Nano-and Microstructuring of Polymers

Handbook of Polymer Reaction Engineering

Volumn , Issue , 2008, Pages 995-1014

  De Witz, Christiane ^a   Sánchez, Carlos ^b   Bastiaansen, Cees ^b   Broer, Dirk J ^a,b,c  

^a PHILIPS RESEARCH LABORATORIES   (Netherlands)

^b EINDHOVEN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY   (Netherlands)

^c DUTCH POLYMER INSTITUTE DPI   (Netherlands)

Author keywords

Irradiating; Lithography; Nanotechnology; Reflection; Semiconductor

Indexed keywords

EID: 84890249209     PISSN: None     EISSN: None     Source Type: Book    
DOI: 10.1002/9783527619870.ch19     Document Type: Chapter

References (35)

1. T. ITO, S. OKAZAKI, Nature, 2000, 406, 1027.
2. Y. XIA, J. A. ROGERS, K. E. PAUL, G. M. WHITESIDES, Chem. Rev., 1999, 99, 1823.
3. P. EHBETS, H. P. HERZIG, P. NUSSBAUM, P. BLATTNER, R. DÄNDLIKER, Appl. Opt., 1995, 34, 2540.
4. D. C. FLANDERS, Appl. Phys. Lett., 1983, 42, 492.
5. X. T. LI, A. NATANSOHN, P. ROCHON, Appl. Phys. Lett., 1999, 74, 3791.
6. Y. B. BOIKO, V. S. SOLOVJEV, S. CALIXTO, D. J. LOUGNOT, Appl. Opt., 1994, 33, 787.
7. S. T. HAN, Y. L. TSAO, R. M. WALSER, M. F. BECKER, Appl. Opt., 1992, 31, 2343.
8. D. SCHERTLER, N. GEORGE, Appl. Opt., 1999, 38, 291.
9. H. J. LEVINSON, Principles of Lithography, SPIE, Washington, 2001.
10. M. CAMPBELL, D. N. SHARP, M. T. HARRISON, R. G. DENNING, A. J. TURBERFIELD, Nature, 2000, 404, 53.
11. A. K. BATES, M. ROTHSCHILD, T. M. BLOOMSTEIN, T. H. FEDYNYSHYN, R. R. KUNZ, V. LIBERMAN, M. SWITKES, IBM J. Res. Dev., 2001, 45, 605.
12. B. H. CUMPSTON, S. P. ANANTHAVEL, S. BARLOW, D. L. DYER, J. E. EHRLICH, L. L. ERSKINE, A. A. HEIKAL, S. M. KUEBLER, I.-Y. SANDY LEE, D. MCCORD-MAUGHON, J. QIN, H. RÖCKEL, M. RUMI, X. L. WU, S. R. MARDER, J. W. PERRY, Nature, 1999, 398, 51.
13. W. H. TEH, U. DURIG, G. SALIS, R. HARBERS, U. DRECHSLER, R. F. MAHRT, C. G. SMITH, H. J. GUNTHERODT, Appl. Phys. Lett., 2004, 84, 4095.
14. M. AKTARY, M. O. JENSEN, K. L. WESTRA, M. J. BRETT, M. R. FREEMAN, J. Vac. Sci. Technol. B, 2003, 21, L5.
15. S. D. BERGER, J. M. GIBSON, R. M. CAMARDA, R. C. FARROW, H. A. HUGGINS, J. S. KRAUS, J. A. LIDDLE, J. Vac. Sci. Technol. B, 1991, 9, 2996.
16. W. HE, D. B. POKER, K. E. GONSALVES, N. BATINA, Microelectron. Eng., 2003, 65, 153.
17. M. HECKELE, W. K. SCHOMBURG, J. Micromech. Microeng., 2004, 14, R1.
18. M. T. GALE, J. Imag. Sci., 1997, 41, 211.
19. D. WOUTERS, U. S. SCHUBERT, Angew. Chem. Int. Ed., 2004, 43, 2480.
20. D. G. GRIER, Nature, 2003, 424, 810.
21. S. H. PARK, D. QIN, Y. XIA, Adv. Mater., 1998, 10, 1028.
22. D. WANG, F. CARUSO, Adv. Mater., 2001, 13, 350.
23. G. WIDAWSKI, M. RAWISO, B. FRANçOIS, Nature, 1994, 369, 387.
24. B. MICHEL, A. BERNARD, A. BIETSCH, E. DELAMARCHE, M. GEISSLER, D. JUNCKER, H. KIND, J. P. RENAULT, H. ROTHUIZEN, H. SCHMID, P. SCHMIDT-WINKEL, R. STUTZ, H. WOLF, IBM J. Res. Dev., 2001, 45, 697.
25. Y. XIA, G. M. WHITESIDES, Angew. Chem. Int. Ed., 1998, 37, 550.
26. T. KRATZMÜLLER, D. APPELHANS, H.-G. BRAUN, Adv. Mater., 1999, 11, 555.
27. C. CROUTXÉ-BARGHORN, D. J. LOUGNOT, Pure Appl. Opt., 1996, 5, 811.
28. O. SAKHNO, T. SMIRNOVA, Optik, 2002, 113, 130.
29. T. J. BUNNING, L. V. NATARAJAN, V. TONDIGLIA, R. L. SUTHERLAND, D. L. VEZIE, W. W. ADAMS, Polymer, 1995, 36, 2699.
30. C. F. VAN NOSTRUM, R. J. M. NOLTE, D. J. BROER, T. FUHRMAN, J. H. WENDORFF, Chem. Mater., 1998, 10, 135.
31. D. J. BROER, J. LUB, C. F. VAN NOSTRUM, M. M. WIENK, Recent Res. Dev. Polym. Sci., 1998, 2, 313.
32. C. M. LEEWIS, D. P. L. SIMONS, A. M. DE JONG, D. J. BROER, M. J. A. DE VOIGT, Nucl. Instr. Meth. B, 2000, 651, 161.
33. R. T. INGWALL, D. WALDMAN, Holographic Data Storage, Springer, New York, 2000.
34. B. M. MONROE, W. K. SMOTHERS, D. E. KEYS, R. R. KREBS, D. J. MICKISH, A. F. HARRINGTON, S. R. SCHICKER, M. K. ARMSTRONG, D. M. T. CHAN, C. WEATHERS, J. Imag. Sci. Technol., 1991, 35, 19.
35. C. M. LEEWIS, PhD thesis, Eindhoven University of Technology, Eindhoven, 2003.