Langmuir-blodgett monolayer masked chemical etching: An approach to broadband antireflective surfaces

Chemistry of Materials

Volumn 21, Issue 9, 2009, Pages 1802-1805

  Hao, Juanyuan ^a   Lu, Nan ^a   Xu, Hongbo ^a   Wang, Wentao ^a   Gao, Liguo ^a   Chi, Lifeng ^b  

^a Jilin University   (China)

^b UNIVERSITY OF MÜNSTER   (Germany)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ANTIREFLECTIVE; ANTIREFLECTIVE STRUCTURE; BOTTOM UP APPROACH; CHEMICAL ETCHING; COST BENEFITS; DOMAIN STRUCTURE; KOH SOLUTION; LANGMUIR-BLODGETT; LANGMUIR-BLODGETT MONOLAYERS; OPTICAL SURFACES; POLYMER MATERIALS; POTENTIAL APPLICATIONS; PYRAMIDAL STRUCTURES; SELECTIVE ETCHING;

ETCHING; MONOLAYERS; NANOIMPRINT LITHOGRAPHY; OPTICAL INSTRUMENTS; REFLECTION;

SURFACES;

EID: 66149090005     PISSN: 08974756     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/cm802758e     Document Type: Article

References (39)

1. Striemer, C. C.; Fauchet, P. M. Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 2980.
2. Lee, Y. J.; Ruby, D. S.; Peters, D. W.; McKenzie, B. B.; Hsu, J. W. P. Nano Lett. 2008, 8, 1501.
3. Kanamori, Y.; Ishimori, M.; Hane, K. IEEE Photon. Technol. Lett. 2002, 14, 1064.
4. Glaser, T.; Ihring, A.; Morgenroth, W.; Seifert, N.; Schroẗer, S.; Baier, V. Microsyst. Technol. 2005, 11, 86.
5. Lee, C.; Bae, S. Y.; Mobasser, S.; Manohara, H. Nano Lett. 2005, 5, 2438.
6. Walheim, S.; Schaffer, E.; Mlynek, J.; Steiner, U. Science 1999, 283, 520.
7. Ibn-Elhaj, M.; Schadt, M. Nature (London) 2001, 410, 796.
8. Koo, H. Y.; Yi, D. K.; Yoo, S. J.; Kim, D. Y. AdV. Mater. 2004, 16, 274.
9. Wu, Z. Z.; Walish, J.; Nolte, A.; Zhai, L.; Cohen, R. E.; Rubner, M. F. AdV. Mater. 2006, 18, 2699.
10. Xi, J. Q.; Schubert, M. F.; Kim, J. K.; Schubert, E. F.; Chen, M. F.; Lin, S. Y.; Liu, W.; Smart, J. A. Nat. Photonics 2007, 1, 176.
11. Bernhard, C. G. EndeaVour 1967, 26, 79.
12. Huang, Y. F.; Chattopadhyay, S.; Jen, Y. J.; Peng, C. Y.; Liu, T. A.; Hsu, Y. K.; Pan, C. L.; LO, H. C.; Hsu, C. H.; Chang, Y. H.; Lee, C. S.; Chen, K. H.; Chen, L. C. Nat. Nanotechnol. 2007, 2, 770.
13. Kanamori, Y.; Sasaki, M.; Hane, K. Opt. Lett. 1999, 24, 1422.
14. Kanamori, Y.; Roy, E.; Chen, Y. Microelectron. Eng. 2005, 78-79, 287.
15. Hadobás, K.; Kirsch, S.; Carl, A.; Acet, M.; Wassermann, E. F. Nanotechnology 2000, 11, 161.
16. Aydin, C.; Zaslavsky, A.; Sonek, G. J.; Goldstein, J. Appl. Phys. Lett. 2002, 80, 2242.
17. Yu, Z. N.; Gao, H.; Wu, W.; Ge, H. X.; Chou, S. Y. J. Vac. Sci. Technol., B 2003, 21, 2874.
18. Zhang, G.; Zhang, J.; Xie, G. Y.; Liu, Z. F.; Shao, H. B. Small 2006, 2, 1440.
19. Sai, H.; Fujii, H.; Arafune, K.; Ohshita, Y.; Yamaguchi, M.; Kanamori, Y.; Yugami, H. Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 201116.
20. Sun, C. H.; Min, W. L.; Linn, N. C.; Jiang, P.; Jiang, B. Appl. Phys. Lett. 2007, 91, 231105.
21. Sun, C. H.; Jiang, P.; Jiang, B. Appl. Phys. Lett. 2008, 92, 061112.
22. Min, W. L.; Jiang, B.; Jiang, P. AdV. Mater. 2008, 10.1002/adma.200800791.
23. Wang, S.; Yu, X. Z.; Fan, H. T. Appl. Phys. Lett. 2007, 91, 061105.
24. Brzezinski, V.; Peterson, I. R. J. Phys. Chem. 1995, 99, 12545.
25. Chi, L. F.; Johnston, R. R.; Ringsdorf, H. Langmuir 1991, 7, 2323.
26. Chi, L. F.; Anders, M.; Fuchs, H.; Johnston, R. R.; Ringsdorf, H.Science 1993, 259, 213.
27. Chi, L. F.; Gleiche, M.; Fuchs, H. Langmuir 1998, 14, 875.
28. Wang, S.; Yu, X. Z.; Fan, H. T. Appl. Phys. Lett. 2007, 91, 061105.
29. Brzezinski, V.; Peterson, I. R. J. Phys. Chem. 1995, 99, 12545.
30. Chi, L. F.; Johnston, R. R.; Ringsdorf, H. Langmuir 1991, 7, 2323.
31. Chi, L. F.; Anders, M.; Fuchs, H.; Johnston, R. R.; Ringsdorf, H. Science 1993, 259, 213.
32. Chi, L. F.; Gleiche, M.; Fuchs, H. Langmuir 1998, 14, 875.
33. Lenhert, S.; Zhang, L.; Mueller, J.; Wiesmann, H. P.; Erker, G.; Fuchs, H.; Chi, L. F. AdV. Mater. 2004, 16, 619.
34. Chen, X. D.; Lenhert, S.; Hertz, M.; Lu, N.; Fuchs, H.; Chi, L. F. Acc. Chem. Res. 2007, 40, 393.
35. Hao, J. Y.; Lu, N.; Wu, Q.; Hu, W.; Chen, X. D.; Zhang, H. Y.; Wu, Y.; Wang, Y.; Chi, L. F. Langmuir 2008, 24, 5315.
36. Yu, Z. N.; Gao, H.; Wu, W.; Ge, H. X.; Chou, S. Y. J. Vac. Sci. Technol. B 2003, 21, 2874.
37. Kanamori, Y.; Hane, K.; Sai, H.; Yugami, H. Appl. Phys. Lett. 2001, 78, 142.
38. Baum, T.; Satherley, J.; Schiffrin, D. J. Langmuir 1998, 14, 2925.
39. Rajteri, M.; Rastello, M. L.; Monticone, E. Nucl. Instrum. Methods Phys. Res., Sect. A 2000, 444, 461.