Epitaxial growth of large pentacene crystals on Si(001) surfaces functionalized with molecular monolayers

Journal of Physical Chemistry C

Volumn 111, Issue 44, 2007, Pages 16489-16497

  Weidkamp, Kevin P ^a   Tromp, Rudolf M ^b   Hamers, Robert J ^a  

^a UNIVERSITY OF WISCONSIN MADISON   (United States)

^b IBM T J WATSON RESEARCH CENTER   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

MOLECULAR MONOLAYERS; PENTACENE CRYSTALS; PHOTOEMISSION ELECTRON MICROSCOPY (PEEM);

EPITAXIAL GROWTH; MOLECULAR STRUCTURE; NUCLEATION; SURFACE STRUCTURE;

CRYSTAL STRUCTURE;

EID: 36348945092     PISSN: 19327447     EISSN: 19327455     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp074560x     Document Type: Article

References (53)

1. Shaw, J. M.; Seidler, P. F. IBM J. Res. Dev. 2001, 45, 3.
2. Tsutsui, T.; Fujita, K. Adv. Mater. 2002, 14, 949.
3. Dimitrakopoulos, C. D.; Malenfant, P. R. L. Adv. Mater. 2002, 14, 99.
4. Jurchescu, O. D.; Baas, J.; Palstra, T. T. M. Appl. Phys. Lett. 2004, 84, 3061.
5. Sekitani, T.; Iba, S.; Kato, Y.; Someya, T. Appl. Phys. Lett. 2004, 85 3902
6. Kang, S. J.; Noh, M.; Park, D. S.; Kim, H. J.; Whang, C. N.; Chang, C. H. J. Appl. Phys. 2004, 95, 2293.
7. Meyer zu Heringdorf, F.-J.; Reuter, M. C.; Tromp, R. M. Nature (London, U.K.) 2001, 412, 517.
8. Swiggers, M. L.; Xia, G.; Slinker, J. D.; Gorodetsky, A. A.; Malliaras, G. G.; Headrick, R. L.; Weslowski, B. T.; Shashidhar, R. N.; Dulcey, C. S. Appl. Phys. Lett. 2001, 79, 1300.
9. Schroeder, P. G.; France, C. B.; Park, J. B.; Parkinson, B. A. J. Appl. Phys. 2002, 91, 3010.
10. Klauk, H.; Halik, M.; Zschieschang, U.; Eder, F.; Schmid, G.; Dehm, C. Appl. Phys. Lett. 2003, 82, 4175.
11. Knipp, D.; Street, R. A.; Volkel, A.; Ho, J. J. Appl. Phys. 2003, 93, 347.
12. Ruiz, R.; Nickel, B.; Koch, N.; Feldman, L. C.; Haglund, R. F.; Kahn, A.; Scoles, G. Phys. Rev. B 2003, 67, 125406.
13. Weidkamp, K. P.; Hacker, C. A.; Schwartz, M. P.; Cao, X. P.; Tromp, R. M.; Hamers, R. J. J. Phys. Chem. B 2003, 107, 11142.
14. Beernink, G.; Strunskus, T.; Witte, G.; Woll, C. Appl. Phys. Lett. 2004, 85, 398.
15. Lukas, S.; Sohnchen, S.; Witte, G.; Woll, C. ChemPhysChem 2004, 5, 266.
16. Mayer, A. C.; Ruiz, R.; Headrick, R. L.; Kazimirov, A.; Malliaras, G. G. Org. Electron. 2004, 5, 257.
17. Meyer zu Heringdorf, F.-J.; Reuter, M. C.; Tromp, R. M. Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 2004, 78, 787.
18. Schwieger, T.; Liu, X.; Olligs, D.; Knupfer, M.; Schmidt, T. J. Appl. Phys. 2004, 96, 5596.
19. Sohnchen, S.; Lukas, S.; Witte, G. J. Chem. Phys. 2004, 121, 525.
20. Wang, Y. L.; Ji, W.; Shi, D. X.; Du, S. X.; Seidel, C.; Ma, Y. G.; Gao, H. J.; Chi, L. F.; Fuchs, H. Phys. Rev. B 2004, 69, 75408.
21. Ozaki, H. J. Chem. Phys. 2000, 113, 6361.
22. Hughes, G.; Roche, J.; Carty, D.; Cafolla, T.; Smith, K. E. J. Vac. Sci. Technol., B: Microelectron. Nanometer Struct.-Process., Meas., Phenom. 2002, 20, 1620.
23. Tejima, M.; Kita, K.; Kyuno, K.; Toriumi, A. Appl. Phys. Lett. 2004, 85, 3746.
24. Dimitrakopoulos, C. D.; Brown, A. R.; Pomp, A. J. Appl. Phys. 1996, 80, 2501.
25. Klauk, H.; Halik, M.; Zschieschang, U.; Schmid, G.; Radlik, W.; Weber, W. J. Appl. Phys. 2002, 92, 5259.
26. Wakatsuchi, M.; Kato, H. S.; Fujisawa, H.; Kawai, M. J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom. 2004, 137-140, 217.
27. Sadowski, J. T.; Sazaki, G.; Nishikata, S.; Al-Mahboob, A.; Fujikawa, Y.; Nakajima, K.; Tromp, R. M.; Sakurai, T. Phys. Rev. Lett. 2007, 98.
28. Hamers, R. J.; Coulter, S. K.; Ellison, M. D.; Hovis, J. S.; Padowitz, D. F.; Schwartz, M. P.; Greenlief, C. M.; Russell, J. N., Jr. Acc. Chem. Res. 2000, 33, 617.
29. Bent, S. F. Surf. Sci. 2002, 500, 879.
30. Appelbaum, J. A.; Baraff, G. A.; Hamann, D. R. Phys. Rev. B 1976, 14, 588.
31. Chadi, D. J. J. Vac. Sci. Technol. 1979, 16, 1290.
32. Tromp, R. M.; Hamers, R. J.; Demuth, J. E. Phys. Rev. Lett. 1985, 55, 1303.
33. Hamers, R. J.; Hovis, J.; Lee, S.; Liu, H.; Shan, J. J. Phys. Chem. B 1997, 101, 1489.
34. Hovis, J. S.; Hamers, R. J. J. Phys. Chem. B 1997, 101, 9581.
35. Hovis, J. S.; Liu, H.; Hamers, R. J, Surf. Sci. 1998, 402-404, 1.
36. Schwartz, M. P.; Ellison, M. D.; Coulter, S. K.; Hovis, J. S.; Hamers, R. J. J. Am. Chem. Soc. 2000, 122, 8529.
37. Tromp, R. M.; Mankos, M.; Reuter, M. C.; Ellis, A. W.; Copel, M. Surf. Rev. Lett. 1998, 5, 1189.
38. Henzler, M.; Clabes, J. Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 1974, 2, 389.
39. Alerhand, O. L.; Berker, A. N.; Joannopoulos, J. D.; Vanderbilt, D.; Hamers, R. J.; Demuth, J. E. Phys. Rev. Lett. 1990, 64, 2406.
40. Minakata, T.; Imai, H.; Ozaki, M.; Saco, K. J. Appl. Phys. 1992, 72, 5220.
41. Hovis, J. S.; Lee, S.; Liu, H. B.; Hamers, R. J. J. Vac. Sci. Technol., B: Microelectron. Nanometer Struct.-Process., Meas., Phenom. 1997, 15, 1153.
42. Jolly, F.; Bournel, F.; Rochet, F.; Dufour, G.; Sirotti, F.; Taleb, A. Phys. Rev. B 1999, 60, 2930.
43. Bent, S. F. J. Phys. Chem. B 2002, 106, 2830.
44. Lee, M. V.; Guo, D. W.; Linford, M. R.; Zuilhof, H. Langmuir 2004, 20, 9108.
45. Uhrberg, R. I. G.; Hansson, G. V.; Nicholls, J. M.; Flodström, S. A. Phys. Rev. B 1981, 24, 4684.
46. Clark, P. A.; Brogli, F.; Heilbronner, E. Helv. Chim. Acta 1972, 55, 1415.
47. Boschi, R.; Murrell, J. N.; Schmidt, W. Discuss. Faraday Soc. 1972, 54, 116.
48. Hamers, R. J.; Tromp, R. M.; Demuth, J. E. Phys. Rev. B 1986, 34, 5343.
49. Witten, T. A.; Sander, L. M. Phys. Rev. Lett. 1981, 47, 1400.
50. Zhang, Z. Y.; Chen, X.; Lagally, M. G. Phys. Rev. Lett. 1994, 73, 1829.
51. Zhang, Z. Y.; Lagally, M. G. Science 1997, 276, 377.
52. Ruiz, R.; Choudhary, D.; Nickel, B.; Toccoli, T.; Chang, K. C.; Mayer, A. C.; Clancy, P.; Blakely, J. M.; Headrick, R. L.; Iannotta, S.; Malliaras, G. G. Chem. Mater. 2004, 16, 4497.
53. Ruiz, R.; Nickel, B.; Koch, N.; Feldman, L. C.; Haglund, R. F.; Kahn, A.; Family, F.; Scoles, G. Phys. Rev. Lett. 2003, 91.