Molecular modeling of alkyl monolayers on the Si(100)-2 × 1 surface

Langmuir

Volumn 20, Issue 21, 2004, Pages 9108-9113

  Lee, Michael V ^a   Guo, Dawei ^b   Linford, Matthew R ^a   Zuilhof, Han ^b  

^a N243 Eyring Science Center   (United States)

^b WAGENINGEN UNIVERSITY   (Netherlands)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ALKYL MONOLAYERS; HYDROCARBON CHAINS; MOLECULAR MODELLING; RANDOMIZATION;

ADSORPTION; CHEMICAL REACTIONS; COMPUTER SIMULATION; DIMERS; ENTHALPY; MOLECULAR ORIENTATION; MONOLAYERS; SILICON COMPOUNDS;

OLEFINS;

ALKENE; ALKYNE; CARBON; SILICON;

ADSORPTION; ARTICLE; CHEMICAL STRUCTURE; CHEMISTRY; DIMERIZATION; PARTICLE SIZE; SURFACE PROPERTY;

ADSORPTION; ALKENES; ALKYNES; CARBON; DIMERIZATION; MODELS, MOLECULAR; PARTICLE SIZE; SILICON; SURFACE PROPERTIES;

ADSORPTION; CHEMICAL REACTIONS; DIMERS; ENTHALPY; MOLECULAR STRUCTURE; MONOLAYERS; OLEFINS; SILICON COMPOUNDS;

EID: 6444239890     PISSN: 07437463     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/la048894e     Document Type: Article

References (45)

1. Sieval, A. B.; Linke, R.; Zuilhof, H.; Sudhölter, E. J. R. Adv. Mater. 2000, 12, 1457-1460.
2. Buriak, J. M. Chem. Rev. 2002, 102, 1271-1308.
3. Hamers, R. J.; Coulter, S. K; Ellison, M. D.; Hovia, J. S.; Padowitz, D. F.; Sohwartz, M. P.; Greenlief, C. M.; Russell, J. N., Jr. Acc. Chem. Res. 2000, 33, 617-624.
4. Hamers, R. J.; Wang, Y. Chem. Rev. 1996, 96, 1261-1290.
5. Wayner, D. D. M.; Wolkow, R. A. J. Chem. Soc., Perhin Trans. 2002, 2, 23-34.
6. Bent, S. F. J. Phys. Chem. B 2002, 106, 2830-2842.
7. Bent, S. F. Surf. Sci. 2002, 500, 879-903.
8. Barriocanal, J. A.; Doren, D. J. J. Am. Chem. Soc. 2001, 123, 7340-7346.
9. Hess, J. S.; Doren, D. J. J. Phys. Chem. B 2002, 706, 8206-8210.
10. Mulcahy, C. P. A.; Carman, A. J.; Casey, S. M. Surf. Sci. 2000, 459, 1-13.
11. Wang, G.T.;Mui, C.;Musgrave,C.B.;Bent,S.F. J.Phys. Chem. B 1999, 103, 6803-6808.
12. Hamers, R. J.; Hovis, J. S.; Greenlief, C. M.; Padowitz, D. F. Jpn. J. Appl. Phys. 1999, 38, 3879-3887.
13. Hamers, R. J.; Hovis, J. S.; Lee, S.; Liu, H,; Shan, J. J. Phys. Chem. B 1997, 101, 1489-1492.
14. Linford, M. R.; Chidsey, C. E. D. J. Am. Chem. Soc. 1993, 115, 12631-12632.
15. Linford, M. R. Thesis, Stanford University, Stanford, CA, 1996.
16. (a) Sun, Q.-Y.; de Smet, L. C. P. M.; van Lagen, B.; Wright, A.; Zuilhof, H.; Sudhölter, E. J. E. Angew. Chem. Int. Ed. 2004, 43, 1352-1355.
17. (b) de Smet, L. C. P. M.; Stork, G. A.; Hurenkamp, G. H. F.; Sun, Q. Y.; Topai, H.; Vronen, P. J. E.; Sieval, A. B.; Wright, A.; Visser, G. M.;Zuilhof, H.; Sudhölter, E. J. R. J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 13916-13917.
18. Sieval, A. B.; Vleeming, V.; Zuilhof, H.; Sudhölter, E. J. R. Langmuir 1999, 15, 8288-8291.
19. Sieval, A. B.; Demirel, A. L.; Nissink, J. W. M.; Linford, M. R.; van der Maas, J. H.; de Jeu, W. H.; Zuilhof, H.; Sudhölter, E. J. R. Langmuir 1998, 14, 1759-1768.
20. Bansal, A.; Li, X.; Lauermann, I; Lewis, N. S.; Yi, S. I; Weinberg, W. H. J. Am. Chem. Soc. 1996, 118, 7225-7226.
21. Bansal, A.; Lewis, N. S. J. Phys. Chem. B 1998, 102, 1067-1070.
22. Gurtner, C.; Wun, A. W.; Sailor, M. J. Angew. Chem., Int. Ed. 1999, 38, 1966-1968.
23. Song, J. H.; Sailor, M. J. J. Am. Chem. Soc. 1998, 120, 2376-2381.
24. Buriak, J. M.; Allen, M. J. J. Am. Chem. Soc. 1998, 120, 1339-1340.
25. Buriak, J. M.; Stewart, M. P.; Geders, T. W.; Allen, M. J.; Choi, H. C.; Smith, J.; Raftery, D.; Canham, L. T. J. Am. Chem. Soc. 1999, 121, 11491-11502.
26. Linford, M. R. U.S. Patent 6, 132, 801, 2000.
27. Jiang, G.; Niederhauser, T. L.; Linford, M. R. Langmuir 2004, 20, 1772-1774.
28. Niederhauser, T. L.; Jiang, G.; Lua, Y.-Y.; Dorff, M. J.; Woolley, A. T. ; Asplund, M. C.; Berges, D. A.; Linford, M. R. Langmuir 2001, 17, 5889-5900.
29. Niederhauser, T. L.; Lua, Y.-Y.; Jiang, G.; Davis, S. D.; Matheson, R.; Hess, D. A.; Mowat, I. A.; Linford, M. R. Angew. Chem., Int. Ed. 2002, 41, 2353-2356.
30. Lua, Y.-Y.; Lee, M. V.; Fillmore, W. J. J.; Matheson, R.; Sathyapalan, A.; Asplund, M. C.; Fleming, S. A.; Linford, M. R. Angew. Chem. Int. Ed. 2003, 42, 4046-4049.
31. Lua, Y.-Y.; Niederhauser, T. L.; Wacaser, B. A.; Mowat, I. A.; Woolley, A. T.; Davis, R. C.; Fishman, H. A.; Linford, M. R. Langmuir 2003, 19, 985-988.
32. Lu, X. J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 6384-6385.
33. Mui, C.; Bent, S. F.; Musgrave, C. B. J. Phys. Chem. A 2000, 104, 2457-2462.
34. Kim, W.; Kim, H.; Lee, G.; Hong, Y.-K.; Lee, K.; Hwang, C.; Kim, D.-H.; Koo, J.-Y. Phys. Rev. B 2001, 64, 193313.
35. Morikawa, Y. Phys. Rev. B 2001, 63, 033405.
36. Mayne, A. J.; Avery, A. R.; Knall, J.; Jones, T. S.; Briggs, G. A. D.; Weinberg, W. H. Surf. Sci. 1993, 284, 247-256.
37. Miotto, R.; Ferraz, A. C.; Srivastava, G. P. Phys. Rev. B 2002, 65, 075401.
38. Silvestrelli, P. L.; Toigo, F.; Ancilotto, F. J. Chem. Phys. 2001, 114, 8539-8545.
39. Ulman, A. Characterization of Organic Thin Films; Butterworth-Heinemann: Woburn, MA, 1995.
40. Sieval, A. B.; van den Hout, B.; Zuilhof, H.; Sudhölter, E. J. R. Langmuir 2001, 17, 2172-2181.
41. Sieval, A. B.; van den Hout, B.; Zuilhof, H.; Sudhölter, E. J. R. Langmuir 2000, 16, 2987-2990.
42. Pei, Y.; Ma, J.; Jiang, Y. Langmuir 2003, 19, 7652-7661.
43. Li, T.-W.; Chao, I.; Tao, Y.-T. J. Phys. Chem. B 1998, 102, 2935-2946.
44. Bunte, S. W.; Sun, H. J. Phys. Chem. B 2000, 104, 2477-2489.
45. Sun, H. J. Phys. Chem. B 1998, 102, 7338-7364.