S. Lai, P. Cosseddu, G. C. Gazzadi, M. Barbaro, A. Bonfiglio, Org. Electron. 2013, 14, 754.
50. S. Lai, M. Demelas, G. Casula, P. Cosseddu, M. Barbaro, A. Bonfiglio, Adv. Mater. 2013, 25, 103.
51. B. H. Lee, K. H. Lee, S. Im, M. M. Sung, Org. Electron. 2008, 9, 1146.
52. D. K. Hwang, C. Fuentes-Hernandez, J. B. Kim, W. J. Potscavage Jr, B. Kippelen, Org. Electron. 2011, 12, 1108.
53. Y. Zhou, C. Fuentes-Hernandez, J. Shim, J. Meyer, A. J. Giordano, H. Li, P. Winget, T. Papadopoulos, H. Cheun, J. Kim, M. Fenoll, A. Dindar, W. Haske, E. Najafabadi, T. M. Khan, H. Sojoudi, S. Barlow, S. Graham, J.-L. Brédas, S. R. Marder, A. Kahn, B. Kippelen, Science 2012, 336, 327.
54. J. Gottmann, E. W. Kreutz, Surf. Coat. Technol. 1999, 116/119, 1189.
55. K. L. Saenger, D. Chrisey, G. Hubler, Pulsed Laser Deposition of Thin Films, Wiley, New York 1994.
56. D. Norton, Pulsed Laser Deposition of Thin Films: Applications-Led Growth of Functional Materials, Wiley, New York 2007.
57. H. M. Christen, G. Eres, J. Phys.: Condens. Matter 2008, 20, 264005.
58. F. García Ferré, E. Bertarelli, A. Chiodoni, D. Carnelli, D. Gastaldi, P. Vena, M. G. Beghi, F. Di Fonzo, Acta Mater. 2013, 61, 2662.
59. B. Díaz, E. Härkönen, J. Światowska, V. Maurice, A. Seyeux, P. Marcus, M. Ritala, Corros. Sci. 2011, 53, 2168.
60. C. C. Wang, L. H. Jimison, L. Goris, I. McCulloch, M. Heeney, A. Ziegler, A. Salleo, Adv. Mater. 2010, 22, 697.
61. I. McCulloch, M. Heeney, C. Bailey, K. Genevicius, I. MacDonald, M. Shkunov, D. Sparrowe, S. Tierney, R. Wagner, W. Zhang, M. L. Chabinyc, R. J. Kline, M. D. McGehee, M. F. Toney, Nat. Mater. 2006, 5, 328.
62. J. Rivnay, R. Noriega, J. E. Northrup, R. J. Kline, M. F. Toney, A. Salleo, Phys. Rev. B 2011, 83.
63. Z. Chen, Y. Zheng, H. Yan, A. Facchetti, J. Am. Chem. Soc. 2009, 131, 8.
64. R. Di Pietro, D. Fazzi, T. B. Kehoe, H. Sirringhaus, J. Am. Chem. Soc. 2012, 134, 14877.
65. M. Ion, C. Berbecaru, S. Iftimie, M. Filipescu, M. Dinescu, S. Antohe, Digest J. Nanomater. Biostruct. 2012, 7, 1609.
66. C. Cibert, H. Hidalgo, C. Champeaux, P. Tristant, C. Tixier, J. Desmaison, A. Catherinot, Thin Solid Films 2008, 516, 1290.
67. J.-F. Chang, M. C. Gwinner, M. Caironi, T. Sakanoue, H. Sirringhaus, Adv. Funct. Mater. 2010, 20, 2825.
68. P. H. Wobkenberg, J. Ball, F. B. Kooistra, J. C. Hummelen, D. M. de Leeuw, D. D. C. Bradley, T. D. Anthopoulos, Appl. Phys. Lett. 2008, 93, 013303.
69. F. Linrun, T. Wei, X. Xiaoli, C. Qingyu, G. Xiaojun, IEEE Electron Device Lett. 2013, 34, 129.
70. A. Rolland, J. Richard, J. P. Kleider, D. Mencaraglia, J. Electrochem. Soc. 1993, 140, 3679.
71. D. Natali, L. Fumagalli, M. Sampietro, J. Appl. Phys. 2007, 101.
72. F. Di Fonzo, D. Tonini, A. Li Bassi, C. S. Casari, M. G. Beghi, C. E. Bottani, D. Gastaldi, P. Vena, R. Contro, Appl. Phys. A 2008, 93, 765.
73. B. de Boer, A. Hadipour, M. M. Mandoc, T. van Woudenbergh, P. W. M. Blom, Adv. Mater. 2005, 17, 621.