Effect of oxygen partial pressure on optical and electrical properties of co-sputtered amorphous zinc indium tin oxide thin films

Physica Status Solidi (A) Applications and Materials Science

Volumn 205, Issue 7, 2008, Pages 1625-1630

  Saji, K J ^a   Jayaraj, M K ^a  

^a Department of Physics   (India)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

AMORPHOUS; BAND CONDUCTIONS; CONDUCTIVITY MEASUREMENTS; EFFECT OF OXYGENS; ELECTRON DENSITIES; INDIUM TIN OXIDE THIN FILMS; INDIUM-TIN-OXIDE; OPTICAL AND ELECTRICAL PROPERTIES; OPTICAL BANDS; OXYGEN PARTIAL PRESSURES; OXYGEN PRESSURES; ROOM TEMPERATURES; TEMPERATURE DEPENDENTS; TRANSPARENT THIN FILMS;

BIOACTIVITY; CARRIER CONCENTRATION; CARRIER MOBILITY; CIVIL AVIATION; CONCENTRATION (PROCESS); ELECTRIC PROPERTIES; GALVANOMAGNETIC EFFECTS; HALL EFFECT; HALL MOBILITY; INDIUM; MAGNETIC FIELD EFFECTS; NONMETALS; OXIDE FILMS; OXYGEN; PARTIAL PRESSURE; PHOTOLITHOGRAPHY; POSITIVE IONS; THICK FILMS; THIN FILMS; TIN; TITANIUM COMPOUNDS; ZINC; ZINC OXIDE;

AMORPHOUS FILMS;

EID: 54249140993     PISSN: 18626300     EISSN: 18626319     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/pssa.200824007     Document Type: Article

References (38)

1. G. Thomas, Nature 389, 907 (1997).
2. S. R. Forrest, Nature 428, 911 (2004).
3. H. C. Lim, B. Schulkin, M. J. Pulickal, S. Liu, R. Petrova, G. Thomas, S. Wagner, and K. J. Feerici, Sens. Actuators A 119, 332 (2005).
4. E. Fortunato, P. Barquinha, A. Pimentai, A. Goncalves, A. Marques, L. Pereira, and R. Martins, Adv. Mater. 17, 590 (2005).
5. C. Reese, M. Roberts, M. Ling, and Z. Bao, Mater. Today 7, 20 (2004).
6. K. Nomura, H. Ohta, K. Ueda, T. Kamiya, M. Hirano, and H. Hosono, Science 300, 1269 (2003).
7. J. R. Bellingham, W. A. Philips, and C. J. Adkins, J. Phys.: Condens. Matter 2, 6207 (1990).
8. H. Nakazawa, Y. Ito, E. Matsumoto, K. Adachi, N. Aoki, and Y. Ochiai, J. Appl. Phys. 100, 093706 (2006).
9. M. Orita, H. Ohta, M. Hirano, S. Narushima, and H. Hosono, Philos. Mag. B 81, 501 (2001).
10. S. Narushima, H. Hosono, J. Jisun, T. Yoko, and K. Shimakawa, J. Non-Cryst. Solids 274, 313 (2000).
11. N. Kikuchi, H. Hosono, H. Kawazoe, K. Oyoshi, and S. Hishita, J. Am. Ceram. Soc. 80, 22 (1997).
12. P. Barquinha, G. Gonçalves, L. Pereira, R. Martins, and E. Fortunato, Thin Solid Films 515, 8450 (2007).
13. K. Nomura, H. Ohta, A. Takagi, T. Kamiya, M. Hirano, and H. Hosono, Nature 435, 488 (2004).
14. H. Q. Chiang, J. F. Wager, R. L. Hoffman, J. Jeong, and D. A. Keszler, Appl. Phys. Lett. 86, 013503 (2005).
15. S. Kobayashi, S. Nonomura, T. Ohmori, K. Abe, S. Hirata, T. Uno, T. Gotoh, S. Nitta, and S. Kobayashi, Appl. Surf. Sci. 113/114, 480 (1997).
16. M. K. Jayaraj, K. J. Saji, K. Nomura, T. Kamiya, and H. Hosono, J. Vac. Sci. Technol. B 26, 495 (2008).
17. N. L. Dehuff, E. S. Kettenring, D. Hong, H. Q. Chiang, J. F. Wager, R. L. Hoffman, C. H. Park, and D. A. Kezler, J. Appl. Phys. 91, 064505 (2005).
18. M. S. Grover, P. A. Hersh, H. Q. Chiang, E. S. Kettenring, J. F. Wager, and D. A. Keszler, J. Phys. D, Appl. Phys. 40, 1335 (2007).
19. K. J. Saji and M. K. Jayaraj, Thin Solid Films (in press), DOI:10.1016/j.tsf.2007.10.097.
20. K. J. Saji, M. K. Jayaraj, K. Nomura, T. Kamiya, and H. Hosono, J. Electrochem. Soc. 155, H390 (2008).
21. T. Minami, H. Sonohara, T. Kakumu, and S. Takata, Jpn. J. Appl. Phys. 34, L971 (1995).
22. Y. S. Jung, Y. J. Seo, D. W. Lee, and D. Y. Jeon, Thin Solid Films 445, 63 (2003).
23. J. M. Phillips, R. J. Cava, G. A. Thomas, S. A. Carter, J. Kwo, T. Siegrist, J. J. Krajewski, J. H. Marshall, W. F. Peck Jr., and D. H. Rapkine, Appl. Phys. Lett. 67, 2246 (1995).
24. T. Sasabayashi, N. Ito, E. Nishimura, M. Kon, P. K. Song, K. Utsumi, A. Kaijo, and Y. Shigesato, Thin Solid Films 445, 219 (2003).
25. H. Hosono, N. Kikuchi, N. Ueda, and H. Kawazoe, J. Non-Cryst. Solids 198-200, 165 (1996).
26. R. L. Hoffman, B. J. Norris, and J. F. Wager, Appl. Phys. Lett. 82, 733 (2003).
27. R. Martins, P. Barquinha, I. Ferreira, L. Pereira, G. Goncalves, and E. Fortunato, J. Appl. Phys. 101, 44505 (2007).
28. J. M. Ngaruiya, O. Kappertz, S. H. Mohamed, and M. Wuttig, Appl. Phys. Lett. 85, 748 (2004).
29. S. Mraz and J. M. Schneider, Appl. Phys. Lett. 89, 051502 (2006).
30. S. Mraz and J. M. Schneider, J. Appl. Phys. 100, 023503 (2006).
31. J. Tauc, R. Grigorovici, and A. Vancu, phys. stat. sol. (b) 15, 627 (1966).
32. J. Tauc, in: Amorphous and Liquid Semiconductors, edited by J. Taue (Plenum Publ. Co. Ltd, New York, 1979).
33. S. Samson and C. G. Fonstad, J. Appl. Phys. 44, 4618 (1973).
34. S. Lany and A. Zunger, Phys. Rev. Lett. 98, 045501 (2007).
35. S. B. Zhang and S. H. Wei, Appl. Phys. Lett. 80, 1376 (2002).
36. H. Hosono, J. Non-Cryst. Solids 352, 851 (2006).
37. A. Takagi, K. Nomura, H. Ohta, H. Yanagi, T. Kamiya, M. Hirano, and H. Hosono, Thin Solid Films 486, 38 (2005).
38. K. Nomura, A. Takagi, T. Kamiya, H. Ohta, M. Hirano, and H. Hosono, Jpn. J. Appl. Phys. 45, 4303 (2006).