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Volumn 509, Issue 20, 2011, Pages 6090-6095

Metalorganic chemical vapor deposition of Ti-O-C-N thin films using TBOT as a promising precursor

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MOCVD; SEM; Ti O C N thin films; XPS; XRD

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MOCVD; SEM; TI-O-C-N THIN FILMS; XPS; XRD;

EID: 79954425136     PISSN: 09258388     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1016/j.jallcom.2011.03.030     Document Type: Article
Times cited : (8)

References (22)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.