Atomic layer deposition of La2O3 thin films by using an electron cyclotron resonance plasma source

Journal of the Korean Physical Society

Volumn 49, Issue 3, 2006, Pages 1303-1306

  Kim, Beom Yong ^a   Ko, Myoung Gyun ^a   Lee, Eun Joo ^a   Hong, Min Soo ^a   Jeon, You Jin ^a   Park, Jong Wan ^a  

^a Hanyang University   (South Korea)

Author keywords

ALD; ECR plasma; Lanthanum oxide

Indexed keywords

EID: 33749858611     PISSN: 03744884     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: None     Document Type: Article

References (16)

1. D. A. Muller, T. Sorsch, S. Moccio, F. H. Baumann, K. Evans-Lutterodt and G. Timp, Nature 399, 758 (1999).
2. P. A. Packan, Sience 285, 2079 (1999).
3. G. D. Wilk, R. M. Wallace and J. M. Anthony, J. Appl. Phys. 89, 5243 (2001).
4. T. M. Klein, D. Niu, W. S. Epling, W. Li, D. M. Maher, C. C. Hobbs, R. I. Hedge, I. J. R. Baumvol and G. N. Parsons, Appl. Phys. Lett. 75, 4001 (1999).
5. M. Copel, M. A. Gribelyuk and E. Gusev, Appl. Phys. Lett. 76, 436 (2000).
6. B. H. Lee, L. Kang, R. Nieh, W.-J. Qi and J. C. Lee, Appl. Phys. Lett. 76, 1926 (2000).
7. G. D. Wilk and R. M. Wallace, Appl. Phys. Lett. 74, 2854 (1999).
8. G. D. Wilk and R. M. Wallace, Appl. Phys. Lett. 76, 112 (2000).
9. J. Wu, M. Y. Yang, A. Chin, W. J. Chen and C. M. Kwei, IEEE Electron Dev. Lett. 21, 341 (2000).
10. J.-B. Chang, A.-D. Lia, Q.-Y. Shaoa, H.-Q. Ling, D. Wua, Y. Wanga, Y.-J. Baoa, M. Wanga, Z.-G. Liua and N.-B. Minga, Appl. Surf. Sci. 233, 91 (2004).
11. S. Choi, J. Koo, H. Jeon and Y. Kim, J. Korean Phys. Soc. 44, 35 (2004).
12. T. Suntola, Mater. Sci. Rep. 4, 261 (1989).
13. M. Ritala and M. Leskela, in Handbook of Thin Films Materials, edited by H. S. Nalwa (Academic Press, San Diego, CA, 2001), Vol. 1, p. 103.
14. S. K. Kim and C. S. Hwang, J. Appl. Phys. 96, 2323 (2004).
15. W. J. Lee, W. C. Shin, B. G. Chae, S. O. Ryu, I. K. You, S. M. Cho, B. G. Yu and B. C. Shin, Intergrated Ferroelectrics 46, 275 (2002).
16. J. Kim, D. Kim, H. Park and H. Jeon, J. Korean Phys. Soc. 45, 1639 (2004).