High-κ dielectric nanofilms fabricated from titania nanosheets

Advanced Materials

Volumn 18, Issue 8, 2006, Pages 1023-1027

  Osada, Minoru ^a   Ebina, Yasuo ^a   Funakubo, Hiroshi ^b   Yokoyama, Shintaro ^b   Kiguchi, Takanori ^b   Takada, Kazunori ^a   Sasaki, Takayoshi ^a,c  

^a NATIONAL INSTITUTE FOR MATERIALS SCIENCE   (Japan)

^b TOKYO INSTITUTE OF TECHNOLOGY   (Japan)

^c JAPAN SCIENCE AND TECHNOLOGY AGENCY   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CURRENT DENSITY; LEAKAGE CURRENTS; MULTILAYERS; SELF ASSEMBLY; THIN FILMS; TITANIUM DIOXIDE;

COUNTER POLYCATIONS; LAYER-BY-LAYER APPROACH; NANOELECTRONICS TECHNOLOGY; NANOSCALE DEVICES;

NANOSTRUCTURED MATERIALS;

EID: 33646552701     PISSN: 09359648     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/adma.200501224     Document Type: Article

References (31)

1. G. E. Moore, Electronics 1965, 38, 114.
2. a) A. I. Kingon, J.-P. Maria, S. K. Streiffer, Nature 2000, 406, 1032.
3. b) G. D. Wilk, R. M. Wallace, J. M. Anthony. J. Appl. Phys. 2001, 89, 5243.
4. M. Depas, R. L. Van Meirhaegue, W. H. Laflère, F. Cardon. Solid-State Electron. 1994, 37, 433.
5. a) T. Sasaki, M. Watanabe, H. Hashizume, H. Yamada, H. Nakazawa, J. Am. Chem. Soc. 1996, 118, 8329.
6. b) T. Sasaki. M. Watanabe, J. Am. Chem. Soc. 1998, 120, 4682.
7. c) T. Sasaki, M. Watanabe. J. Phys. Chem. B 1997, 101, 10159.
8. a) P. K. Roy, I. C. Kizilyalli, Appl. Phys. Lett. 1998, 72, 2835.
9. b) I. C. Kizilyalli, R. Y. S. Huang, P. K. Roy, IEEE Electron Device Lett. 1998, 19, 341.
10. a) M. Balog, M. Schieber, S. Patai, M. Michman, J. Cryst. Growth 1972, 17, 298.
11. b) M. Balog, M. Schieber, M. Michman, S. Patai, Thin Solid Films 1997, 41, 247.
12. c) H. Zhang, R. Solanki, B. Roberds, G. Bai, I. Banerjee, J. Appl. Phys. 2000, 87, 1921.
13. a) M. Kadoshima, M. Hiratani, Y. Shimamoto, K. Torii, H. Miki, S. Kimura, T. Nabatame, Thin Solid Films 2003, 424, 224.
14. b) S. K. Kim, W.-D. Kim, K.-M. Kim, C. S. Hwang, J. Jeong, Appl. Phys. Lett. 2004, 85, 4112.
15. a) C. S. Hwang, S. O. Park, H.-J. Cho, C. S. Kang, H. K. Kang, S. I. Lee, M. Y. Lee, Appl. Phys. Lett. 1995, 67, 2819.
16. b) C. Basceri, S. K. Streiffer, A. I. Kingon, R. Waser, J. Appl. Phys. 1997, 82, 2497.
17. c) S. K. Streiffer, C. Basceri, C. B. Parker, S. E. Lash, A. I. Kingon, J. Appl. Phys. 1999, 86, 4565.
18. d) M. C. Werner, I. Banerjee, P. C. McIntyre, N. Tani, M. Tanimura, Appl. Phys. Lett. 2000, 77, 1209.
19. e) C. S. Hwang, J. Appl. Phys. 2002, 92, 432 and references therein.
20. C. J. Forst, C. R. Ashman, K. Schwarz, P. E. Blochl, Nature 2004, 427, 53.
21. T. Sasaki, Y. Ehina, T. Tanaka, M. Harada, M. Watanahe, G. Decher, Chem. Mater. 2001, 13, 4661.
22. a) T. Tanaka, K. Fukuda, Y. Ebina, K. Takada, T. Sasaki, Adv. Mater. 2004, 16, 872.
23. b) T. Tanaka, Y. Ebina, K. Takada, K. Kurashina, T. Sasaki, Chem. Mater. 2003, 15, 3564.
24. T. Sasaki, Y. Ebina, K. Fukuda, T. Tanaka, M. Harada, M. Watanabe, Chem. Mater. 2002, 14, 3524.
25. U. Diebold, Surf. Sci. Rep. 2003, 48, 53.
26. H. Sato, K. Ono, T. Sasaki, A. Yamagishi, J. Phys. Chem. B 2003, 107, 9824.
27. a) A. Erbil, Y. Kim, R. A. Gerhardt, Phys. Rev. Lett. 1996, 77, 1628.
28. b) K. Kukli, J. Ihanus, M. Ritala, M. Leskela, Appl. Phys. Lett. 1996, 68, 373.
29. c) S. P. Li, J. A. Eastman, J. M. Vetrone, R. E. Newnham, L. E. Cross, Philos. Mag. B 1997, 76, 47.
30. d) J. Shen, Y. O. Ma, Phys. Rev. B: Condens. Matter Mater. Phys. 2000, 61, 14279.
31. e) A. L. Roytburd, S. Zhong, S. P. Alpay, Appl. Phys. Lett. 2005, 87, 092 902.