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Volumn 1, Issue 39, 2013, Pages 6188-6190

Atmospheric pressure chemical vapor deposition of high silica SiO 2-TiO2 antireflective thin films for glass based solar panels

(5) Klobukowski, Erik R a Tenhaeff, Wyatt E a McCamy, James W b Harris, Caroline S b Narula, Chaitanya K a

a OAK RIDGE NATIONAL LABORATORY (United States)

b PPG Industries (United States)

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Indexed keywords

ANTI-REFLECTIVE; ATMOSPHERIC PRESSURE CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; FLOAT GLASS; HIGH SILICAS; MANUFACTURING CONDITIONS; SINGLE-SOURCE PRECURSOR; SOLAR PANELS; TIO;

ATMOSPHERIC PRESSURE; CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; GLASS; SILICA; THIN FILMS; VAPORS;

TITANIUM DIOXIDE;

EID: 84884520113 PISSN: 20507534 EISSN: 20507526 Source Type: Journal
DOI: 10.1039/c3tc31465k Document Type: Article

Times cited : (24)

References (25)

1
- 78449295517
- S. E. Habas H. A. S. Platt M. F. A. M. van Hest D. S. Ginley Chem. Rev. 2010 110 6571 6594
- (2010) Chem. Rev. , vol.110 , pp. 6571-6594
- Habas, S.E.¹ Platt, H.A.S.² Van Hest, M.F.A.M.³ Ginley, D.S.⁴

2
- 77956611648
- L. Liljeholm T. Nyberg T. Kubart A. Roos S. Berg Vacuum 2010 85 317 321
- (2010) Vacuum , vol.85 , pp. 317-321
- Liljeholm, L.¹ Nyberg, T.² Kubart, T.³ Roos, A.⁴ Berg, S.⁵

3
- 75749158588
- Y. M. Song J. S. Yu Y. T. Lee Opt. Lett. 2010 35 276 278
- (2010) Opt. Lett. , vol.35 , pp. 276-278
- Song, Y.M.¹ Yu, J.S.² Lee, Y.T.³

4
- 42149133658
- M. F. Schubert F. W. Mont S. Chhajed D. J. Paxson J. K. Kim E. F. Schubert Opt. Express 2008 16 5290 5298
- (2008) Opt. Express , vol.16 , pp. 5290-5298
- Schubert, M.F.¹ Mont, F.W.² Chhajed, S.³ Paxson, D.J.⁴ Kim, J.K.⁵ Schubert, E.F.⁶

5
- 84975606816
- C. Heine R. H. Morf Appl. Opt. 1995 34 2476 2482
- (1995) Appl. Opt. , vol.34 , pp. 2476-2482
- Heine, C.¹ Morf, R.H.²

6
- 0345767463
- M. A. Green Sol. Energy 2004 76 3 8
- (2004) Sol. Energy , vol.76 , pp. 3-8
- Green, M.A.¹

7
- 3142599639
- D. Brassard D. K. Sarker M. A. El Khakani L. Ouelett J. Vac. Sci. Technol., A 2004 22 851 855
- (2004) J. Vac. Sci. Technol., A , vol.22 , pp. 851-855
- Brassard, D.¹ Sarker, D.K.² El Khakani, M.A.³ Ouelett, L.⁴

8
- 79951903629
- B. Louis N. Krins M. Faustini D. Grosso J. Phys. Chem. C 2011 115 3115 3122
- (2011) J. Phys. Chem. C , vol.115 , pp. 3115-3122
- Louis, B.¹ Krins, N.² Faustini, M.³ Grosso, D.⁴

9
- 34447297855
- R. F. S. Lenza W. L. Vasconcelos Mater. Res. 2002 5 497 502
- (2002) Mater. Res. , vol.5 , pp. 497-502
- Lenza, R.F.S.¹ Vasconcelos, W.L.²

10
- 0012031619
- Z. Jiwiei Y. Xi Z. Liangying J. Phys. D: Appl. Phys. 2000 33 3013 3017
- (2000) J. Phys. D: Appl. Phys. , vol.33 , pp. 3013-3017
- Jiwiei, Z.¹ Xi, Y.² Liangying, Z.³

11
- 84867825022
- H.-S. Chen S.-H. Huang T.-S. Perng ACS Appl. Mater. Interfaces 2012 4 5188 5195
- (2012) ACS Appl. Mater. Interfaces , vol.4 , pp. 5188-5195
- Chen, H.-S.¹ Huang, S.-H.² Perng, T.-S.³

12
- 0000596997
- R.-Y. Tsai F.-C. Ho M.-Y. Hua Opt. Eng. 1997 8 2335 2340
- (1997) Opt. Eng. , vol.8 , pp. 2335-2340
- Tsai, R.-Y.¹ Ho, F.-C.² Hua, M.-Y.³

13
- 37549068122
- A. Hodroj J.-L. Deschanvres U. Gottlib J. Electrochem. Soc. 2008 155 110 114
- (2008) J. Electrochem. Soc. , vol.155 , pp. 110-114
- Hodroj, A.¹ Deschanvres, J.-L.² Gottlib, U.³

14
- 41449089484
- A. Hodroj O. Chaix-Pluchery M. Audier U. Gottlieb J.-L. Deschanvres J. Mater. Res. 2008 23 755 759
- (2008) J. Mater. Res. , vol.23 , pp. 755-759
- Hodroj, A.¹ Chaix-Pluchery, O.² Audier, M.³ Gottlieb, U.⁴ Deschanvres, J.-L.⁵

15
- 84966667864
- Y. Masuda Y. Jinbo K. Koumoto Sci. Adv. Mater. 2009 1 138 143
- (2009) Sci. Adv. Mater. , vol.1 , pp. 138-143
- Masuda, Y.¹ Jinbo, Y.² Koumoto, K.³

16
- 33644521771
- T. Busani R. A. B. Devine X. Yu H.-W. Seo J. Vac. Sci. Technol., A 2006 24 369 374
- (2006) J. Vac. Sci. Technol., A , vol.24 , pp. 369-374
- Busani, T.¹ Devine, R.A.B.² Yu, X.³ Seo, H.-W.⁴

17
- 4344702212
- S. Larouche H. Szymanowski J. E. Klemberg-Spieha L. Martinu J. Vac. Sci. Technol., A 2004 22 1200 1207
- (2004) J. Vac. Sci. Technol., A , vol.22 , pp. 1200-1207
- Larouche, S.¹ Szymanowski, H.² Klemberg-Spieha, J.E.³ Martinu, L.⁴

18
- 2142753324
- R. C. Smith N. Hoilien C. Dykstra S. A. Campbell J. T. Roberts W. L. Gladfelter Chem. Vap. Deposition 2003 9 79 86
- (2003) Chem. Vap. Deposition , vol.9 , pp. 79-86
- Smith, R.C.¹ Hoilien, N.² Dykstra, C.³ Campbell, S.A.⁴ Roberts, J.T.⁵ Gladfelter, W.L.⁶

19
- 0033791444
- R. C. Smith C. J. Taylor J. Roberts S. A. Campbell M. Tiner R. Hedge C. Hobbs W. L. Gladfelter Chem. Mater. 2000 12 2822 2824
- (2000) Chem. Mater. , vol.12 , pp. 2822-2824
- Smith, R.C.¹ Taylor, C.J.² Roberts, J.³ Campbell, S.A.⁴ Tiner, M.⁵ Hedge, R.⁶ Hobbs, C.⁷ Gladfelter, W.L.⁸

20
- 0034272641
- S.-M. Lee J.-H. Park K.-S. Hong J. Vac. Sci. Technol., A 2000 18 2384 2388
- (2000) J. Vac. Sci. Technol., A , vol.18 , pp. 2384-2388
- Lee, S.-M.¹ Park, J.-H.² Hong, K.-S.³

21
- 0029752913
- C. K. Narula A. Varshney U. Riaz Chem. Vap. Deposition 1996 2 13 14
- (1996) Chem. Vap. Deposition , vol.2 , pp. 13-14
- Narula, C.K.¹ Varshney, A.² Riaz, U.³

22
- 0000728972
- Y. Abe I. Kijima Bull. Chem. Soc. Jpn. 1970 43 466 469
- (1970) Bull. Chem. Soc. Jpn. , vol.43 , pp. 466-469
- Abe, Y.¹ Kijima, I.²

23
- 0032315590
- T. Gunji T. Kashara Y. Abe J. Sol-Gel Sci. Technol. 1998 13 975 979
- (1998) J. Sol-Gel Sci. Technol. , vol.13 , pp. 975-979
- Gunji, T.¹ Kashara, T.² Abe, Y.³

24
- 68949215035
- V. Dhayal M. K. Atal B. L. Choudhary M. Nagar R. J. Bohra J. Sol-Gel Sci. Technol. 2009 52 97 108
- (2009) J. Sol-Gel Sci. Technol. , vol.52 , pp. 97-108
- Dhayal, V.¹ Atal, M.K.² Choudhary, B.L.³ Nagar, M.⁴ Bohra, R.J.⁵

25
- 0024735796
- D. C. Bradley Chem. Rev. 1989 89 1317 1322
- (1989) Chem. Rev. , vol.89 , pp. 1317-1322
- Bradley, D.C.¹

* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.