Passivation and secondary functionalization of allyl-terminated Si(111) surfaces

Chemistry of Materials

Volumn 20, Issue 6, 2008, Pages 2228-2233

  Lewis, Nathan S ^a   Plass, Katherine E ^a   Liu, Xueliang ^a   Brunschwig, Bruce S ^a  

^a California Institute of Technology   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CATALYZED REACTIONS; SECONDARY FUNCTIONALIZATION; SILICON SURFACES; SURFACE EXHIBITED RESISTANCE;

FUNCTIONAL GROUPS; MONOLAYERS; PASSIVATION; REACTION RATES; SILICON COMPOUNDS; SYNTHESIS (CHEMICAL);

SURFACE CHEMISTRY;

EID: 41749111146     PISSN: 08974756     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/cm7024679     Document Type: Article

References (27)

1. Nemanick, E. J.; Hurley, P. T.; Brunschwig, B. S.; Lewis, N. S. J. Phys. Chem. B 2006, 110, 14800-14808.
2. Nemanick, E. J.; Hurley, P. T.; Webb, L. J.; Knapp, D. W.; Michalak, D. J.; Brunschwig, B. S.; Lewis, N. S. J. Phys. Chem. B 2006, 110, 14770-14778.
3. Royea, W. J.; Juang, A.; Lewis, N. S. Appl. Phys. Lett. 2000, 77, 1988-1990.
4. Hamann, T. W.; Lewis, N. S. J. Phys. Chem. B 2006, 110, 22291-22294.
5. Rohde, R. D.; Agnew, H. D.; Yeo, W. S.; Bailey, R. C.; Heath, J. R. J. Am. Chem. Soc. 2006, 128, 9518-9525.
6. Pike, A. R.; Lie, L. H.; Eagling, R. A.; Ryder, L. C.; Patole, S. N.; Connolly, B. A.; Horrocks, B. R.; Houlton, A. Angew. Chem., Int. Ed. 2002, 41, 615-617.
7. Strother, T.; Cai, W.; Zhao, X. S.; Hamers, R. J.; Smith, L. M. J. Am. Chem. Soc. 2000, 122, 1205-1209.
8. Cabri, W.; Candiani, I. Acc. Chem. Res. 1995, 28, 2-7.
9. Grubbs, R. H.; Chang, S. Tetrahedron 1998, 54, 4413-4450.
10. Hurley, P. T.; Nemanick, E. J.; Brunschwig, B. S.; Lewis, N. S. J. Am. Chem. Soc. 2006, 128, 9990-9991.
11. Yamada, T.; Shirasaka, K.; Noto, M.; Kato, H. S.; Kawai, M. J. Phys. Chem. B 2006, 110, 7357-7366.
12. Fellah, S.; Amiar, A.; Ozanam, F.; Chazalviel, J. N.; Vigneron, J.; Etcheberry, A.; Stchakovsky, M. J. Phys. Chem. B 2007, 111, 1310-1317.
13. Fellah, S.; Ozanam, F.; Chazalviel, J. N.; Vigneron, J.; Etcheberry, A.; Stchakovsky, M. J. Phys. Chem. B 2006, 110, 1665-1672.
14. Juang, A.; Scherman, O. A.; Grubbs, R. H.; Lewis, N. S. Langmuir 2001, 17, 1321-1323.
15. Bansal, A.; Li, X. L.; Yi, S. I.; Weinberg, W. H.; Lewis, N. S. J. Phys. Chem. B 2001, 105, 10266-10277.
16. Hunger, R.; Fritsche, R.; Jaeckel, B.; Jaegermann, W.; Webb, L. J.; Lewis, N. S. Phys. Rev. B 2005, 72, 045317.
17. Yu, H. B.; Webb, L. J.; Heath, J. R.; Lewis, N. S. Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 252111.
18. Yu, H. B.; Webb, L. J.; Ries, R. S.; Solares, S. D.; Goddard, W. A.; Heath, J. R.; Lewis, N. S. J. Phys. Chem. B 2005, 109, 671-674.
19. Lewis, N. S. J. Electroanal Chem. 2001, 508, 1-10.
20. Practical Surface Analysis, 2nd ed.; Seah, M. P., Briggs, D., Eds.; John Wiley & Sons: Chichester, U.K., 1990; Vol. 1.
21. Haber, J. A.; Lewis, N. S. J. Phys. Chem. B 2002, 106, 3639-3656.
22. Allongue, P.; Kieling, V.; Gerischer, H. Electrochim. Acta 1995, 40, 1353-1360.
23. Yablonovitch, E.; Allara, D. L.; Chang, C. C.; Gmitter, T.; Bright, T. B. Phys. Rev. Lett. 1986, 57, 249-252.
24. Chabaud, L.; James, P.; Landais, Y. Eur. J. Org. Chem. 2004, 3173-3199.
25. Dutta, S.; Perring, M.; Barrett, S.; Mitchell, M.; Kenis, P. J. A.; Bowden, N. B. Langmuir 2006, 22, 2146-2155.
26. Itami, K.; Mitsudo, K.; Kamei, T.; Koike, T.; Nokami, T.; Yoshida, J. J. Am. Chem. Soc. 2000, 122, 12013-12014.
27. Metal-Catalyzed Cross-Coupling Reactions, 2nd ed.; de Meijere, A., Diederich, F., Eds.; Wiley-VCH: Weinheim, Germany, 2004.