Broadband and time-resolved absorption spectroscopy with light emitting diodes: Application to etching plasma monitoring

Applied Physics Letters

Volumn 91, Issue 23, 2007, Pages

  Cunge, G ^a   Vempaire, D ^a   Touzeau, M ^a   Sadeghi, N ^a  

^a Joseph Fourier University   (France)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CONCENTRATION (PROCESS); ETCHING; MOLECULAR STRUCTURE; PROCESS CONTROL;

HIGH DENSITY PLASMAS; TIME-RESOLVED MEASUREMENT;

LIGHT EMITTING DIODES;

EID: 36849034839     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.2822448     Document Type: Article

References (19)

1. F. Xu, Z. Lv, Y. G. Zhang, G. Somesfalean, and Z. G. Zhang, Appl. Phys. Lett. 88, 231109 (2006).
2. M. A. Childs, K. L. Menningen, P. Chevako, N. W. Spellmeyer, L. W. Anderson, and J. E. Lawler, Phys. Lett. A 171, 87 (1992).
3. J. P. Booth, G. Cunge, F. Neuilly, and N. Sadeghi, Plasma Sources Sci. Technol. 7, 423 (1998).
4. M. Kogelschatz, G. Cunge, and N. Sadeghi, J. Phys. D 37, 1954 (2004).
5. P. Chabert, G. Cunge, J. P. Booth, and J. Perrin, Appl. Phys. Lett. 79, 916 (2001).
6. G. Cunge, M. Mori, M. Kogelschatz, and N. Sadeghi, Appl. Phys. Lett. 88, 051501 (2006).
7. F. Neuilly, J. P. Booth, and L. Vallier, J. Vac. Sci. Technol. A 20, 225 (2002).
8. N. Bulcourt, J. P. Booth, E. A. Hudson, J. Luque, K. W. Mok, E. P. Lee, F. Chau, and J. M. Dyke, J. Chem. Phys. 120, 9499 (2004).
9. K. Sasaki, H. Furukawa, K. Kudota, and C. Suzuki, J. Appl. Phys. 88, 5585 (2000).
10. G. A. Hebner, J. Appl. Phys. 89, 900 (2001).
11. G. Cunge and J. P. Booth, J. Appl. Phys. 85, 3952 (1999).
12. P. Czuprynski and O. Joubert, J. Vac. Sci. Technol. B 16, 1051 (1998).
13. J. A. O'Neill and J. Singh, J. Appl. Phys. 77, 497 (1995).
14. S. Sharpe, B. Harnett, H. S. Sethi, and D. S. Sethi, J. Photochem. 38, 1 (1987).
15. M. V. Malyshev and V. M. Donnelly, J. Appl. Phys. 88, 6207 (2000).
16. S. J. Ullal, A. R. Godfrey, E. A. Edelberg, L. B. Braly, V. Vahedi, and E. S. Aydil, J. Vac. Sci. Technol. A 20, 43 (2002).
17. G. Cunge, R. L. Inglebert, O. Joubert, L. Vallier, and N. Sadeghi, J. Vac. Sci. Technol. B 20, 2137 (2002).
18. G. P. Kota, J. W. Coburn, and D. B. Graves, J. Vac. Sci. Technol. A 16, 270 (1998).
19. S. J. Benerofe, C. H. Ahn, M. M. Wang, K. E. Kihlstrom, K. B. Do, S. B. Arnason, M. M. Fejer, T. H. Geballe, M. R. Beasley, and R. H. Hammond, J. Vac. Sci. Technol. B 12, 1217 (1994).