Growth of crystalline TiO2 by plasma enhanced chemical vapor deposition

Crystal Growth and Design

Volumn 9, Issue 6, 2009, Pages 2868-2876

  Borras, Ana ^a,b   Sanchez Valencia, Juan R ^a   Widmer, Roland ^b   Rico, Victor J ^a   Justo, Angel ^a   Gonzalez Elipe, Agustin R ^a  

^a UNIVERSITY OF SEVILLE   (Spain)

^b SWISS FEDERAL LABORATORIES FOR MATERIALS SCIENCE AND TECHNOLOGY   (Switzerland)

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EID: 66849125745     PISSN: 15287483     EISSN: 15287505     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/cg9001779     Document Type: Article

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