Self-assembly of a diblock copolymer on a patterned surface with low-energy electron beam

Langmuir

Volumn 22, Issue 9, 2006, Pages 4131-4135

  Kim, Chang Ok ^a   Kim, Duk Hoe ^a   Kim, Jung Sook ^a   Park, Joon Won ^a  

^a Pohang University of Science and Technology (POSTECH)   (South Korea)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ELECTRON BEAMS; HYDROLYSIS; MORPHOLOGY; POLYSTYRENES; SELF ASSEMBLY; THICKNESS MEASUREMENT; THIN FILMS; WETTING;

BENZALDIMINE MONOLAYERS; NONIRRADIATED REGIONS; PATTERNED SURFACES; TRIBROMOACETALDIMINE REGIONS;

BLOCK COPOLYMERS;

EID: 33646419813     PISSN: 07437463     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/la060138g     Document Type: Article

References (29)

1. Harrison, C.; Park, M.; Chaikin, P. M.; Register, R. A.; Adamson, D. H. J. Vac. Sci. Technol., B 1998, 16, 544.
2. Thum-Albrecht, T.; Schotter, J.; Kastle, G. A.; Emley, N.; Shibauchi, T.; Krusin-Elbaum, L.; Guarini, K.; Black, C. T.; Tuominen, M. T.; Russell, T. P. Science 2000, 290, 2126.
3. Cheng, J. Y.; Ross, C. A.; Thomas, E. L.; Smith, H. I.; Vancso, G. L. Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 3657.
4. Urbas, A. M.; Sharp, R.; Fink, Y.; Thomas, E. L.; Xenidou, M.; Fetters, L. J. Adv. Mater. 2000, 12, 812.
5. Bockstaller, M.; Kolb, R.; Thomas, E. L. Adv. Mater. 2001, 13, 1783.
6. Urbas, A. M.; Maldovan, M.; DeRege, P.; Thomas, E. L. Adv. Mater. 2002, 14, 1850.
7. Simon, P. F. W.; Ulrich, R.; Speiss, H. W.; Wiesner, U. Chem. Mater. 2001, 13, 3464.
8. Fogg, D. E.; Radzilowski, L. H.; Blanski, R.; Schrock, R. E.; Thomas, E. L.; Bowendi, M. G. Macromolecules 1997, 30, 417.
9. Heier, J.; Kramer, E. J.; Walheim, S.; Krausch, G. Macromolecules 1997, 30, 6610.
10. Heier, J.; Sivaniah, E.; Kramer, E. Macromolecules 1999, 32, 9007.
11. Yang, X. M.; Peters, R. D.; Nealey, P. F.; Solak, H. H.; Cerrina, F. Macromolucules 2000, 33, 9575.
12. Peters, R. D.; Yang, X. M.; Kim, T. K.; Sohn, B. H.; Nealey, P. F. Langmuir 2000, 16, 4625.
13. Lee, S.-H.; Kang, H.; Cho, J.; Kim, Y. S.; Char, K. Macromolucules 2001, 34, 8405.
14. Peters, R. D.; Yang, X. M.; Nealey, P. F. Macromolecules 2002, 35, 1822.
15. Thurn-Albercht, T.; Schotter, L.; Kastle, G. A.; Emley, N.; Shibauehi, T.; Krusin-Elbaum, L.; Guarini, K.; Black, C. T.; Tuominen, M. T.; Russell, T. P. Science 2000, 290, 2126.
16. Thum-Albrecht, T.; Steiner, R.; Derouchey, J.; Stafford, C. M.; Huang, E.; Bai, M.; Tuominen, M.; Hawker, C. J.; Russel, T. P. Adv. Mater. 2000, 12, 787.
17. Hashimoto, T.; Bodycomb, J.; Funaki, Y.; Kimishima, K. Macromolecules 1999, 32, 952.
18. Huang, E.; Rockford, L.; Russell, T. P.; Hawker, C. J. Nature 1998, 396, 757.
19. Sohn, B. H.; Yun, S. H. Polymer 2002, 43, 2507.
20. (a) Dressick, W. J.; Chen, M.-S.; Brandow, S. L. J. Am. Chem. Soc. 2000, 122, 982.
21. (b) Dressick, W. J.; Chen, M. S.; Brandow, S. L.; Rhee, K. W.; M., S. L.; Perkins, F. K. Appl. Phys. Lett. 2001, 676.
22. Wang, X.; Hu, W.; Ramasubramaniam, R.; Bernstein, G. H.; Snider, G.; Lieberman, M. Langmuir 2003, 19, 9748.
23. Heier, J.; Genzer, J.; Kramer, E. J.; Bates, F. S.; Walheim, S.; Krausen, G. J. Chem. Phys. 1999, 111, 111101.
24. Kim, S. O.; Solak, H. H.; Stoykovich, M. P.; Ferrier, N. J.; Pablo, J. J. d.; Nealey, P. F. Nature 2003, 424, 411.
25. La, Y.-H.; Kim, H. J.; Maeng, I. S.; Jung, Y. J.; Park, J. W. Langmuir 2002, 18, 301.
26. La, Y.-H.; Jung, Y. J.; Kim, H. J.; Kang, T.-H.; Ihm, K.; Kim, K.-J.; Kim, B.; Park, J. W. Langmuir 2003, 19, 4390.
27. Kim, C. O.; Jung, J. W.; Kim, M.; Kang,T.-H.; Ihm, K.; Kim, K.-J.; Kim, B.; Park, J. W.; Nam, H.-W.; Hwang, K.-J. Langmuir 2003, 19, 4504.
28. Jung, Y. J.; La, Y.-H.; Kim, H. J.; Kang, T.-H.; Ihm, K.; Kim, K.-J.; Kim, B.; Park, J. W. Langmuir 2003, 19, 4512.
29. Jung, Y. J.; Kim, J.-I.; Kang, T.-H.; Ihm, K.; Kim, K.-J.; Kim, B.; Park, J. W. J. Colloid Interface Sci. 2005, 282, 241.