Structural and blue emission properties of Al-doped ZnO nanorod array thin films grown by hydrothermal method

Electronic Materials Letters

Volumn 8, Issue 4, 2012, Pages 445-450

  Kim, Soaram ^a   Kim, Min Su ^a   Nam, Giwoong ^a   Leem, Jae Young ^a  

^a Inje University   (South Korea)

Author keywords

Al doped; hydrothermal; photoluminescence; transmittance; zinc oxide

Indexed keywords

ABSORPTION EDGES; AL-CONCENTRATION; AL-DOPED; AL-DOPED ZNO; AL-DOPING; BLUE EMISSION; BLUE SHIFT; DEEP LEVEL EMISSION; HEXAGONAL SHAPES; HYDROTHERMAL; HYDROTHERMAL METHODS; INTENSITY RATIO; NANOROD ARRAYS; NEAR BAND EDGE EMISSIONS; PL SPECTRA; QUARTZ SUBSTRATE; SEED LAYER; SEM IMAGE; TRANSMITTANCE; TRANSMITTANCE SPECTRA; VISIBLE REGION; ZNO; ZNO NANOROD ARRAYS;

ALUMINUM; PHOTOLUMINESCENCE; QUARTZ; SCANNING ELECTRON MICROSCOPY; SOL-GEL PROCESS; THIN FILMS; ULTRAVIOLET VISIBLE SPECTROSCOPY; X RAY DIFFRACTION; ZINC OXIDE;

NANORODS;

EID: 84865825435     PISSN: 17388090     EISSN: 20936788     Source Type: Journal    
DOI: 10.1007/s13391-012-2071-5     Document Type: Article

References (46)

1. H. Guo, J. Zhou, and Z. Lin, Electrochem. Commun. 10, 146 (2008).
2. S. P. Chang, R. W. Chuang, S. J. Chang, Y. Z. Chiou, and C. Y. Lu, Thin Solid Films517, 5054 (2009).
3. M. Willander, O. Nur, Q. X. Zhao, L. L. Yang, M. Lorenz, B. Q. Cao, J. Z. Pérez, C. Czekalla, G. Zimmermann, M. Grundmann, A. Bakin, A. Behrends, M. A. Suleiman, A. E. Shaer, A. C. Mofor, B. Postels, A. Waag, N. Boukos, A. Trvalos, H. S. Kwack, J. Guinard, and D. L. S. Dang, Nonotechnology20, 332001 (2009).
4. Y. F. Chen, D. M. Bagnall, H. Koh, K. Park, K. Hiraga, Z. Zhu, and T. Yao, J. Appl. Phys. 84, 3912 (1998).
5. Z. Zhang, S. J. Wang, T. Yu, and T. Wu, J. Phys. Chem. C111, 17500 (2007).
6. G. J. Lee, H. J. Nam, C. K. Hwangbo, H. Lim, H. Cheong, H. S. Kim, C. S. Yoon, S. Y. Min, S. H. Han, and Y. P. Lee, Jpn. J. Appl. Phys. 49, 105001 (2010).
7. X. D. Bai, P. X. Gao, Z. L. Wang, and E. G. Wang, Appl. Phys. Lett. 82, 4806 (2003).
8. Y. J. Xing, Z. H. Xi, Z. Q. Xue, X. D. Zhang, J. H. Song, R. M. Wang, J. Xu, Y. Song, S. L. Zhang, and D. P. Yu, Appl. Phys. Lett. 83, 1689 (2003).
9. W. I. Park, G. C. Yi, M. Kim, and S. J. Pennycook, Adv. Mater. 14, 1841 (2002).
10. M. S. Kim, K. G. Yim, D. Y. Lee, J. S. Kim, J. S. Kim, and J.-Y. Leem, J. Korean Phys. Soc. 58, 821 (2011).
11. G. Nam, S. Kim, M. S. Kim, K. G. Yim, D. Y. Kim, S.-O. Kim, and J.-Y. Leem, J. Korea Phys. Soc. 59, 129 (2011).
12. X. Ma and Z. Wang, Microelectron. Eng. 88, 3168 (2011).
13. G. R. Li, D. L. Qu, W. X. Zhao, and Y. X. Tong, Electrochem. Commun. 9, 1661 (2007).
14. S. Y. Li, P. Lin, C. Y. Lee, T. Y. Tseng, and C. J. Huang, J. Phys. D: Appl. Phys. 37, 2274 (2004).
15. C. Xu, M. Kim, J. Chun, and D. Kim, Appl. Phys. Lett. 86, 133107 (2005).
16. M-J. Lee, T.-I. Lee, J. Lim, J. Bang, W. Lee, T. Lee, and J.-M. Myoung, Electron. Mater. Lett. 5, 127 (2009).
17. S. Y. Bae, C. W. Na, J. H. Kang, and J. Park, J. Phys. Chem. B109, 2526 (2005).
18. S. Ilican, Y. Caglar, M. Caglar, and F. Yakuphanoglu, Physica E35, 131 (2006).
19. C. Xu, J. Chun, D. E. Kim, J.-J. Kim, B. Chon, and T. Joo, Appl. Phys. Lett. 90, 083113 (2007).
20. C.-H. Hsu and D.-H. Chen, Nanotechnology21, 285603 (2010).
21. S. Yun, J. Lee, J. Chung, and S. Lim, J. Phys. Chem. Solids71, 1724 (2010).
22. H. P. He, H. P. Tang, Z. Z. Ye, L. P. Zhu, B. H. Zhao, L. Wang, and X. H. Li, Appl. Phys. Lett. 90, 023104 (2007).
23. S. K. Lim, S. H. Hwang, and S. Kim, Cryst. Res. Technol. 45, 771 (2010).
24. J. J. Ding, S. Y. Ma, H. X. Chen, X. F. Shi, T. T. Zhou, and L. M. Mao, Physica B404, 2439 (2009).
25. O. Bamiduro, H. Mustafa, R. Mundle, R. B. Konda, and A. K. Pradhan, Appl. Phys. Lett. 90, 252108 (2007).
26. K.-Y. Wu, C.-C. Wang, and D.-H. Chen, Nanotechnology18, 305604 (2007).
27. R.-C. Wang, C.-P. Liu, J.-L. Huang, and S.-J. Chen, Appl. Phys. Lett. 88, 023111 (2006).
28. D. Y. Kim, S.-O. Kim, M. S. Kim, K. G. Yim, S. Kim, G. Nam, D.-Y. Lee, and J.-Y. Leem, J. Korean Phys. Soc. 60, 94 (2012).
29. H. Y. Xu, H. Wang, Y. C. Zhang, W. L. He, M. K. Zhu, B. Wang, and H. Yan, Ceram. Int. 30, 93 (2004).
30. J. Zhang, L. Sun, J. Yin, H. Su, C. Liao, and C. Yan, Chem. Mater. 14, 4172 (2002).
31. C.-C. Ting, C.-H. Li, C.-Y. Kuo, C.-C. Hsu, H.-C. Wang, and M.-H. Yang, Thin Solid Films518, 4156 (2010).
32. Q. Li, V. Kumar, Y. Li, H. Zhang, T. Marks, and R. H. Chang, Chem. Mater. 17, 1001 (2005).
33. L. Vayssieres, K. Keis, S.-E. Lindquist, and A. Hagfeldt, J. Phys. Chem. B105, 3350 (2001).
34. B. Gupta, A. Jain, and R. M. Mehra, J. Mater. Sci. Technol. 26, 223 (2010).
35. S. Fujihara, A. Suzuki, and T. Kimura, J. Appl. Phys. 94, 2411 (2003).
36. M. Alhamed and W. Abdullah, J. Electron Devices. 7, 246 (2010).
37. L. P. Peng, L. Fang, X. F. Yang, H. B. Ruan, Y. J. Li, Q. L. Huang, and C. Y. Kong, Physica E41, 1819 (2009).
38. J.-W. Jeon, M. Kim, L.-W. Jang, J. L. Hoffman, N. S. Kim, and I.-H. Lee, Electron. Mater. Lett. 8, 27 (2012).
39. M. S. Kim, K. G. Yim, S. Kim, G. Nam, D.-Y. Lee, J. S. Kim, J. S. Kim, and J.-Y. Leem, J. Korean Phys. Soc. 59, 2354 (2011).
40. X. L. Wu, G. G. Siu, C. L. Fu, and H. C. Ong, Appl. Phys. Lett. 78, 2285 (2001).
41. K. Vanheusden, W. L. Warren, C. H. Seager, D. R. Tallant, J. A. Voigt, and B. E. Gnade, J. Appl. Phys. 79, 7983 (1996).
42. Y.-J. Lin, C.-L. Tsai, Y.-M. Lu, and C.-J. Liu, J. Appl. Phys. 99, 093051 (2006).
43. J. D. Ye, S. L. Gu, F. Gin, S. M. Liu, X. Zhou, W. Liu, L. Q. Hu, R. Zhang, Y. Shi, and Y. D. Zheng, Appl. Phys. A81, 759 (2005).
44. J. G. Lu, Z. Z. Ye, Y. J. Zeng, L. P. Zhu, L. Wang, J. Yuan, B. H. Zhao, and Q. L. Liang, J. Appl. Phys. 100, 073714 (2006).
45. A. D. Trolio, E. M. Bauer, G. Scavia, and C. Veroli, J. Appl. Phys. 105, 113109 (2009).
46. F. Ruske, M. Roczen, K. Lee, M. Wimmer, S. Gall, J. Hüpkes, D. Hrunski, and B. Rech, J. Appl. Phys. 107, 013708 (2010).