Production mechanisms of NH and NH2 radicals in N 2-H2 plasmas

Journal of Physical Chemistry A

Volumn 111, Issue 45, 2007, Pages 11460-11472

  Van Helden, J H ^a,b   Van Den Oever, P J ^a   Kessels, W M M ^a   Van De Sanden, M C M ^a   Schram, D C ^a   Engeln, R ^a  

^a EINDHOVEN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY   (Netherlands)

^b UNIVERSITY OF OXFORD   (United Kingdom)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

AMMONIA; BAND STRUCTURE; ELECTRON TRANSITIONS; PLASMAS; VIBRATIONAL SPECTRA;

ATOMIC RADICALS; PRECURSORS; VIBRATIONAL BANDS;

FREE RADICALS;

EID: 36648999797     PISSN: 10895639     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp0727650     Document Type: Article

References (72)

1. Ricard, A.; Gordiets, B. F.; Pinheiro, M. J.; Ferreira, C. M.; Baravian, G.; Amorim, J.; Bockel, S.; Michel, H. Eur. Phys. J.: Appl. Phys. 1998, 4, 87.
2. Kessels, W. M. M.;van Assche, F. J. H.; Hong, J.; Schram, D. C.; van de Sanden, M. C. M. J. Vac Sci. Technol., A 2004, 22, 96.
3. Kim, H. J. Vac. Sci. Technol., B 2003, 21, 2231.
4. Heil, S. B. S.; Langereis, E.; Roozeboom, F.; van de Sanden, M. C. M.; Kessels, W. M. M. J. Electrochem. Soc. 2006, 153, G956.
5. Nagai, H.; Hiramatsu, M.; Hori, M.; Goto, T. J. Appl. Phys. 2003, 94, 1362.
6. Eremin, E. N. Russ. J. Phys. Chem. 1975, 49, 1112.
7. Uyama, H.; Matsumoto, O. Plasma Chem. Plasma Process. 1989, 9, 13.
8. Yin, K. S.; Venugopalan, M. Plasma Chem. Plasma Process. 1983, 3, 343.
9. Vankan, P.; Rutten, T.; Mazouffre, S.; Schram, D. C.; Engeln, R. Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 418.
10. van Helden, J. H.; Wagemans, W.; Zijlmans, R. A. B.; Schram, D. C.; Engeln, R.; Lombardi, G.; Stancu, G. D.; Röpcke, J. J. Appl. Phys. 2007, 101, 043305.
11. Gordiets, B.; Ferreira, C. M.; Pinheiro, M. J.; Ricard, A. Plasma Sources Sci. Technol. 1998, 7, 363.
12. Gordiets, B.; Ferreira, C. M.; Pinheiro, M. J.; Ricard, A. Plasma Sources Sci. Technol. 1998, 7, 379.
13. Jauberteau, J. L.; Jauberteau, I.; Aubreton, J. J. Phys. D: Appl. Phys. 2002, 35, 665.
14. Amorim, J.; Baravian, G.; Ricard, A. Plasma Chem. Plasma Process. 1995, 15, 721.
15. Bockel, S.; Amorim, J.; Baravian, G.; Ricard, A.; Stratil, P. Plasma Sources Sci. Technol. 1996, 5, 567.
16. Fisher, E. R.; Ho, P.; Breiland, W. G.; Buss, R. J. J. Phys. Chem. 1992, 96, 9855.
17. McCurdy, P. R.; Butoi, C. I.; Williams, K. L.; Fisher, E. R. J. Phys. Chem. B 1999, 103, 6919.
18. Steen, M. L.; Kull, K. R.; Fisher, E. R. J. Appl. Phys. 2002, 92, 55.
19. Uyama, H.; Matsumoto, O. Plasma Chem. Plasma Process. 1989, 9, 421.
20. Kiyooka, H.; Matsumoto, O. Plasma Chem. Plasma Process. 1996, 16, 547.
21. Halpern, J. B.; Hancock, G.; Lenzi, M.; Welge, K. H. J. Chem. Phys. 1975, 63, 4808.
22. Rahinov, I.; Ditzian, N.; Goldman, A.; Cheskis, S. Appl. Phys. B: Lasers Opt. 2003, 77, 541.
23. Derzy, I.; Lozovsky, V. A.; Ditzian, N.; Rahinov, I.; Cheskis, S. Proc. Combust. Inst. 2000, 28, 1741.
24. Friedrichs, G.; Colberg, M.; Fikri, M.; Huang, Z.; Neumann, J.; Temps, F. J. Phys. Chem. A 2005, 109, 4785.
25. Rahinov, I.; Goldman, A.; Cheskis, S. Appl. Phys. B: Lasers Opt. 2005, 81, 143.
26. van den Oever, P. J.; van Helden, J. H.; Lamers, C. C. H.; Engeln, R.; Schram, D. C.; van de Sanden, M. C. M.; Kessels, W. M. M. J. Appl. Phys. 2005, 98, 093301.
27. van den Oever, P. J.; van Hemmen, J. L.; van Helden, J. H.; Schram, D. C.; Engeln, R.; van de Sanden, M. C. M.; Kessels, W. M. M. Plasma Sources. Sci. Technol. 2006, 15, 546.
28. van den Oever, P. J.; van Helden, J. H.; van Hemmen, J. L.; Engeln, R.; Schram, D. C.; van de Sanden, M. C. M.; Kessels, W. M. M. J. Appl. Phys. 2006, 100, 093303.
29. (a) van de Sanden, M. C. M.; Severens, R. J.; Kessels, W. M. M.; Meulenbroeks, R. F. G.; Schram, D. C. J. Appl. Phys. 1998, 84, 2426.
30. (b) van de Sanden, M. C. M.; Severens, R. J.; Kessels, W. M. M.; Meulenbroeks, R. F. G.; Schram, D. C. J. Appl. Phys. 1999, 85, 1243.
31. Mazouffre, S.; Bakker, I.; Vankan. P.; Engeln, R.; Schram, D. C. Plasma Sources Sci. Technol. 2002, 11, 439.
32. Dahiya, R. P.; de Graaf, M. J.; Severens, R. J.; Swelsen, H.; van de Sanden, M. C. M.; Schram, D. C. Phys. Plasmas 1994, 1, 2086.
33. Vankan, P.; Schram, D. C.; Engeln, R. Plasma Sources Sci. Technol. 2005, 14, 744.
34. van de Sanden, M. C. M.; de Regt, J. M.; Jansen, G. M.; van der Mullen, J. A. M.; Schram, D. C.; van der Sijde, B. Rev. Sci. Instrum. 1992, 63, 3369.
35. Meulenbroeks, R. F. G.; van Beek, A. J.; van Helvoort, A. J. G.; van de Sanden, M. C. M.; Schram, D. C. Phys. Rev. E 1994, 49, 4397.
36. Engeln, R.; Mazouffre, S.; Vankan, P.; Schram, D. C.; Sadeghi, N. Plasma Sources Sci. Technol. 2001, 10, 595.
37. Vankan, P.; Mazouffre, S.; Engeln, R.; Schram, D. C. Phys. Plasmas 2005, 12, 102303.
38. Cavity-Ringdown Spectroscopy: An Ultratrace-Absorption Measurement Technique; Busch, K. W., Busch, M. A., Eds.; ACS Symposium Series 720; American Chemical Society: Washington, DC, 1999.
39. Vankan, P. J. W. Ph.D. Thesis, Eindhoven University of Technology, Eindhoven, The Netherlands, 2005. http://alexandria.tue.nl/extra2/200510358.pdf.
40. Mazouffre, S.; Vankan, P.; Engeln, R.; Schram, D. C. Phys. Plasmas 2001, 8, 3824.
41. Boogaarts, M. G. H.: Böcker, P. J.; Kessels, W. M. M.; Schram, D. C.; van de Sanden, M. C. M. Chem. Phys. Lett. 2000, 326, 400.
42. Kessels, W. M. M.; Leroux, A.; Boogaarts, M. G. H.; Hoefnagels, J. P. M.; van de Sanden, M. C. M.; Schram, D. C. J. Vac Sci. Technol., A. 2001, 19, 467.
43. Mazouffre, S.; Boogaarts, M. G. H.; Bakker, I. S. J.; Vankan, P.; Engeln, R.; Schram, D. C. Phys. Rev. E 2001, 64, 016411.
44. Brussaard, G. J. H. Ph.D.. Thesis, Eindhoven University of Technology, Eindhoven, The Netherlands, 1999. http://alexandria.tue.nl/extra2/9900312.pdf.
45. Hoefnagels, J. P. M.; Barrell, Y.; Kessels, W. M. M.; van de Sanden, M. C. M. J. Appl. Phys. 2004, 96, 4094.
46. TU/eDACS; Technical Laboratory Automation Group, Eindhoven University of Technology: Eindhoven, The Netherlands.
47. Dressler, K.; Ramsay, D. A. Philos. Trans. R. Soc. London, Ser. A 1959, 251, 553.
48. Ross, S. C.; Birss, F. W.; Vervloet, M.; Ramsay, D. A. J. Mol. Spectrosc. 1988, 129, 436.
49. Kohse-Höinghaus, K.; Davidson, D. F.; Chang, A. Y.; Hanson, R. K. J. Quant. Spectrosc. Radiat. Transfer 1989, 42, 1.
50. Votsmeier, M.; Song, S.; Davidson, D. F.; Hanson, R. K. Int. J. Chem. Kinet. 1999, 31, 323.
51. PrecisionScan-D Dye Laser Manual; Sirah Laser- und Plasmatechnik GmbH: Darmstadt, Germany, 1999.
52. Mazouffre, S. Ph.D. Thesis, Eindhoven University of Technology, Eindhoven, The Netherlands, 2001. http://alexandria.tue.nl/extra2/200142219.pdf.
53. Green, R. M.; Miller, J. A. J. Quant. Spectrosc. Radiat. Transfer 1981, 26, 313.
54. Herzberg, G. Molecular Spectra and Molecular Structure; Van Nostrand: New York, 1964; Vol. 2.
55. Brazier, C. R.; Ram, R. S.; Bernath, P. F. J. Mol. Spectrosc. 1986, 120, 381.
56. Lents, J. M. J. Quant. Spectrosc. Radiat. Transfer 1973, 13, 297.
57. Herzberg, G. Molecular Spectra and Molecular Structure; Van Nostrand: New York, 1964; Vol. 1.
58. Schadee, A. Astron. Astrophys. 1975, 41, 213.
59. Seong, J.; Park, J. K.; Sun, H. Chem. Phys. Lett. 1994, 228, 443.
60. Van, der Mullen, J. A. M. Phys. Rep. 1990, 191, 110.
61. Cernogora, G.; Ferreira, C. M.; Hochard, L.; Touzeau, M.; Loureiro, J. J. Phys. B: At., Mol. Opt. Phys. 1984, 17, 4429.
62. Brussaard, G. J. H.; Aldea, E.; van de Sanden, M. C. M.; Dinescu, G.; Schram, D. C. Chem. Phys. Lett. 1998, 290, 379.
63. Ko, T.; Marshall, P.; Fontijn, A. J. Phys. Chem. 1990, 94, 1401.
64. Weber, M. E.; Armentrout, P. B. J. Chem. Phys. 1989, 90, 2213.
65. Armentrout, P. B. J. Anal. At. Spectrom. 2004, 19, 571.
66. Capitelli, M.; Ferreira, C. M.; Gordiets, B. F.; Osipov, A. I. Plasma Kinetics in Atmospheric Gases; Springer: Berlin, 2000
67. Vankan, P.; Schram, D. C.; Engeln, R. Chem. Phys. Lett. 2004, 400, 196.
68. Jackson, B.; Pearson, M. J. Chem. Phys. 1992, 96, 2378.
69. Rettner, C. T. Phys. Rev. Lett. 1992, 69, 383.
70. Mannella, G. G. Chem. Rev. 1963, 63, 1.
71. Sarrette, J.-P.; Rouffet, B.; Ricard, A. Plasma Processes Polym. 2006, 3, 120.
72. Geppert, W. D.; Thomas, R.; Semaniak, J.; Ehlerding, A.; Millar, T. J.; Österdahl, F.; Ugglas, M. A.; Djuric, N.; Paál, A.; Larsson, M. Astrophys. J. 2004, 609, 459.