Rapid micro-scale patterning of alkanethiolate self-assembled monolayers on au surface by atmospheric micro-plasma stamp

Plasma Processes and Polymers

Volumn 10, Issue 4, 2013, Pages 345-352

  Weng, Chih Chiang ^a   Hsueh, Jen Chih ^a   Liao, Jiunn Der ^a   Chen, Chia Hao ^b   Yoshimura, Masahiro ^a  

^a NATIONAL CHENG KUNG UNIVERSITY   (Taiwan)

^b NATIONAL SYNCHROTRON RADIATION RESEARCH CENTER   (Taiwan)

Author keywords

dielectric barrier discharges (DBD); micro plasma stamp; micropatterning; pattern transferring; self assembled monolayers

Indexed keywords

DIELECTRIC BARRIER; DIELECTRIC BARRIER DISCHARGES; DISTORTION RATES; ETCHING SOLUTIONS; LATERAL DIFFUSION; MICRO PATTERNING; MICRO-PLASMAS; PATTERN TRANSFERRING;

DIELECTRIC DEVICES; ETCHING; PLASMA APPLICATIONS; SELF ASSEMBLED MONOLAYERS;

PLASMAS;

EID: 84875987815     PISSN: 16128850     EISSN: 16128869     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/ppap.201200151     Document Type: Article

References (31)

1. M. Kind, C. Wöll, Prog. Surf. Sci. 2009, 84, 230.
2. R. K. Smith, P. A. Lewis, P. S. Weiss, Prog. Surf. Sci. 2004, 75, 1.
3. H. Sugimura, T. Hanji, O. Takai, T. Masuda, H. Misawa, Electrochim. Acta 2001, 47, 103.
4. M. Zharnikov, J. Electron. Spectrosc. Relat. Phenom. 2010, 178, 380.
5. A. Ulman, Chem. Rev. 1996, 96, 1533.
6. P. M. Mendes, J. A. Preece, Curr. Opin. Colloid Interface Sci. 2004, 9, 236.
7. R. Klauser, C. H. Chen, M. L. Huang, S. C. Wang, T. J. Chuang, M. Zharnikov, J. Electron. Spectrosc. Relat. Phenom. 2005, 144, 393.
8. N. J. Brewer, R. E. Rawsterne, S. Kothari, G. J. Leggett, J. Am. Chem. Soc. 2001, 123, 4089.
9. M. Zharnikov, M. Grunze, J. Vac. Sci. Technol. B 2002, 20, 1793.
10. C. C. Weng, J. D. Liao, Y. T. Wu, M. C. Wang, R. Klauser, M. Grunze, M. Zharnikov, Langmuir 2004, 20, 10093.
11. C. C. Weng, J. D. Liao, Y. T. Wu, M. C. Wang, R. Klauser, M. Zharnikov, J. Phys. Chem. B 2006, 110, 12523.
12. S. Lee, J. Kim, W. S. Shin, H.-J. Lee, S. Koo, H. Lee, Mater. Sci. Eng. C 2004, 24, 3.
13. T. Chen, R. Jordan, S. Zauscher, Polymer 2011, 52, 2461.
14. J. L. Wilbur, A. Kumar, H. A. Biebuyck, E. Kim, G. M. Whitesides, Nanotechnology 1996, 7, 452.
15. Y. T. Wu, J. D. Liao, C. C. Weng, C. H. Chen, M. C. Wang, M. Zharnikov, J. Vac. Sci. Technol. B 2007, 25, 1729.
16. M. H. Lin, C. F. Chen, H. W. Shiu, C. H. Chen, S. Gwo, J. Am. Chem. Soc. 2009, 131, 10984.
17. M. C. Wang, J. D. Liao, C. C. Weng, R. Klauser, A. Shaporenko, M. Grunze, M. Zharnikov, Langmuir 2003, 19, 9774.
18. C. C. Weng, J. D. Liao, Y. T. Wu, S. C. Tsai, C. H. Chen, M. Zharnikov, J. Vac. Sci. Technol. B 2009, 27, 1949.
19. N. Lucas, R. Franke, A. Hinze, C.-P. Klages, R. Frank, S. Buettgenbach, Plasma Process. Polym. 2009, 6, S370.
20. R. Foest, M. Schmidt, K. Becker, Int. J. Mass Spectrom. 2006, 248, 87.
21. K. H. Becker, K. H. Schoenbach, J. G. Eden, J. Phys. D: Appl. Phys. 2006, 39, R55.
22. M. Thomas, J. Borris, A. Dohse, M. Eichler, A. Hinze, K. Lachmann, K. Nagel, C.-P. Klages, Plasma Process. Polym. 2012, 9, 1086.
23. E. J. Szili, S. A. Al-Bataineh, P. Ruschitzka, G. Desmet, C. Priest, H. J. Griesser, N. H. Voelcker, F. J. Harding, D. A. Steele, R. D. Short, RSC Adv. 2012, 2, 12007.
24. K. Heister, M. Zharnikov, M. Grunze, L. S. O. Johansson, A. Ulman, Langmuir 2000, 17, 8.
25. T. Laiho, J. A. Leiro, M. H. Heinonen, S. S. Mattila, J. Lukkari, J. Electron. Spectrosc. Relat. Phenom. 2005, 142, 105.
26. F. Schreiber, Prog. Surf. Sci. 2000, 65, 151.
27. A. G. Bittermann, S. Jacobi, L. F. Chi, H. Fuchs, R. Reichelt, Langmuir 2001, 17, 1872.
28. N. Saito, Y. Wu, K. Hayashi, H. Sugimura, O. Takai, J. Phys. Chem. B 2003, 107, 664.
29. G. P. Lopez, H. A. Biebuyck, G. M. Whitesides, Langmuir 1993, 9, 1513.
30. Y. T. Wu, J. D. Liao, C. C. Weng, Y. T. Hesieh, C. H. Chen, M. C. Wang, M. Zharnikov, J. Phys. Chem. B 2009, 113, 4543.
31. B. M. Lamb, S. Park, M. N. Yousaf, Langmuir 2010, 26, 12817.