Enhanced electrical properties of thin-film transistor with self-passivated multistacked active layers

ACS Applied Materials and Interfaces

Volumn 5, Issue 10, 2013, Pages 4190-4194

  Kim, Deuk Jong ^a   Rim, You Seung ^a   Kim, Hyun Jae ^a  

^a Yonsei University   (South Korea)

Author keywords

metal oxide semiconductor; multilayer; self passivation layer; Solution process; time stability

Indexed keywords

C. THIN FILM TRANSISTOR (TFT); FIELD-EFFECT MOBILITIES; METAL OXIDE SEMICONDUCTOR; SELF-PASSIVATION; SOLUTION PROCESS; SOLUTION-PROCESSED; THRESHOLD VOLTAGE SHIFTS; TIME STABILITY;

MOS DEVICES; MULTILAYERS; PASSIVATION; THIN FILM TRANSISTORS;

ELECTRIC PROPERTIES;

EID: 84878286539     PISSN: 19448244     EISSN: 19448252     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/am4002259     Document Type: Article

References (22)

1. Rim, Y. S.; Jeong, W. H.; Kim, D. L.; Lim, H. S.; Kim, K. M.; Kim, H. J. J. Mater. Chem. 2012, 22, 12491
2. Kim, Y.-H.; Heo, J.-S.; Kim, T.-H.; Park, S.; Yoon, M.-H.; Kim, J.; Oh, M. S.; Yi, G.-R.; Noh, Y.-Y.; Park, S. K. Nature 2012, 489, 128
3. Kim, M.-G.; Kanatzidis, M. G.; Facchetti, A.; Marks, T. J. Nat. Mater. 2011, 17, 382
4. Banger, K. K.; Yamashita, Y.; Mori, K.; Peterson, R. L.; Leedham, T.; Rickard, J.; Sirringhaus, H. Nat. Mater. 2010, 10, 45
5. Fortunato, E.; Barquinha, P.; Martins, R. Adv. Mater. 2012, 24, 2945
6. Mitzi, D. B. Chem. Mater. 2001, 13, 3283
7. Arai, T.; Morosawa, N.; Tokunaga, K.; Terai, Y.; Fukumoto, E.; Fujimori, T.; Nakayama, T.; Yamaguchi, T.; Sasaoka, T. Dig. SID 2010, 41, 1033
8. Li, C.-S.; Li, Y.-J.; Wu, Y.; Ong, B.-S.; Loutfy, R.-O. J. Mater. Chem. 2009, 19, 1626-1634
9. Kim, D. J.; Kim, D. L.; Rim, Y. S.; Kim, C. H.; Jeong, W. H.; Lim, H. S.; Kim, H. J. ACS Appl. Mater. Interfaces 2012, 4, 4001
10. Kang, D.; Lim, H.; Kim, C.; Song, I.; Park, J.; Chung, J.; Park, Y. Appl. Phys. Lett. 2007, 90, 192101
11. Nomura, K.; Ohta, H.; Takagi, A.; Kamiya, T.; Hirano, M.; Hosono, H. Nature 2004, 432, 488
12. Rim, Y. S.; Jeong, W.; Ahn, B. D.; Kim, H. J. Appl. Phys. Lett. 2013, 102, 143503
13. Nomura, K.; Ohta, H.; Ueda, K.; Kamiya, T.; Hirano, M.; Hosono, H. Science 2003, 300, 1269
14. Park, J.-S.; Kim, K.; Park, Y.-G.; Mo, Y.-G.; Kim, H. D.; Jeong, J. K. Adv. Mater. 2009, 21, 329
15. Kim, G. H.; Jeong, W. H.; Ahn, B. D.; Shin, H. S.; Kim, H. J.; Ryu, M.-K.; Park, K.-B.; Seon, J.-B.; Lee, S.-Y. Appl. Phys. Lett. 2010, 96, 163506
16. Jeong, Y.; Song, K.; Jun, T.; Jeong, S.; Moon, J. Thin Solid Films 2011, 519, 6164
17. Jeong, J. K.; Yang, H. W.; Jeong, J. H.; Mo, Y.-G.; Kim, H. D. Appl. Phys. Lett. 2008, 93, 123508
18. Lee, K.-H.; Jung, J. S.; Son, K. S.; Park, J. S.; Kim, T. S.; Choi, R.; Jeong, J. K.; Kwon, J.-Y.; Koo, B.; Lee, S. Appl. Phys. Lett. 2009, 95, 232106
19. Son, K.-S.; Kim, T.-S.; Jung, J.-S.; Ryu, M.-K.; Park, K.-B.; Yoo, B.-W.; Park, K.; Kwon, J.-Y.; Lee, S.-Y.; Kim, J.-M. Electrochem. Solid State Lett. 2009, 12, H26-H28
20. Tsai, C.-T.; Chang, T.-C.; Chen, S.-C.; Lo, L.; Tsao, S.-W.; Hung, M.-C.; Chang, J.-J.; Wu, C.-Y.; Huang, C.-Y. Appl. Phys. Lett. 2010, 96, 242105
21. Liu, P.-T.; Chou, Y.-T.; Teng, L.-F.; Li, F.-H.; Shieh, H.-P. Appl. Phys. Lett. 2011, 98, 052102
22. Park, J. S.; Kim, T. S.; Son, K. S.; Lee, K.-H.; Maeng, W.-J.; Kim, H.-S.; Kim, E. S.; Park, K.-B.; Seon, J.-B.; Choi, W.; Ryu, M. K.; Lee, S. Y. Appl. Phys. Lett. 2010, 96, 262109