Surface treatments of indium-tin oxide substrates for polymer electroluminescent devices

Physica Status Solidi (A) Applications and Materials Science

Volumn 203, Issue 15, 2006, Pages 3882-3892

  Zhong, Z Y ^a   Jiang, Y D ^b  

^a SOUTH CENTRAL UNIVERSITY FOR NATIONALITIES   (China)

^b UNIVERSITY OF ELECTRONIC SCIENCE AND TECHNOLOGY OF CHINA   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

HOLE INJECTING ELECTRODES; INDIUM TIN OXIDE (ITO); POLYMER ELECTROLUMINESCENT DEVICES; SHEET RESISTANCE;

ATOMIC FORCE MICROSCOPY; CONTACT ANGLE; INTERFACIAL ENERGY; LUMINESCENT DEVICES; SURFACE ROUGHNESS; SURFACE TREATMENT; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY;

INDIUM COMPOUNDS;

EID: 33845915234     PISSN: 18626300     EISSN: 18626319     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/pssa.200622047     Document Type: Article

References (49)

1. J. H. Burroughes, D. D. C. Bradley, A. R. Brown, R. N. Marks, K. Mackay, R. H. Friend, P. L. Burns, and A. B. Holmes, Nature 347, 539 (1990).
2. M. Berggern, O. Inganas, G. Guslafsson, J. Ramusson, M. R. Anderson, T. Hjertberg, and O. Wennerstrom, Nature 372, 444 (1994).
3. R. H. Friend, R. W. Gymer, A. B. Holmes, J. H. Burroughes, R. N. Marks, C. Taliani, D. D. C. Bradley, D. A. Dos Santos, J. L. Bredas, M. Logdlund, and W. R. Salaneck, Nature 397, 121 (1999).
4. C. W. Tang and S. A. Van Slyke, Appl. Phys. Lett. 51, 913 (1987).
5. V. R. Nikitenko, V. I. Arkhipov, Y.-H. Tak, J. Pommerehne, H. Bässler, and H.-H. Hörhold, J. Appl. Phys. 81, 7514 (1997).
6. J. Pommerehne, D. V. Nikolaenkov, V. R. Nikitenko, and H. Bässler, J. Appl. Phys. 90, 5554 (2001).
7. L. S. Hung and S. T. Lee, Mater. Sci. Eng. B 85, 104 (2001).
8. T. Dobbertin, E. Becker, T. Benstem, G. Ginev, D. Heithecker, H.-H. Johannes, D. Metzdorf, H. Neuner, R. Parashkov, and W. Kowalsky, Thin Solid Films 442, 132 (2003).
9. F. L. Wong, M. K. Fung, S. W. Tong, C. S. Lee, and S. T. Lee, Thin Solid Films 466, 225 (2004).
10. C. C. Wu, C. I. Wu, J. C. Sturm, and A. Kahn, Appl. Phys. Lett. 70, 1348 (1997).
11. J. S. Kim, M. Grandström, R. H. Friend, N. Johansson, W. R. Salaeck, R. Daik, W. J. Feast, and F. Cacialli, J. Appl. Phys. 84, 6859 (1998).
12. J. S. Kim, F. Cacialli, A. Cola, G. Gigli, and R. Cingolani, Appl. Phys. Lett. 75, 19 (1999).
13. H. Y. Yu, X. D. Feng, D. Grozea, Z. H. Lu, R. N. S. Sodhi, A.-M. Hor, and H. Aziz, Appl. Phys. Lett. 78, 2595 (2001).
14. F. Steuber, J. Staudigel, M. Stössel, J. Simmerer, and A. Winnacker, Appl. Phys. Lett. 74, 3558 (1999).
15. H.-T. Lu and M. Yokoyama, J. Cryst. Growth 260, 186 (2004).
16. W. Song, S. K. So, and L. Cao, Appl. Phys. A 72, 361 (2001).
17. Z. Z. You and J. Y. Dong, Appl. Surf. Sci. 249, 271 (2005).
18. I.-M. Chan, W. C. Cheng, and F. C. Hong, Appl. Phys. Lett. 80, 13 (2002).
19. B. Choi, H. Yoon, and H. H. Lee, Appl. Phys. Lett. 76, 412 (2000).
20. I.-M. Chan and F. C.-N. Hong, Thin Solid Films 444, 254 (2003).
21. F. Nüesch, L. J. Rothberg, E. W. Forsythe, Q. T. Le, and Y. Gao, Appl. Phys. Lett. 74, 880 (1999).
22. Q.-T. Le, E. W. Forsythe, F. Nüesch, L. J. Rothberg, L. Yan, and Y. Gao, Thin Solid Films 363, 42 (2000).
23. T. P. Nguyen, P. Le Rendu, N. N. Dinh, M. Fourmigué, and C. Mézière, Synth. Met. 138, 229 (2003).
24. C. Suess, F. P. Wenzl, G. Jakopic, M. Wuchse, S. Muellegger, N. Koch, A. Haase, K. Lamprecht, M. Schatzmayr, C. Mitterbauer, F. Hofer, and G. Leising, Surf. Sci. 507-510, 473 (2002).
25. G. Wantz, L. Hirsch, N. Huby, L. Vignau, J. F. Silvain, A. S. Barriére, and J. P. Parneix, Thin Solid Films 485, 247 (2005).
26. J. A. Chaney, S. E. Koh, C. S. Dulcey, and P. E. Pehrsson, Appl. Surf. Sci. 218, 258 (2003).
27. S. F. J. Appleyard and M. R. Willis, Opt. Mater. 9, 120 (1998).
28. R. A. Hatton, S. R. Day, M. A. Chesters, and M. R. Willis, Thin Solid Films 394, 292 (2001).
29. R. Sfez, D. Z. Liu, I. Turyan, D. Mandeler, and S. Yitzchail, Langmuir 17, 2556 (2001).
30. S. Jung, N. G. Park, M. Y. Kwak, B. O. Kim, K. H. Choi, Y. J. Cho, Y. K. Kim, and Y. S. Kim, Opt. Mater. 21, 235 (2003).
31. T. Ishida, H. Kobayashi, and Y. Nakato, J. Appl. Phys. 73, 4344 (1993).
32. S. K. So, W. K. Choi, C. H. Cheng, L. M. Leung, and C. F. Kwong, Appl. Phys. A 68, 447 (1999).
33. K. Sugiyama, H. Ishii, Y. Ouchi, and K. Seki, Appl. Phys. Lett. 87, 295 (2000).
34. D. Briggs and M. P. Seah, Practical Surface Analysis by Auger and X-ray Photoelectron Spectroscopy (John Wiley & Sons Ltd., New York, 1983).
35. Y.-H. Tak, K.-B. Kim, H.-G. Park, K.-H. Lee, and J.-R. Lee, Thin Solid Films 411, 12 (2002).
36. S. Wu, Polymer Interface and Adhesion (Marcel Dekker, New York, 1982).
37. C. J. van Oss, R. J. Good, and M. K. Chaudhury, J. Colloid Interface Sci. 111, 378 (1986).
38. L. Chkoda, C. Heske, M. Sokolowski, E. Umbach, F. Steuber, J. Staudigel, M. Stößel, and J. Simmerer, Synth. Met. 111/112, 315 (2000).
39. M. G. Mason, L. S. Hung, C. W. Tang, S. T. Lee, K. W. Wong, and M. Wang, J. Appl. Phys. 86, 1688 (1999).
40. Y. Qiu, D. Q. Zhang, L. D. Wang, and G. S. Wu, Synth. Met. 125, 415 (2002).
41. M. Ishii, T. Mon, H. Fujikawa, S. Tokito, and Y. Taga, J. Lumin. 87-89, 1165 (2000).
42. J. S. Kim, P. K. H. Ho, D. S. Thomas, R. H. Friend, F. Cacialli, G. W. Bao, and S. F. Y. Li, Chem. Phys. Lett. 315, 307 (1999).
43. T. Osada, Th. Kugler, P. Bröms, and W. R. Salaneck, Synth. Met. 96, 77 (1998).
44. Y. Gassenbauer, and A. Klein, Solid State Ion. 173, 141 (2004).
45. M. K. Bernett and W. A. Zisman, J. Colloid Interface Sci. 29, 413 (1969).
46. J. C. Carter, I. Grizzi, S. K. Heeks, D. J. Lacey, S. G. Latham, P. G. May, O. Ruiz de los Paños, K. Pichler, C. R. Towns, and H. F. Wittmann, Appl. Phys. Lett. 71, 34 (1997).
47. S. A. Carter, M. Angelopoulos, S. Karg, P. J. Brock, and J. C. Scott, Appl. Phys. Lett. 70, 2067 (1997).
48. S. H. Kwon, S. Y. Paik, and J. S. Yoo, Synth. Met. 130, 55 (2002).
49. J. S. Kim, R. H. Friend, and F. Cacialli, Appl. Phys. Lett. 74, 3084 (1999).