High-quality epitaxy of ruthenium dioxide, RuO2, on rutile titanium dioxide, TiO2, by pulsed chemical vapor deposition

Crystal Growth and Design

Volumn 13, Issue 3, 2013, Pages 1316-1321

  Wang, Xinwei ^a,b   Gordon, Roy G ^a  

^a HARVARD UNIVERSITY   (United States)

^b PEKING UNIVERSITY   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

HIGH QUALITY; HIGH RESOLUTION X RAY DIFFRACTION; LATERAL DIRECTIONS; LOW TEMPERATURES; MONOCLINIC STRUCTURES; RECIPROCAL SPACE MAPPING; RUTHENIUM DIOXIDE; RUTILE TIO;

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; EPITAXIAL GROWTH; OXIDE MINERALS; TITANIUM DIOXIDE; VAPORS; X RAY DIFFRACTION;

RUTHENIUM ALLOYS;

EID: 84876944718     PISSN: 15287483     EISSN: 15287505     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/cg301801h     Document Type: Article

References (32)

1. Hsieh, C. S.; Wang, G.; Tsai, D. S.; Chen, R. S.; Huang, Y. S. Nanotechnology 2005, 16, 1885.
2. Park, S. E.; Kim, H. M.; Kim, K. B.; Min, S. H. J. Electrochem. Soc. 2000, 147, 203.
3. Frohlich, K.; Tapajna, M.; Rosova, A.; Dobrocka, E.; Husekova, K.; Aarik, J.; Aidla, A. Electrochem. Solid-State Lett. 2008, 11, G19.
4. Zhang, J. T.; Ma, J. Z.; Zhang, L. L.; Guo, P. Z.; Jiang, J. W.; Zhao, X. S. J. Phys. Chem. C 2010, 114, 13608.
5. Hu, C. C.; Chang, K. H.; Lin, M. C.; Wu, Y. T. Nano Lett. 2006, 6, 2690.
6. Zheng, J. P.; Cygan, P. J.; Jow, T. R. J. Electrochem. Soc. 1995, 142, 2699.
7. Sahul, R.; Tasovski, V.; Sudarshan, T. S. Sens. Actuators, A 2006, 125, 358.
8. Watanabe, M.; Morishita, M.; Ootuka, Y. Cryogenics 2001, 41, 143.
9. Over, H.; Kim, Y. D.; Seitsonen, A. P.; Wendt, S.; Lundgren, E.; Schmid, M.; Varga, P.; Morgante, A.; Ertl, G. Science 2000, 287, 1474.
10. Knapp, M.; Seitsonen, A. P.; Kim, Y. D.; Over, H. J. Phys. Chem. B 2004, 108, 14392.
11. Wang, H. Y.; Schneider, W. F. Phys. Chem. Chem. Phys. 2010, 12, 6367.
12. Crihan, D.; Knapp, M.; Zweidingey, S.; Lundgren, E.; Weststrate, C. J.; Andersen, J. N.; Seitsonen, A. P.; Over, H. Angew. Chem., Int. Ed. 2008, 47, 2131.
13. Hansen, H. A.; Man, I. C.; Studt, F.; Abild-Pedersen, F.; Bligaard, T.; Rossmeisl, J. Phys. Chem. Chem. Phys. 2010, 12, 283.
14. Ryan, J. V.; Berry, A. D.; Anderson, M. L.; Long, J. W.; Stroud, R. M.; Cepak, V. M.; Browning, V. M.; Rolison, D. R.; Merzbacher, C. I. Nature 2000, 406, 169.
15. Petrykin, V.; Macounova, K.; Shlyakhtin, O. A.; Krtil, P. Angew. Chem., Int. Ed. 2010, 49, 4813.
16. Trasatti, S. Electrochim. Acta 2000, 45, 2377.
17. Iwanaga, K.; Seki, K.; Hibi, T.; Issoh, K.; Suzuta, T.; Nakada, M.; Mori, Y.; Abe, T. Sumitomo Kagaku (Osaka, Jpn.2004, I, 1.
18. Seitsonen, A. P.; Over, H. J. Phys. Chem. C 2010, 114, 22624.
19. Hevia, M. A. G.; Amrute, A. P.; Schmidt, T.; Perez-Ramirez, J. J. Catal. 2010, 276, 141.
20. Rizzi, G. A.; Magrin, A.; Granozzi, G. Phys. Chem. Chem. Phys. 1999, 1, 709.
21. Kim, Y. J.; Gao, Y.; Chambers, S. A. Appl. Surf. Sci. 1997, 120, 250.
22. Kubo, T.; Orita, H.; Nozoye, H. J. Am. Chem. Soc. 2007, 129, 10474.
23. Chambers, S. A. Adv. Mater. 2010, 22, 219.
24. Gordon, R. J. Non-Cryst. Solids 1997, 218, 81.
25. Liang, H.; Gordon, R. G. J. Mater. Sci. 2007, 42, 6388.
26. Heo, J.; Hock, A. S.; Gordon, R. G. Chem. Mater. 2010, 22, 4964.
27. Gordon, R. G.; Proscia, J.; Ellis, F. B., Jr.; Delahoy, A. E. Sol. Energy Mater. 1989, 18, 263.
28. Watson, I. M. Chem. Vap. Deposition 1997, 3, 9.
29. Frohlich, K.; Husekova, K.; Machajdik, D.; Hooker, J. C.; Perez, N.; Fanciulli, M.; Ferrari, S.; Wiemer, C.; Dimoulas, A.; Vellianitis, G.; Roozeboom, F. Mater. Sci. Eng., B 2004, 109, 117.
30. Li, H.; Farmer, D. B.; Gordon, R. G.; Lin, Y.; Vlassak, J. J. Electrochem. Soc. 2007, 154, D642.
31. Li, H.; Aaltonen, T.; Li, Z.; Lim, B. S.; Gordon, R. G. Open Inorg. Chem. J. 2008, 2, 11.
32. Wang, H.; Gordon, R. G.; Alvis, R.; Ulfig, R. M. Chem. Vap. Deposition 2009, 15, 312.