Improved resistive switching dispersion of NiOx thin film by Cu-doping Method

Japanese Journal of Applied Physics

Volumn 49, Issue 5 PART 1, 2010, Pages 0565071-0565074

  Liu, Chih Yi ^a   Lin, Xin Jie ^a   Wang, Hung Yu ^a   Lai, Chun Hung ^b  

^a NATIONAL KAOHSIUNG UNIVERSITY OF APPLIED SCIENCES   (Taiwan)

^b NATIONAL UNITED UNIVERSITY   (Taiwan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CONDUCTING FILAMENT; CU-DOPING; NONDESTRUCTIVE READOUT; OPERATING VOLTAGE; OPERATION VOLTAGE; RESISTIVE SWITCHING; RESISTIVE SWITCHING BEHAVIORS; VOLTAGE DISPERSION;

COPPER; DOPING (ADDITIVES); PLATINUM; SWITCHING; SWITCHING SYSTEMS; THIN FILMS;

DISPERSIONS;

EID: 77952721137     PISSN: 00214922     EISSN: 13474065     Source Type: Journal    
DOI: 10.1143/JJAP.49.056507     Document Type: Article

References (24)

1. H. T. Lue, C. J. Wu, and T. Y. Tseng: IEEE Trans. Ultrason. Ferroelectr. Freq. Control 50 (2003) 5.
2. D. C. Worledge and D. W. Abraham: Appl. Phys. Lett. 82 (2003) 4522.
3. X. S. Miao, L. P. Shi, H. K. Lee, J. M. Li, R. Zhao, P. K. Tan, K. G. Lim, H. X. Yang, and T. C. Chong: Jpn. J. Appl. Phys. 45 (2006) 3955.
4. A. Beck, J. G. Bednorz, Ch. Gerber, C. Rossel, and D. Widmer: Appl. Phys. Lett. 77 (2000) 139.
5. C. Y. Liu, P. H. Wu, A. Wang, W. Y. Jang, J. C. Young, K. Y. Chiu, and T. Y. Tseng: IEEE Electron Device Lett. 26 (2005) 351.
6. R. Dong, D. S. Lee, W. F. Xiang, S. J. Oh, J. Seong, S. H. Heo, H. J. Choi, M. J. Kwon, S. N. Seo, M. B. Pyun, M. Hasan, and H. Hwang: Appl. Phys. Lett. 90 (2007) 042107.
7. Q. Liu, W. Guan, S. Long, R. Jia, M. Liu, and J. Chen: Appl. Phys. Lett. 92 (2008) 012117.
8. A. Sawa, T. Fujii, M. Kawasaki, and Y. Tokura: Appl. Phys. Lett. 85 (2004) 4073.
9. K. Jung, H. Seo, Y. Kim, H. Im, J. P. Hong, J. W. Park, and J. K. Lee: Appl. Phys. Lett. 90 (2007) 052104.
10. H. Lv, M. Wang, H. Wan, Y. Song, W. Luo, P. Zhou, T. Tang, Y. Lin, R. Huang, S. Song, J. G. Wu, H. M. Wu, and M. H. Chi: Appl. Phys. Lett. 94 (2009) 213502.
11. C. Y. Liu and T. Y. Tseng: J. Phys. D 40 (2007) 2157.
12. M. G. Kim, S. M. Kim, E. J. Choi, S. E. Moon, J. Park, H. C. Kim, B. H. Park, M. J. Lee, S. Seo, D. H. Seo, S. E. Ahn, and I. K. Yoo: Jpn. J. Appl. Phys. 44 (2005) L1301.
13. R. Jung, M. J. Lee, S. Seo, D. C. Kim, G. S. Parks, K. Kim, S. Ahn, Y. Park, I. K. Yoo, J. S. Kim, and B. H. Park: Appl. Phys. Lett. 91 (2007) 022112.
14. W. Guan, M. Liu, S. Long, Q. Liu, and W. Wang: Appl. Phys. Lett. 93 (2008) 223506.
15. Q. Liu, W. Guan, S. Long, M. Liu, S. Zhang, Q. Wang, and J. Chen: J. Appl. Phys. 104 (2008) 114514.
16. D. C. Kim, M. J. Lee, S. E. Ahn, S. Seo, J. C. Park, I. K. Yoo, I. G. Baek, H. J. Kim, E. K. Yim, J. E. Lee, S. O. Park, H. S. Kim, U. I. Chung, J. T. Moon, and B. I. Ryu: Appl. Phys. Lett. 88 (2006) 232106.
17. C. B. Lee, B. S. Kang, M. J. Lee, S. E. Ahn, G. Stefanovich, W. X. Xianyu, K. H. Kim, J. H. Hur, H. X. Yin, Y. Park, and I. K. Yoo: Appl. Phys. Lett. 91 (2007) 082104.
18. R. Waser and M. Aono: Nat. Mater. 6 (2007) 833.
19. Q. Liu, W. Guan, S. Long, R. Jia, M. Liu, and J. Chen: Appl. Phys. Lett. 92 (2008) 012117.
20. B. J. Choi, D. S. Jeong, S. K. Kim, C. Rohde, S. Choi, J. H. Oh, H. J. Kim, C. S. Hwang, K. Szot, R. Waser, B. Reichenberg, and S. Tiedke: J. Appl. Phys. 98 (2005) 033715.
21. D. S. Jeong, B. J. Choi, and C. S. Hwang: J. Appl. Phys. 100 (2006) 113724.
22. T. N. Fang, S. Kaza, S. Haddad, A. Chen, Y. C. Wu, Z. Lan, S. Avanzino, D. Liao, C. Gopalan, S. Choi, S. Mahdavi, M. Buynoski, Y. Lin, C. Marrian, C. Bill, M. VanBuskirk, and M. Taguchi: IEDM Tech. Dig., 2006, p. 789.
23. B. Sun, L. Liu, N. Xu, B. Gao, Y. Wang, D. Han, X. Liu, R. Han, and J. Kang: Jpn. J. Appl. Phys. 48 (2009) 04C061.
24. K. Fujiwara, T. Nemoto, M. J. Rozenberg, Y. Nakamura, and H. Takagi: Jpn. J. Appl. Phys. 47 (2008) 6266.