Surface morphology of sputtered Ta2O5 thin films on Si substrates from X-ray reflectivity at a fixed angle

Journal of Applied Crystallography

Volumn 41, Issue 2, 2008, Pages 356-362

  Lee, Hsin Yi ^a   Huang, Tzu Wen ^b   Lee, Chih Hao ^b   Hsieh, Yung Wei ^a  

^a NATIONAL SYNCHROTRON RADIATION RESEARCH CENTER   (Taiwan)

^b NATIONAL TSING HUA UNIVERSITY   (Taiwan)

Author keywords

Magnetron sputtering; Surface roughness; Tantalum oxide thin films; X ray reflectivity

Indexed keywords

EID: 40849133987     PISSN: 00218898     EISSN: 16005767     Source Type: Journal    
DOI: 10.1107/S0021889807066745     Document Type: Article

References (41)

1. Aarts, J. & Larsen, P. K. (1987). Surf. Sci. 188, 391-401.
2. Abe, K. & Komatsu, S. (1995). J. Appl. Phys. 77, 6461-6465.
3. Bowen, D. K. & Tanner, B. K. (1993). Nanotechnology, 4, 175-182.
4. Chang, C. S., Liu, T. P. & Wu, T. B. (2000). J. Appl. Phys. 88, 7242-7248.
5. Chauvineau, J. P. (1988). Rev. Phys. Appl. 23, 1645-1652.
6. Edwards, K. A., Howes, P. B., Macdonald, J. E., Hibma, T., Bootsma, T. & James, M. A. (1996). Physica B, 221, 201-204.
7. Family, F. (1990). Physica A, 168, 561-580.
8. Finney, M. S., Norris, C., Howes, P. B. & Vlieg, E. (1992). Surf. Sci. 277, 330-336.
9. Huang, T. W., Lee, H. Y., Hsieh, Y. W. & Lee, C. H. (2002). J. Cryst. Growth, 237, 492-495.
10. Kardar, M., Paris, G. & Zhang, Y. C. (1989). Phys. Rev. Lett. 56, 889-892.
11. Kim, J.-Y., Nielsen, M. C., Rymaszewski, E. J. & Lu, T. M. (2000). J. Appl. Phys. 87, 1448-1452.
12. Lee, C. H., Huang, T. W., Lee, H. Y. & Hsieh, Y. W. (2002). Proc. SPIE, 4703, 37-44.
13. Lee, C. H., Lee, H. Y., Liang, K. S. &Wu, T. B. (1998). Physica B, 248, 109-114.
14. Lee, C. H. & Tseng, S. Y. (1996). Appl. Surf. Sci. 92, 282-286.
15. Lee, C.-H. & Tseng, S.-Y. (1998). J. Appl. Cryst. 31, 181-184.
16. Lee, C. H., Yu, K. L. & Lee, H. C. (2001). Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. Sect. A, 467-468, 1073-1076.
17. Lee, H. Y., Lee, C. H., Liang, K. S. & Wu, T. B. (2000). J. Mater. Res. 15, 2606-2611.
18. Mahan, J. E. (2000). Physical Vapor Deposition of Thin Films, p. 269. New York: Wiley.
19. Mao, A. Y., Son, K.-A., Hess, D. A., Brown, L. A., White, J. M., Kwong, D. L., Roberts, D. A. & Vertis, R. N. (1999). Thin Solid Films, 349, 230-237.
20. Moon, B. K., Aoyama, J. & Katori, K. (1999). Appl. Phys. Lett. 74, 824-826.
21. Moon, B. K. & Ishiwara, H. (1995). Appl. Phys. Lett. 67, 1996-1998.
22. Névot, L. & Croce, P. (1980). Rev. Phys. Appl. 15, 761-779.
23. Nicklin, C. L., Norris, C., Steadman, P., Taylor, J. S. G. & Howes, P. B. (1996). Physica B, 221, 86-89.
24. Nishimura, Y., Shinkawa, A., Ujita, H., Tsuji, M. & Nakamura, M. (1998). Appl. Surf. Sci. 136, 22-28.
25. Ohji, Y., Matsui, Y., Itoga, T., Hirayama, M., Sugawara, Y., Torii, K. et al. (1995). Tech. Digest Int. Electron Devices Meet. p. 111.
26. Ohmi, T., Miyashita, M., Itano, M., Imapka, T. & Kawanobe, I. (1992). IEEE Trans. Electron Devices, 39, 537-545.
27. Ono, H., Hosokawa, Y., Ikarashi, T., Shinoda, K., Ikarashi, N., Kayanagi, K.-I. & Yamaguchi, H. (2001). J. Appl. Phys. 89, 995-1002.
28. Ono, H. & Koyanagi, K. (1999). Appl. Phys. Lett. 75, 3521.
29. Park, H. J., Mao, A., Kwong, D. L. & White, J. M. (2000). J. Vac. Sci. Technol. A, 18, 2522
30. Parratt, L. G. (1954). Phys. Rev. 95, 359-369.
31. Ross, R. & Messier, R. (1983). J. Appl. Phys. 54, 5744-5749.
32. Soh, J. W. & Lee, W. J. (1995). Jpn. J. Appl. Phys. Part 1, 34, 3666-3667.
33. Terao, N. (1967). Jpn. J. Appl. Phys. 6, 21-34.
34. Vegt, H. A. van der, Alvarez, J., Torrelles, X., Ferrer, S. & Vlieg, E. (1995). Phys. Rev. B, 52, 17443-17448.
35. Vegt, H. A. van der, Huisman, W. J., Howes, P. B., Turner, T. S. & Vlieg, E. (1996). Surf. Sci. 365, 205-211.
36. Vegt, H. A. van der, van Pixteren, H. M., Lohmeier, M., Vlieg, E. & Thornton, J. M. C. (1992). Phys. Rev. Lett. 68, 3335-3338.
37. Vlieg, E., Denier van der Gon, A. W., van der Veen, J. F., Macdonald, J. E. & Norris, C. (1988). Phys. Rev. Lett. 61, 2241-2244.
38. Yang, B., Song, T. K., Aggarwal, S. & Ramesh, R. R. (1997). Appl. Phys. Lett. 71, 3578-3580.
39. Yang, H. N., Wang, G. C. & Lu, T. M. (1992). Diffraction from Rough Surfaces and Dynamic Growth Fronts, pp. 136-168. Singapore: World Scientific.
40. You, H., Chiarello, R. P., Kim, H. K. & Vandervoort, K. G. (1993). Phys. Rev. Lett. 70, 2900-2903.
41. Yu, K. L., Lee, C. H., Huang, J. C. A., Su, H. C. & Felcher, G. P. (2002). Chin. J. Phys. 40, 616-623.