Long-range substrate effects on the stability and reactivity of thiolated self-assembled monolayers

Journal of Physical Chemistry C

Volumn 111, Issue 44, 2007, Pages 16313-16318

  Aqua, Tali ^a   Cohen, Hagai ^a   Vilan, Ayelet ^a   Naaman, Ron ^a  

^a WEIZMANN INSTITUTE OF SCIENCE   (Israel)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ADSORPTION; CHARGE DISTRIBUTION; INTERFACES (MATERIALS); OXIDATION; SEMICONDUCTING GALLIUM ARSENIDE; SUBSTRATES; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY;

CONTACT POTENTIAL DIFFERENCE (CPD); MOLECULE-SUBSTRATE INTERFACE; MONOTHIOL LAYERS;

SELF ASSEMBLED MONOLAYERS;

EID: 36348985997     PISSN: 19327447     EISSN: 19327455     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp071606d     Document Type: Article

References (53)

1. Chechik, V.; Stirling, C. J. M. Langmuir 1998, 74, 99-105.
2. Paz, Y.; Trakhtenberg, S.; Naaman, R. J. Phys. Chem. 1992, 96, 10964-10967.
3. Ma, P. F.; Dube, A.; Killampalli, A. S.; Engstrom, J. R. J. Chem. Phys. 2006, 125, 034706/1-034706/12.
4. Ulman, A. An Introduction to Ultrathin Organic films: From Langmuir-Blodgett to Self-Assembly; Academic Press: New York, 1991; pp 292-293.
5. Biliæe, A.; Reimers, J. R.; Hush, N. S. J. Chem. Phys. 2005, 122, 094708/1-094708/15.
6. Willey, T. M.; Vance, A. L.; van Buuren, T.; Bostedt, C.; Terminello, L. J.; Fadley, C. S. Surf. Sci. 2005, 576, 188-196.
7. McCarley, R. L.; Dunaway, D. J.; Willicut, R. J. Langmuir 1993, 9, 2775-2777.
8. Sandroff, C. J.; Nottenburg, R. N.; Bischoff, J. C.; Bhat, R. Appl. Phys. Lett. 1987, 51, 33-35.
9. Yablonovitch, E.; Sandroff, C. J.; Bhat, R.; Gmitter, T. Appl. Phys. Lett. 1987, 51, 439-441.
10. Farrow, L. A.; Sandroff, C. J.; Tamargo, M. C. Appl. Phys. Lett. 1987, 51, 1931-1933.
11. Shin, J.; Geib, K. M.; Wilmsen, C. W.; Lilliental-Weber, Z. J. Vac. Sci. Technol., A 1990, 8, 1894-1898.
12. Bessolov, V. N.; Lebedev, M. V.; Binh, N. M.; Friedrich, M.; Zahn, D. R. T. Semicond. Sci. Technol. 1998, 13, 611-614.
13. Green, A. M.; Spicer, W. E. J. Vac. Sci. Technol., A 1993, 11, 1061-1069.
14. Dorsten, J. F.; Maslar, J. E.; Bohn, P. W. Appl. Phys. Lett. 1995, 66, 1755-1757.
15. Lunt, S. R.; Ryba, G. N.; Santangelo, P. G.; Lewis, N. S. J. Appl. Phys. 1991, 70, 7449-7467.
16. Sheen, C. W.; Shi, J. X.; Martensson, J.; Parikh, A. N.; Allara, D. L. J. Am. Chem. Soc. 1992, 114, 1514-1515.
17. Ye, S.; Li, G. F.; Noda, H.; Uosaki, K.; Osawa, M. Surf. Sci. 2003, 529, 163-170.
18. Shaporenko, A.; Adlkofer, K.; Johansson, L. S. O.; Ulman, A.; Grunze, M.; Tanaka, M.; Zharnikov, M. J. Phys. Chem. B 2004, 108, 17964-17972.
19. Cho, Y.; Ivanisevic, A. J. Phys. Chem. B 2005, 109, 12731-12737.
20. McGuiness, C. L.; Shaporenko, A.; Mars, C. K.; Uppili, S.; Zharnikov, M.; Allara, D. L. J. Am. Chem. Soc. 2006, 128, 5231-5243.
21. Wieliczka, D. M.; Ding, X.; Dubowski, J. J. J. Vac. Sci. Technol., A 2006, 24, 1756-1759.
22. Ding, X.; Moumanis, K.; Dubowski, J. J.; Tay, L.; Rowell, N. L. J. Appl. Phys. 2006, 99, 054701/1-054701/6.
23. Jun, Y.; Zhu, X. Y.; Hsu, J. W. P. Langmuir 2006, 22, 3627-3632.
24. Nesher, G.; Vilan, A.; Cohen, H.; Cahen, D.; Amy, F.; Chan, C.; Hwang, J.; Kahn, A. J. Phys. Chem. B 2006, 110, 14363-14371.
25. Yang, G. H.; Zhang, Y.; Kang, E. T.; Neoh, K. G.; Huang, W.; Teng, J. H. J. Phys. Chem. B 2003, 107, 8592-8598.
26. Donev, S.; Brack, N.; Paris, N. J.; Pigram, P. J.; Singh, N. K.; Usher, B. F. Langmuir 2005, 21, 1866-1874.
27. Adlkofer, K.; Shaporenko, A.; Zharnikov, M.; Grunze, M.; Ulman, A.; Tanaka, M. J. Phys. Chem. B 2003, 107, 11737-11741.
28. Tour, J. M.; Jones, L.; Pearson, D. L.; Lamba, J. J. S.; Burgin, T. P.; Whitesides, G. M.; Allara, D. L.; Parikh, A. N.; Atre, S. V. J. Am. Chem. Soc. 1995, 117, 9529-9534.
29. Lee, T.; Liu, J.; Janes, D. B.; Kolagunta, V. R.; Dicke, J.; Andres, R. P.; Lauterbach, J.; Melloch, M. R.; Mclnturff, D.; Woodall, J. M.; Reifenberger, R. Appl. Phys. Lett. 1999, 74, 2869-2871.
30. Lodha, S.; Janes, D. B. Appl. Phys. Lett. 2004, 85, 2809-2811.
31. Cui, X. D.; Primak, A.; Zarate, X.; Tomfohr, J.; Sankey, O. F.; Moore, A. L.; Moore, T. A.; Gust, D.; Harris, G.; Lindsay, S. M. Science 2001, 294, 571-574.
32. Brust, M.; Blass, P. M.; Bard, A. J. Langmuir 1997, 13, 5602-5607.
33. Lioubashevski, O.; Chegel, V. I.; Patolsky, F.; Katz, E.; Willner, I. J. Am. Chem. Soc. 2004, 126, 7133-7143.
34. Loo, Y. L.; Hsu, J. W. P.; Willett, R. L.; Baldwin, K. W.; West, K. W.; Rogers, J. A. J. Vac. Sci. Technol., B 2002, 20, 2853-2856.
35. Wang, R. Y.; Segalman, R. A.; Majumdar, A. Appl. Phys. Lett. 2006, 89, 173113/1-173113/3.
36. Kohli, P.; Taylor, K. K.; Harris, J. J.; Blanchard, G. J. J. Am. Chem. Soc. 1998, 120, 11962-11968.
37. Meshulam, G.; Rosenberg, N.; Caster, A.; Burstein, L.; Gozin, M.; Richter, S. Small 2005, 1, 848-851.
38. Duwez, A. S.; Di Paolo, S.; Ghijsen, J.; Riga, J.; Deleuze, M.; Delhalle, J. J. Phys. Chem. B 1997, 101, 884-890.
39. Leung, T. Y. B.; Gerstenberg, M. C.; Lavrich, D. J.; Scoles, G.; Schreiber, F.; Poirier, G. E. Langmuir 2000, 16, 549-561.
40. Graf, D.; Grundner, M.; Lüdecke, D.; Schulz, R. J. Vac. Sci. Technol., A 1990, 8, 1955-1960.
41. Ron, H.; Matlis, S.; Rubinstein, I. Langmuir 1998, 14, 1116-1121.
42. Briggs, D.; Seah, M. P. Practical Surface Analysis, 2nd ed.; Wiley: New York, 1990; Vol. 1.
43. Vilan, A.; Ghabboun, J.; Cahen, D. J. Phys. Chem. B 2003, 107, 6360-3676.
44. Cohen, R.; Kronik, L.; Shanzer, A.; Cahen, D.; Liu, A.; Rosenwaks, Y.; Lorenz, J. K.; Ellis, A. B. J. Am. Chem. Soc. 1999, 121, 10545-10553.
45. The lower kinetic energy of the 2p lines considerably increases their surface sensitivity as compared to the 3d lines, making them more suitable for qualitative and quantitative analyses, respectively.
46. Laibinis, P. E.; Whitesides, G. M.; Allara, D. L.; Tao, Y. T.; Parikh, A. N.; Nuzzo, R. G. J. Am. Chem. Soc. 1991, 113, 7152-7167.
47. Heister, K.; Zharnikov, M.; Grunze, M.; Johansson, L. S. O. J. Phys. Chem. B 2001, 105, 4058-4061.
48. This spectrum was taken with a detection pass energy of 80 eV.
49. Voznyy, O.; Dubowski, J. J. J. Phys. Chem. B 2006, 110, 23619-23622.
50. Lvov, V. S.; Naaman, R.; Vager, Z.; Tiberkevich, V. Chem. Phys. Lett. 2003, 381, 650-653.
51. Naaman, R.; Vager, Z. Phys. Chem. Chem. Phys. 2006, 8, 2217-2224.
52. Nuzzo, R. G.; Dubois, L. H.; Allara, D. L. J. Am. Chem. Soc. 1990, 112, 558-569.
53. Ray, S. G.; Cohen, H.; Naaman, R.; Liu, H.; Waldeck, D. H. J. Phys. Chem. B 2005, 109, 14064-14073.