Pattern registration between spherical block-copolymer domains and topographical templates

Advanced Materials

Volumn 18, Issue 5, 2006, Pages 597-601

  Cheng, Joy Y ^a   Zhang, Feng ^b   Smith, Henry I ^b   Vancso, G Julius ^c   Ross, Caroline A ^a  

^a Massachusetts Institute of Technology Cambridge   (United States)

^b USA   (United States)

^c UNIVERSITY OF TWENTE   (Netherlands)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

MAGNETIC PROPERTIES; POLYSILANES; POLYSTYRENES; SELF ASSEMBLY;

MAGNETIC MEDIA; PATTERN REGISTRATION; POLYMER DOMAINS; TEMPLATED SELF-ASSEMBLY (TSA);

BLOCK COPOLYMERS;

EID: 33644907476     PISSN: 09359648     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/adma.200501936     Document Type: Article

References (30)

1. C. A. Ross, Annu. Rev. Mater. Res. 2001, 31, 203.
2. M. Albrecht, C. T. Rettner, A. Moser, M. E. Best, B. D. Terris, Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 2875.
3. J. Mortiz, L. Buda, B. Dieny, J. P. Nozieres, R. J. M. Van de Veerdonk, T. M. Crawford, D. Weller, Appl. Phys. Lett. 2004, 84, 1519.
4. C. T. Black, Appl. Phys. Lett. 2005, 87, 163 116.
5. F. M. Ross, M. Kammler, M. C. Reuter, R. Hull, Philos. Mag. 2004, 84, 2687.
6. Y. N. Xia, Y. D. Yin, Y. Lu, J. McLellan, Adv. Funct. Mater. 2003, 13, 907.
7. R. Segalman, H. Yokoyama, E. J. Kramer, Adv. Mater. 2001, 13, 1152.
8. J. Y. Cheng, C. A. Ross, E. L. Thomas, H. I. Smith, G. J. Vancso, Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 3657.
9. J. Y. Cheng, C. A. Ross, E. L. Thomas, H. I. Smith, G. J. Vancso, Adv. Mater. 2003, 15, 1599.
10. S. O. Kim, H. H. Solak, M. P. Stoykovich, N. J. Ferrior, J. J. de Pablo, P. F. Nealey, Nature 2003, 424, 411.
11. M. P. Stoykovich, M. Muller, S. O. Kim, H. H. Solak, E. W. Edwards, J. J. de Pablo, P. F. Nealey, Science 2005, 308, 1443.
12. J. Y. Cheng, A. M. Mayes, C. A. Ross, Nat. Mater. 2004, 3, 823.
13. H. Li, W. T. S. Huck, Nano Lett. 2004, 4, 1633.
14. D. Sundrani, S. B. Darling, S. J. Sibener, Nano Lett. 2004, 4, 273.
15. D. Sundrani, S. B. Darling, S. J. Sibener, Langmuir 2004, 20, 5091.
16. X. Yang, S. Xiao, C. Liu, K. Pelhos, K. J. Minor. J. Vac. Sci. Technol. B 2004, 22, 3331.
17. A. Hexemer, G. E. Stein, E. J. Kramer, S. Magonov, Macromolecules 2005, 38, 7083.
18. R. A. Segalman, A. Hexemer, E. J. Kramer, Macromolecules 2003, 36, 6831.
19. R. A. Segalman, A. Hexemer, E. J. Kramer, Phys. Rev. Lett. 2003, 91, 196 101.
20. K. Naito, H. Hieda, M. Sakurai, Y. Kamata, K. Asakawa, IEEE Trans. Magn. 2002, 38, 1949.
21. M. Park, C. Harrison, P. M. Chaikin, R. A. Register, D. H. Adamson, Science 1997, 276, 1401.
22. T. Thurn-Albrecht, J. Schotter, G. A. Kastle, N. Emley, T. Shibauchi, L. Krusin-Elbaum, K. Guarini, C. T. Black, M. T. Tuominen, T. P. Russell, Science 2000, 290, 2126.
23. R. R. Li, P. D. Dapkus, M. E. Thompson, G. J. Weon, P. M. Chaikin, M. Park, R. A. Register, D. H. Adamson, Appl. Phys. Lett. 2000, 76, 1689.
24. J. Y. Cheng, C. A. Ross, Z.-H. V. Chan, E. L. Thomas, R. G. H. Lammertink, G. J. Vancso, Adv. Mater. 2001, 13, 1174.
25. K. W. Guarini, C. T. Black, Y. Xhang, I. V. Babich, E. M. Sikorski, L. M. Gignac, IEEE Electron. Device Lett. 2003, 541.
26. C. Park, J. Yoon, E. L. Thomas, Polymer 2003, 44, 6725.
27. R. G. H. Lammertink, M. A. Hempenius, E. L. Thomas, G. J. Vancso, J. Polym. Sci., Part B: Polym. Phys. 1999, 37, 1009.
28. K. W. Guarini, C. T. Black, S. H. I. Yeung, Adv. Mater. 2002, 14, 1290.
29. M. R. Hammond, S. W. Sides, G. H. Fredrickson, E. J. Kramer, J. Roukolainen, S. F. Hahn, Macromolecules 2003, 36, 8712.
30. S. M. Allen, E. L. Thomas, The Structure of Materials, Wiley, New York 1999.