X-ray absorption studies on cubic boron nitride thin films

Journal of Applied Physics

Volumn 101, Issue 1, 2007, Pages

  Zhou, X T ^a   Sham, T K ^a   Zhang, W J ^b   Chan, C Y ^d   Bello, I ^d   Lee, S T ^d   Hofsass H ^c  

^a UNIVERSITY OF WESTERN ONTARIO   (Canada)

^b CITY UNIVERSITY OF HONG KONG   (Hong Kong)

^c UNIVERSITY OF GÖTTINGEN   (Germany)

^d NONE

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; CUBIC BORON NITRIDE; ELECTRONIC STRUCTURE; FLUORESCENCE; PHYSICAL VAPOR DEPOSITION; SYNTHESIS (CHEMICAL);

CRYSTALLINITY; FILM STRUCTURE; FLUORESCENCE YIELD MODES; X RAY ABSORPTION;

THIN FILMS;

EID: 33846292577     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.2405717     Document Type: Article

References (48)

1. S. N. Mohammad, Solid-State Electron. 46, 203 (2002).
2. O. Mishima, J. Tanaka, S. Yamaoka, and O. Fukunaga, Science 238, 181 (1987).
3. R. Kalish, Carbon 37, 781 (1999).
4. W. J. Zhang, I. Bello, Y. Lifshitz, and S. T. Lee, MRS Bull. 28, 184 (2003) and references therein.
5. X. W. Zhang, H. G. Boyen, N. Deyneka, P. Ziemann, F. Banhart, and M. Schreck, Nat. Mater. 2, 312 (2003).
6. W. J. Zhang, I. Bello, Y. Lifshitz, K. M. Chan, X. M. Meng, Y. Wu, C. Y. Chan, and S. T. Lee, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.) 16, 1405 (2004).
7. P. B. Mirkarimi, K. F. McCarty, and D. L. Medlin, Mater. Sci. Eng., R. 21, 47 (1997) and references therein.
8. C. S. Bamantaray and R. N. Singh, Int. Mater. Rev. 50, 313 (2005) and references therein.
9. X. T. Zhou, et al., J. Mater. Res. 21, 147 (2006).
10. I. Jimenez, et al., Phys. Rev. B 55, 12025 (1997).
11. J. Stöhr, NEXAFS Spectroscopy (Springer, New York, 1992).
12. R. A. Rosenberg, P. J. Love, and V. Rehn, Phys. Rev. B 33, 4034 (1986).
13. T. K. Sham and R. G. Carr, J. Chem. Phys. 84, 4091 (1986).
14. B. L. Henke, E. M. Gullikson, and J. C. Davis, At. Data Nucl. Data Tables 54, 181 (1993).
15. A. Chaiken, L. J. Terminello, J. Wong, G. L. Doll, and C. A. Taylor, Appl. Phys. Lett. 63, 2112 (1993).
16. L. J. Terminello, A. Chaiken, D. A. Lapiano-Smith, G. L. Doll, and Sato, J. Vac. Sci. Technol. A 12, 2462 (1994).
17. D. G. J. Sutherland, et al., J. Appl. Phys. 78, 6761 (1995).
18. I. Jimenez, et al., Appl. Phys. Lett. 68, 2816 (1996).
19. D. H. Berns, M. A. Cappelli, and D. K. Shuh, Diamond Relat. Mater. 6, 1883 (1997).
20. P. Widmayer, H. G. Boyen, P. Ziemann, P. Reinke, and P. Oelhafen, Phys. Rev. B 60, 4944 (1999).
21. I. Tanaka, H. Araki, M. Yoshiya, T. Mizoguchi, K. Ogasawara, and H. Adachi, Phys. Rev. B 59, 5233 (1999).
22. R. Gago, I. Jimenez, T. Sajavaara, E. Rauhala, and J. M. Albella, Diamond Relat. Mater. 10, 1165 (2001).
23. I. Shimoyama, Y. Baba, T. Sekiguchi, and K. G. Nath, J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom. 137-140, 573 (2004).
24. J. B. MacNaughton, et al., Phys. Rev. B 72, 195113 (2005).
25. T. Ikeda, Y. Kawate, and Y. Hirai, J. Vac. Sci. Technol. A 8, 3168 (1990).
26. C. Y. Chan, S. Eyhuson, X. M. Meng, I. Bello, S. T. Lee, C. Ronning, and H. Hofsäss, Diamond Relat. Mater. 15, 55 (2006).
27. X. T. Zhou, et al., J. Appl. Phys. 100, 014909 (2006).
28. H. Hofsäss, C. Ronning, U. Griesmeier, M. Gross, S. Reinke, M. Kuhr, J. Zweck, and R. Fischer, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B 106, 153 (1995).
29. Q. Li, L. D. Marks, Y. Lifshitz, S. T. Lee, and I. Bello, Phys. Rev. B 65, 45415 (2002).
30. W. J. Zhang, C. Y. Chan, K. M. Chan, I. Bello, Y. Lifshitz, and S. T. Lee, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 76, 953 (2003).
31. G. D. Meitzner and D. A. Fischer, Microchem. J. 71, 281 (2002).
32. L. Tröger, D. Arvanitis, K. Baberschke, H. Michaelis, U. Grimm, and E. Zschech, Phys. Rev. B 46, 3283 (1992).
33. C. Bostedt, T. van Buuren, T. M. Willey, N. Franco, L. J. Terminello, C. Heske, and T. Möller, Appl. Phys. Lett. 84, 4056 (2004).
34. T. van Buuren, L. N. Dinh, L. L. Chase, W. J. Siekhaus, and L. J. Terminello, Phys. Rev. Lett. 80, 3803 (1998).
35. J. Y. Raty, G. Galli, C. Bostedt, T. W. van Buuren, and L. J. Terminello, Phys. Rev. Lett. 90, 037401 (2003).
36. H. Hofsäss, H. Feldermann, M. Sebastain, and C. Ronning, Phys. Rev. B 55, 13230 (1997).
37. S. Weissmantel and G. Reisse, Thin Solid Films 356, 256 (1999).
38. H. S. Yang, C. Iwamoto, and T. Yoshida, J. Appl. Phys. 94, 1248 (2003).
39. A. Klett, R. Freudenstein, W. Kulisch, M. Ye, and M. P. Delplancke-Ogletree, Thin Solid Films 398-399, 279 (2001).
40. A. Klett, R. Freudenstein, M. F. Plass, and W. Kulisch, Diamond Relat. Mater. 10, 1875 (2001).
41. H. C. Choi, S. Y. Bae, W. S. Jang, J. Park, H. J. Song, and H. J. Shin, J. Phys. Chem. B 109, 7007 (2005).
42. T. Hemraj-Benny, S. Banerjee, S. Sambasivan, D. A. Fischer, W. Han, J. A. Misewich, and S. S. Wong, Phys. Chem. Chem. Phys. 7, 1103 (2005).
43. P. Zhang and T. K. Sham, Phys. Rev. Lett. 90, 245502 (2003).
44. J. Pascallon, V. Stambouli, S. Ilias, D. Bouchier, G. Nouet, F. Silva, and A. Gicquel, Mater. Sci. Eng., B 59, 239 (1999).
45. C. C. Tang, Y. Bando, Y. Huang, S. L. Yue, C. Z. Gu, F. F. Xu, and D. Golberg, J. Am. Chem. Soc. 127, 6552 (2005).
46. K. S. Park, D. Y. Lee, K. J. Kim, and D. W. Moon, Appl. Phys. Lett. 70, 315 (1997).
47. T. A. Friedmann, et al., J. Appl. Phys. 76, 3088 (1994).
48. X. M. Meng, W. J. Zhang, C. Y. Chan, C. S. Lee, I. Bello, and S. T. Lee, Appl. Phys. Lett. 88, 031904 (2006).